plasma parametersとは 意味・読み方・使い方

To a plasma etching trial method which can obtain etching parameters with a less-fluctuated etching rate.例文帳に追加

エッチング速度の変動が少ないエッチングパラメータが得られるプラズマエッチングの試行方法を提供する。 - 特許庁

The system may include: a He plasma source contained in a chamber; and a control unit configured so as to correct plasma parameters such as an electronic energy distribution of plasma when used, in order to increase formation of a He metastable atom without correcting operation parameters of the plasma source.例文帳に追加

システムは、チャンバ内に含まれたＨｅプラズマ源と、プラズマ源の動作パラメータを修正することなくＨｅ準安定原子の形成を増加させるべくプラズマの電子エネルギー分布といったプラズマパラメータを使用時に修正するように構成された制御ユニットとを含んでよい。 - 特許庁

These membership functions enable estimation of the output parameter values of the plasma treatment, as a result, characterizing the plasma treatment with respect to the output parameters.例文帳に追加

このメンバシップ関数はプラズマ処理の出力パラメタ値の推定を可能にし、このためメンバシップ関数は、出力パラメタに関してプラズマ処理を特徴付ける。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes: a reaction chamber for generating plasma and applying plasma processing to an object to be processed; an extract section for extracting an emission amount from the plasma; and a control section for variably controlling one of groups of parameters used for controlling the plasma on the basis of the emission amount within a predetermined range of processing conditions to control the state of the plasma.例文帳に追加

プラズマを発生し、被処理物をプラズマ処理する反応チャンバと、前記プラズマからの発光量を抽出する抽出部と、予め定められた処理条件の範囲内で、前記発光量に基づいて前記プラズマ密度をするパラメータ群の一つを可変制御してプラズマ状態を制御する。 - 特許庁

The method includes concurrently translating a set of M desired values for M plasma parameters to a set of N values for respective N chamber parameters.例文帳に追加

本方法はＭ個のプラズマパラメータについてのＭ個の所望の数値のセットをＮ個の各チャンバパラメータについてのＮ個の数値のセットへと同時変換することを含む。 - 特許庁

To obtain a real-time monitor device that stably gathers and stores plasma parameters or output data of a sensor measuring the potential of a processed wafer surface in a memory from right after plasma generation, and transmits the data to outside a plasma chamber.例文帳に追加

プラズマ発生直後からプラズマパラメータ、又は処理ウエハ表面の電位を計測するセンサの出力データを安定的に収集してメモリに記憶し、プラズマチャンバーの外部に伝送することができるリアルタイムモニタ装置を得る。 - 特許庁

A plasma processing apparatus is provided with measurement means (51A, 53A to 53E, 54) for measuring electric field of a sheath SH, formed on a plasma circumferential edge and a control means (55) for controlling the parameters of plasma generation, based on the measurement results of the measurement means.例文帳に追加

プラズマ周縁に形成されるシースＳＨの電界を計測する計測手段（５１Ａ，５３Ａ〜５３Ｅ，５４）と、この計測手段の計測結果に基づきプラズマ生成のパラメータを制御する制御手段（５５）とを備える。 - 特許庁

To provide a method for characterizing a semiconductor plasma treatment, producing a membership function, which can enable estimation of output parameters.例文帳に追加

出力パラメタ値の推定を可能にするメンバシップ関数を与える半導体プラズマ処理を特徴付けるための方法を提供する。 - 特許庁