radical mechanismとは 意味・読み方・使い方

SUPPORTING MECHANISM OF RADICAL HEATER FOR PLASMA CVD DEVICE例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置用ラジカルヒータの支持機構 - 特許庁

Thereby, free radicals are generated to addition-polymerize the radiacal-polymerizable monomer 53 by the free radical mechanism, thus forming the polymer of the radical-polymerizable monomer to give the polymer pattern 61.例文帳に追加

そして、この領域５７において、ラジカルにラジカル重合性モノマーが付加および重合することにより、このラジカル重合性モノマーの重合体が形成されて、高分子パターン６１を得ることができる。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the semiconductor device comprises a workpiece holding mechanism (2) for holding a workpiece (3) where the semiconductor device is formed and a plurality of radical guns (1) for emitting a neutral radical beam (4) to the workpiece (3).例文帳に追加

本発明による半導体デバイス製造装置は、半導体デバイスが形成されるワーク（３）を保持するワーク保持機構（２）と、ワーク（３）に中性ラジカルビーム（４）を射出する、複数のラジカルガン（１）とを備えている。 - 特許庁

The nitriding method comprises steps of forming oxygen radicals by an oxygen radical forming mechanism, forming an oxide film on a silicon substrate by oxidizing the silicon substrate by the formed oxygen radicals, forming nitrogen radicals by a nitrogen radical forming mechanism, and forming the oxynitride film by nitriding the surface of the oxide film.例文帳に追加

酸素ラジカル形成機構によって酸素ラジカルを形成し、形成された酸素ラジカルで、シリコン基板を酸化してシリコン基板上に酸化膜を形成し、さらに窒素ラジカル形成機構で窒素ラジカルを形成して、前記酸化膜膜表面を窒化して酸窒化膜を形成する。 - 特許庁

At the same time, OH radical supplied from an OH radical supply mechanism 35 disposed near the optical element 32 to the space 33 can effectively remove contaminant attached and deposited in the optical element 32, a supporter 31 or the like.例文帳に追加

同時に、光学素子３２の近傍に配置されたＯＨラジカル供給機構３５から空間３３に供給されたＯＨラジカルは、光学素子３２、支持部３１等に付着及び堆積した汚染物質を、効果的に除去することができる。 - 特許庁

The film deposition apparatus includes a chamber, a susceptor for supporting a wafer, a raw gas feeding mechanism, a heater for heating the wafer, and a hydrogen radical feeding mechanism 40 which is separately provided from the chamber and feeds hydrogen radicals into the chamber.例文帳に追加

成膜装置は、チャンバと、ウエハを支持するサセプタと、処理ガス供給機構と、ウエハ加熱するヒーターと、チャンバとは別個に設けられた、チャンバ内に水素ラジカルを供給する水素ラジカル供給機構４０とを具備する。 - 特許庁

The mechanism component is made of a resin composition consisting of polyphenylene-sulfide resin and polyphenylene-ether resin, wherein in particular, the polyphenylene-sulfide resin has a specific oligomer quantity and a specific functional radical quantity, from which the mechanism component is prepared together with an admixture builder having a specific functional radical quantity and an inorganic filler.例文帳に追加

ポリフェニレンスルフィド樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とからなる樹脂組成物を用い、特に供するポリフェニレンスルフィド樹脂として、特定したオリゴマー量および特定の官能基量を有するポリフェニレンスルフィド樹脂と特定の官能基量を有する混和剤及び無機フィラーにより樹脂製機構部品を得る。 - 特許庁