plasma oxidationとは 意味・読み方・使い方

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA OXIDATION TREATMENT METHOD例文帳に追加

半導体装置の作製方法及びプラズマ酸化処理方法 - 特許庁

PLASMA TREATMENT FOR STRENGTHENING ADHESION OF CARBON- CONTAINING LAYER AND MINIMIZING OXIDATION OF THE LAYER例文帳に追加

炭素含有層の付着強化と酸化最小限化のためのプラズマ処理 - 特許庁

PLASMA OXIDATION TREATMENT METHOD, AND METHOD OF FORMING SILICON OXIDE FILM例文帳に追加

プラズマ酸化処理方法およびシリコン酸化膜の形成方法 - 特許庁

In the plasma oxidation treatment method for subjecting a substrate to a plasma oxidation treatment, inert gas used for generating plasma is so selected as to enable the wavelength of plasma emission light to be in a prescribed range.例文帳に追加

プラズマを用いて基板の酸化処理を行うプラズマ酸化処理方法において、プラズマ発光波長が所望の範囲となるように、プラズマ生成に使用される不活性ガスを選択する。 - 特許庁

Plasma gas from an atmospheric plasma generator employing oxidation gas as plasma generation gas is blown to the supplied particles.例文帳に追加

供給された金属微粒子に、プラズマ生成用ガスとして酸化ガスを用いた大気プラズマ発生装置からのプラズマガスを吹き付ける。 - 特許庁

To provide a plasma oxidation method and apparatus enabling oxidation in a low temperature and oxidation of a thick film by increasing an oxidation rate even when a substrate temperature is low.例文帳に追加

基板温度が低温の場合でも酸化レートを高速化して、低温での酸化を可能とするとともに、厚膜酸化を可能とするプラズマ酸化方法および装置を提供する。 - 特許庁

The plasma oxidation shortens ingress distance of oxidized species, and controls oxidation of a polysilicon film and a gate insulating film.例文帳に追加

プラズマ酸化により酸化種の侵入距離を短くし、ポリシリコン膜やゲート絶縁膜の酸化を抑制する。 - 特許庁

A plasma oxidation method or a radical oxidation method is used for forming the silicon oxide film.例文帳に追加

そして、酸化シリコン膜の形成に、プラズマ酸化法またはラジカル酸化法を用いる半導体装置の製造方法である。 - 特許庁