radical 44とは 意味・読み方・使い方

This radical-supplying device 40 has a plasma generation region 43 where the plasma is generated by a plasma source 50 and a radical generation region 44 where the radical is generated by the plasma.例文帳に追加

このラジカル供給装置４０は、プラズマ源５０によりプラズマが生成されるプラズマ生成領域４３と、プラズマによりラジカルが生成されるラジカル生成領域４４とを有する。 - 特許庁

A processing gas generation means 48 for supplying processing gas for processing a wafer 35 is provided in the down stream of the radical generation region 44.例文帳に追加

ラジカル生成領域４４の下流にウェハ３５を処理するための処理ガスを供給する処理ガス供給手段４８を設ける。 - 特許庁

When a 3rd stop valve 26 is opened and the resist liquid is discharged from a resist liquid discharge nozzle 7, the radical pressure change in an air feed chamber 31 of the forcibly feed pump 22 is mitigated by the accumulator 44 and is returned to the normal condition for a short time.例文帳に追加

第３の開閉バルブ２６が開放され，レジスト液吐出ノズル７からレジスト液が吐出されると，圧送ポンプ２２の給気室３１内の急激な圧力変動がアキュームレータ４４により緩和され，短時間で収束する。 - 特許庁