sputtered Coとは 意味・読み方・使い方

To provide a Co alloy target material which inhibits the variation of a soft magnetic film to be formed when being sputtered, and reduces particles to be produced when being sputtered, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

スパッタリングにより成膜される軟磁性膜のバラツキを抑制するとともに、スパッタリングの際に発生するパーティクルを低減したＣｏ合金ターゲット材およびその製造方法を提供する - 特許庁

Two sputter cathodes, on which targets are stuck, are disposed in close vicinity to each other in a vacuum system in which reduced pressure atmosphere can be regulated, and the above targets are co-sputtered to concurrently deposit films having compositions containing the materials of the targets respectively onto a substrate.例文帳に追加

減圧した雰囲気が調整できる真空装置にターゲットを貼り付けた２つのスパッタリングカソードを近接設置し、前記ターゲットを同時にスパッタリングして、基体に前記ターゲットの材料を含む成分の被膜を同時に被覆する。 - 特許庁

In the sputtering film deposition method, a metal target is sputtered by a sputtering gas in the presence of a reactive gas of CO_2 and/or CO, and the transparent thin film composed of the oxide of the metal is deposited on the substrate by setting the reaction mode during the sputtering as an oxidation mode.例文帳に追加

ＣＯ_２及び／又はＣＯの反応性ガスの存在下で金属ターゲットをスパッタガスによりスパッタリングし、当該スパッタリング中の反応モードを酸化モードとして基板上に前記金属の酸化物からなる透明薄膜を成膜する。 - 特許庁

The carbon oxide thin film, the carbon oxynitride thin film and the diamond-like carbon oxide thin film are manufactured by plasma-decomposing gaseous starting materials including CO in an inert gaseous atmosphere, sputtering a carbonaceous material with at least part of ions in the generated plasma-forming components, and depositing the reaction product of at least part of the plasma-forming components and sputtered carbon atoms on a substrate.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気において、一酸化炭素を含む原料ガスをプラズマ分解し、発生したプラズマ生成成分のうちのイオンの少なくとも一部で炭素原料をスパッタし、プラズマの生成成分の少なくとも一部とスパッタされた炭素原子との反応物を基板上に堆積させることで、酸化炭素薄膜、酸化窒化炭素薄膜および酸化ダイヤモンド状炭素薄膜を製造する。 - 特許庁