selective nitridingとは 意味・読み方・使い方

SELECTIVE NITRIDING OF GATE OXIDE FILM例文帳に追加

ゲート酸化膜の選択的窒化 - 特許庁

Using a fact that nitriding reaction in an ammonia (NH_3) atmosphere is different depending on a silicon composition of a metal silicate, selective nitriding of the insulation film is conducted.例文帳に追加

アンモニア（ＮＨ_３）雰囲気中での窒化反応が金属珪酸化物のシリコン組成により異なることを利用して、絶縁膜の選択窒化を行う。 - 特許庁

A selective etching treatment step is provided after a plasma nitriding treatment step, and while a silicon nitride film 109 formed on an electrode layer 107 is left, a silicon nitrided oxide film 11 formed on surfaces of an element isolation film 103 and an insulating film 105 is removed.例文帳に追加

プラズマ窒化処理工程の後に、選択エッチング処理工程を設け、電極層１０７に形成された窒化珪素膜１０９を残しつつ、素子分離膜１０３および絶縁膜１０５の表面に形成された窒化酸化珪素膜１１１を除去する。 - 特許庁

The selective plasma nitriding is carried out by setting treatment pressure to 66.7 to 667 Pa and supplying high-frequency electric power of 0.1 to 1.2 W/cm^2 per area of the workpiece from a high-frequency power source 44 to an electrode 42 of a placing table 2.例文帳に追加

選択的プラズマ窒化処理は、処理圧力を６６．７Ｐａ以上６６７Ｐａ以下の範囲内に設定し、載置台２の電極４２に高周波電源４４から被処理体の面積当り０．１Ｗ／ｃｍ^２以上１．２Ｗ／ｃｍ^２以下の高周波電力を供給して行う。 - 特許庁