positive transparencyとは 意味・読み方・使い方

To provide a positive type photosensitive resin composition capable of forming a polyimide film that excels in transparency, has fine pattern forming capability and combines a low dielectric constant and high heat resistance, and to provide a manufacturing method of a positive type pattern.例文帳に追加

透明性に優れ、微細なパターン形成能を有し、且つ低誘電率及び高耐熱性を併せ持つポリイミド膜を形成することのできるポジ型感光性樹脂組成物及びポジ型パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in developability, excellent also in transparency, solvent and heat resistances, showing good insulation even after storage, and excellent in fitness for ITO; to provide a cured film excellent in transparency, solvent and heat resistances; and to provide an interlayer dielectric excellent in insulation and fitness for ITO.例文帳に追加

現像性に優れ、透明性、耐溶剤性、耐熱性にも優れ、保存しても絶縁性が良好で、ＩＴＯ適性の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供し、透明性、耐溶剤性、耐熱性に優れた硬化膜を提供し、絶縁性、およびＩＴＯ適性に優れた層間絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which is excellent in transparency and provides a permanent resist having such high heat resistance and chemical resistance after high-heat history that it is also used as an insulating film above an active matrix substrate, a permanent resist using the positive photosensitive composition and a method for producing the same.例文帳に追加

透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物並びに該ポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a norbornene-based ring-opened polymer having high transparency, water resistance and heat resistance, giving positive birefringence whose absolute value is extremely large, and great in the wavelength dependency of phase difference as well.例文帳に追加

優れた透明性、耐水性及び耐熱性を有し、正の複屈折性を示し、複屈折の絶対値が極めて大きく、かつ位相差の波長依存性も大きいノルボルネン系開環重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent transparency when using a light source of ≤160 nm wavelength, concretely, of an F_2 excimer laser light (at 157 nm).例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ現像欠陥が少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition with high sensitivity and of high resolution which shows sufficient transparency when a light source of ≤160 nm, concretely of F2 excimer laser light (157 nm) is used.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像度のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a material as an insulating film material for a flat display or the like, the material having positive photosensitivity characteristics, high transparency, photosensitivity and heat resistance, and a low dielectric constant.例文帳に追加

フラットディスプレイ等の絶縁膜材料として、ポジ型の感光特性を有し，透明性、感光性、耐熱性が高く、かつ誘電率の低い材料を実現する。 - 特許庁

To provide a readily handleable polysilane compound exposable to light with low energy, useful as a positive type photosensitive material and capable of forming a thin film having high transparency, heat resistance and insulating properties.例文帳に追加

取り扱いが容易で、低エネルギーで露光可能であり、ポジ型感光性材料として有用であり、高い透明性、耐熱性、および絶縁性を有し得る薄膜を形成可能なポリシラン化合物を提供すること。 - 特許庁