radical 56とは 意味・読み方・使い方

A hydrogen gas is mode to flow to a discharge chamber 56, electric discharge is caused by a radical source, and a hydrogen radical is supplied into a laser irradiation chamber 50 through a radial transport pipe 55.例文帳に追加

放電室５６に水素ガスを流し、ラジカル源で放電し、水素ラジカルをラジカル移送管５５を通してレーザー照射室５０内に供給する。 - 特許庁

A negative high voltage is applied to the mist discharge part 49 from a power supply device 56, and the mist including hydroxy radical with strong oxidation action is discharged from the mist discharge part 49.例文帳に追加

ミスト放出部４９には電源装置５６から負の高電圧が印加され、ミスト放出部４９から強い酸化作用のあるヒドロキシラジカルを含むミストが放出される。 - 特許庁

High negative voltage is applied to the mist discharging part 49 from a power supply device 56, and mist containing hydroxyl radical with a strong oxidation effect is discharged from the mist discharging part 49.例文帳に追加

ミスト放出部４９には電源装置５６から負の高電圧が印加され、ミスト放出部４９から強い酸化作用のあるヒドロキシラジカルを含むミストが放出される。 - 特許庁

The hydrogen radical feeding mechanism 40 includes a vessel 51 for generating hydrogen radicals, a hydrogen gas feeding mechanism 42 for feeding hydrogen gas in the vessel 51, a catalyst wire 53 provided in the vessel 51, a variable DC power source 56 for heating the catalyst wire 53, and a hydrogen radical introducing pipe 43 for introducing the hydrogen radicals generated by the contact of the hydrogen gas with the catalyst wire 53 heated in the vessel 51 into the chamber 1.例文帳に追加

水素ラジカル供給機構４０は、水素ラジカルを生成する容器５１と、容器５１内に水素ガスを供給する水素ガス供給機構４２と、容器５１内に設けられた触媒ワイヤ５３と、触媒ワイヤ５３を加熱する可変直流電源５６と、容器５１内で加熱された触媒ワイヤ５３に水素ガスが接触して生成した水素ラジカルをチャンバ１に導入する水素ラジカル導入配管４３とを有する。 - 特許庁