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self-aligned bipolar transistorとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 自己整合バイポーラトランジスタ
「self-aligned bipolar transistor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
MANUFACTURE OF SELF-ALIGNED BIPOLAR TRANSISTOR例文帳に追加
自己整合性バイポーラ・トランジスタの製造方法 - 特許庁
BIPOLAR TRANSISTOR HAVING SELF-ALIGNED SILICIDE AND SELF-ALIGNED EMITTER CONTACT BORDER例文帳に追加
自己整合シリサイドおよび自己整合エミッタ・コンタクト境界を有するバイポーラ・トランジスタ - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SELF-ALIGNED VERTICAL BIPOLAR TRANSISTOR例文帳に追加
セルフアラインされた縦型のバイポーラトランジスタを製造する方法 - 特許庁
BIPOLAR TRANSISTOR WITH RAISED EXTRINSIC SELF-ALIGNED BASE USING SELECTIVE EPITAXIAL GROWTH FOR BICMOS INTEGRATION例文帳に追加
BICMOS統合のために選択的エピタキシャル成長を用いる、隆起した外因性自己整合型ベースを有するバイポーラ・トランジスタ - 特許庁
A high-performance bipolar transistor with a raised extrinsic self-aligned base is integrated into a BiCMOS structure including CMOS devices.例文帳に追加
隆起した外因性自己整合型ベースを有する高性能バイポーラ・トランジスタが、CMOSデバイスを含むBiCMOS構造と統合される。 - 特許庁
To provide a bipolar transistor with a protruberant extrinsic self-aligned base that uses a selective epitaxial growth for BICMOS integration, and to provide a high-performance BiCMOS structure with minimum process complexity, without having to sacrifice the performances of either the bipolar transistors or CMOS devices.例文帳に追加
BICMOS統合のために選択的エピタキシャル成長を用いる、隆起した外因性自己整合型ベースを有するバイポーラ・トランジスタを提供する。 - 特許庁
To provide a bipolar transistor of a self-aligned structure which has an improved current gain cut-off frequency and maximum transmission frequency, and to provide a method of manufacturing the transistor.例文帳に追加
電流利得遮断周波数及び最大発信周波数を向上させたセルフアライン構造のバイポーラトランジスタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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「self-aligned bipolar transistor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To provide a bipolar transistor structure having a self-aligned structure which is improved in the maximum oscillation frequency by reducing a bonding area between the collector and the base without increasing an external base resistance, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加
外部ベース抵抗を増大させることなく、コレクタ/ベース接合面積を小さくして、最大発信周波数を向上させたセルフアライン構造のバイポーラトランジスタ構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem wherein emitter resistance is increased and reliability is lowered, in a method for manufacturing a self-aligned bipolar transistor of conventional technology, since voids occur at the deposition of an emitter N^+-type polysilicon because the aspect ratio of an opening for emitter formation is large in the transistor.例文帳に追加
従来技術の自己整合型バイポーラトランジスタの製造方法は、エミッタ形成用の開口部のアスペクト比が大きいため、エミッタ用N ^+型ポリシリコンの成膜においてボイドが発生し、エミッタ抵抗の増加や信頼性の低下という問題点が発生する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device whose junction breakdown voltage between an emitter and a base can be increased, and damages or the like in the base layer caused by isotropic dry etching can be eliminated, in a semiconductor device including a self-aligned bipolar transistor.例文帳に追加
自己整合型バイポーラトランジスタを含む半導体装置のエミッタ・ベース接合耐圧を向上させ、等方性ドライエッチングによってベース層に与えるダメージ等が解消できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
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自己整合バイポーラトランジスタ
英和専門語辞典
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