plasma frequency probeとは 意味・読み方・使い方

A plasma measurement equipment consists of a probe loaded into the plasma which is an object to be measured, a high frequency power supply for impressing high frequency to the probe, a voltmeter which measures the voltage of the probe, an ammeter which measures the high frequency current which flows to a probe, and a data-processing device which presumes the plasma characteristic from the high frequency current voltage.例文帳に追加

被計測対象であるプラズマ中に装荷されたプローブ、このプローブに高周波を印加するための高周波電源、プローブの電圧を測定する電圧計、プローブに流れる高周波電流を測定する電流計、高周波電流電圧からプラズマ特性を推定するデータ処理機からなる。 - 特許庁

To detect directly, simply a state of plasma produced by applying a high frequency wave or a high voltage on a window type probe, a plasma monitoring apparatus, and a plasma treatment apparatus.例文帳に追加

窓型プローブ、プラズマ監視装置、及び、プラズマ処理装置に関し、高周波或いは高電圧の印加によって発生させたプラズマの状態を直接、簡便に検出する。 - 特許庁

To provide a plasma potential measuring probe which can evenly generate a local high frequency electric field around an ionic current detecting inner electrode.例文帳に追加

イオン電流検出用内部電極の周囲に均一で局所的な高周波電場が発生できるプラズマ電位測定用プローブを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma electron density measuring and monitoring device having a frequency probe in an antenna structure for analyzing plasma frequency based on an electron density as a transceiving structure of an electromagnetic wave to measure and monitor the electron density of the plasma.例文帳に追加

電子密度に基づいたプラズマの周波数を電磁波の送受信構造として分析し、プラズマの当該電子密度を測定およびモニタリングするアンテナ構造の周波数探針器を有する構造のプラズマ電子密度測定およびモニタリング装置を提供する。 - 特許庁

Since the antenna and the flat plate of a measurement probe 8 are covered directly by an enclosure made of conductive material, the antenna and the flat plate of the measurement probe 8 is capable of measuring a plasma absorption frequency in the low-frequency range of 10 MHz to 500 MHz.例文帳に追加

測定プローブ８のアンテナ及び平板は、誘電体製外皮によって直接に被覆されているので、電子密度が高密度でも、プラズマ吸収周波数を１０ＭＨｚから５００ＭＨｚまでの低周波領域で測定することができる。 - 特許庁

To provide a plasma potential measuring method, by which the influence of change in sheath capacitance Cs on measuring voltage is prevented, and the influence of electromagnetic waves is lessened, whereby the amplitude of variations of high-frequency plasma potential with time can be exactly measured, and a probe for the measurement.例文帳に追加

測定電圧へのシース容量C_sの変化の影響を抑制し、かつ電磁波ノイズの影響を減少し、高周波プラズマ電位の時間変動の振幅を正確に測定可能なプラズマ電位測定方法と測定用プローブを提供する。 - 特許庁

In one embodiment, the ion dosages can be controlled using an in-situ measurement of plasma from mass distribution sensor combined with the in-situ measurement from a high frequency probe.例文帳に追加

一実施形態において、イオンドーズは、高周波プローブからの現場測定値と結合して質量分布センサからのプラズマの現場測定値を使用して制御することができる。 - 特許庁