spin-glass regionとは 意味・読み方・使い方

To provide an absorbing spin-on-glass anti-reflective coating and lithography material that absorbs strongly and uniformly in the ultraviolet spectral region and a method of producing the spin-on glass anti-reflective coating.例文帳に追加

紫外線スペクトル領域において均一で強い吸収を有する吸収性スピンオングラス反射防止コーティング及びリソグラフィー材料、並びにそのスピンオングラス反射防止コーティングの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device constituted so that a SOG (spin on glass) film is used in an element isolation region, and the degradation of junction leak characteristics due to formation of dislocation in an active region is suppressed when forming a transistor employing a LDD (Lightly doped drain), and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

素子分離領域にＳＯＧ（ｓｐｉｎ ｏｎ ｇｌａｓｓ）膜を用いる構成で、ＬＤＤ（ｌｉｇｈｔｌｙ ｄｏｐｅｄ ｄｒａｉｎ）構造を採用するトランジスタを形成する場合に、活性領域に転位が形成されて接合リーク特性が悪化するのを抑制することができる構成の半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an antireflective coating and a spin-on glass antireflective coating capable of (a) absorbing strongly and uniformly in an ultraviolet spectrum region, (b) protecting a resist material from 'fall down' and spread to the outside of an intended resist line or contact with the inside, and (c) keeping impermeability to a photoresist developer.例文帳に追加

ａ）紫外線スペクトル領域において強力かつ均一に吸収でき、ｂ）レジスト材料を、「倒れ込み」および意図したレジストラインの外側への広がりまたは内側への接触から守ることができ、およびｃ）フォトレジスト現像剤に対して不浸透性であることのできる反射防止コーティングならびにスピンオンガラス反射防止コーティングの製造方法を提供。 - 特許庁

To provide an absorbable spin-on glass anti-reflection film and lithography material that a) can absorb a light strongly and evenly in a region of ultraviolet light, b) does not "collapse" a resist material or run off an intended resist line, and c) does not react photoresist developer in a manufacturing process of an SOG anti-reflection film to develop manufacture of layered materials, electronic components, and semiconductor components.例文帳に追加

ａ）紫外光域において強力かつ均一に吸光し、ｂ）レジスト材料を「崩れ」させたり、意図したレジストラインよりはみ出ることのない、ｃ）フォトレジスト現像剤および上記のＳＯＧ反射防止膜の製造工程に対して感応することのない、吸収性スピンオンガラス反射防止膜およびリソグラフィー材料が、層状材料、電子部品、および半導体部品の製造を発展させるために望まれている。 - 特許庁