plasma parameterとは 意味・読み方・使い方

The plasma treatment equipment can be realized by an equivalent circuit, and each parameter of the equivalent circuit is computed by using the result of the measurement.例文帳に追加

プラズマ処理装置は等価回路によって表現でき、この計測結果を用いて等価回路の各パラメータを算出する。 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR PLASMA COATING OF WORKPIECE USING SPECTRAL EVALUATION OF PROCESS PARAMETER例文帳に追加

プロセス・パラメータの分光評価を用いた加工品のプラズマ・コーティングのための方法および装置 - 特許庁

The impedance matching device and s-parameter of the plasma processing chamber is measured by a high frequency network analyzer, and a power transmission efficiency of the impedance matching device is determined by the measured s-parameter, and the plasma processing is controlled thereby.例文帳に追加

インピーダンス整合器やプラズマ処理室のＳパラメータを高周波ネットワークアナライザで測定し、測定されたＳパラメータからインピーダンス整合器の電力伝送効率を求めること、これによってプラズマ処理の制御を行う。 - 特許庁

An S parameter of an impedance matching instrument 2 and a plasma treatment room is measured by a high-frequency network analyzer 14, an electric power transmission efficiency of the impedance matching instrument is obtained from the measured S parameter, and control of the plasma treatment is carried out by this.例文帳に追加

インピーダンス整合器２やプラズマ処理室のＳパラメータを高周波ネットワークアナライザ１４で測定し、測定されたＳパラメータから前記インピーダンス整合器の電力伝送効率を求める、これによってプラズマ処理の制御を行う。 - 特許庁

By controlling magnetic filter strength which is conventionally uniform, and making it optimal strength according to a partial parameter of plasma, low electron-temperature plasma is obtained over a wide area, and uniform negative ions are generated in the wide area.例文帳に追加

従来一様であった磁気フィルター強度を制御し、プラズマの局所パラメータに応じて最適強度とすることによって大面積に渡って低電子温度プラズマを実現し、一様な負イオンを大面積に生成する。 - 特許庁

These membership functions enable estimation of the output parameter values of the plasma treatment, as a result, characterizing the plasma treatment with respect to the output parameters.例文帳に追加

このメンバシップ関数はプラズマ処理の出力パラメタ値の推定を可能にし、このためメンバシップ関数は、出力パラメタに関してプラズマ処理を特徴付ける。 - 特許庁

When dopant is introduced in a solid substrate with the plasma doping; the property of gas in plasma is measured by In-situ, the result of measurement by In-situ is fed back to the gas parameter of the plasma doping so as to become a desired amount of dopant introduction.例文帳に追加

プラズマドーピングで固体基体に不純物を導入する際に、プラズマ中のガスの特性をＩｎ‐ｓｉｔｕで測定し、Ｉｎ‐ｓｉｔｕで測定した結果を、所望の不純物導入量となるように、プラズマドーピングのパラメータにフィードバックすることとする。 - 特許庁

To provide a simulation device and a plasma discharge processing device supporting system correctly calculating electron energy distribution or the like in a plasma of the plasma discharge processing device applying a treatment in the region of atmospheric pressure by a time-dependent Boltzmann equation or the like, and deciding a control parameter.例文帳に追加

大気圧近傍で処理を行うプラズマ放電処理装置におけるプラズマ中の電子エネルギー分布等を時間依存のボルツマン方程式等により正確に算出して制御パラメータを決定するシミュレーション装置およびプラズマ放電処理装置支援システムを提供する。 - 特許庁