sputtered filmとは 意味・読み方・使い方

To provide a thin film deposition apparatus capable of stabilizing plasma during sputtering and maintaining the thickness of a sputtered film on a substrate constant.例文帳に追加

スパッタリングにおけるプラズマを安定させ、基板のスパッタ膜の膜圧を一定とする。 - 特許庁

To form a sputtered film on the surface of an organic thin film without causing any damage.例文帳に追加

有機薄膜表にダメージを与えずにその表面にスパッタ膜を形成する。 - 特許庁

A cap metal film is sputtered and heat treated at a specified temperature (step S4).例文帳に追加

キャップ金属膜を所定温度の熱処理を兼ねてスパッタ形成する（処理Ｓ４）。 - 特許庁

To prevent adhesion to a wafer caused by sputter particles or a sputtered film through a simple structure.例文帳に追加

スパッタ粒子やスパッタ膜に起因するウェハとの癒着現象を簡単な構造で防止する。 - 特許庁

A desired part of the applied film of regions where no sputtered film exists can be selectively cured using the sputtered film as a mask by irradiation with UV from the rear surface side of the substrate 1.例文帳に追加

基板１裏面側からの紫外線照射により、スパッタ膜をマスクとして、スパッタ膜が存在しない領域のうち所望部分の塗布膜を選択的に硬化させることができる。 - 特許庁

The film deposition apparatus has an ion beam irradiating unit, a target 105 containing a film forming substance to be sputtered, and a holding unit 112 for holding a substrate 106 on which the sputtered film forming substance is deposited.例文帳に追加

成膜装置は、イオンビーム照射手段と、スパッタリングされる成膜物質を含むターゲット１０５と、スパッタリングされた成膜物質が析出する基板１０６を保持する保持手段１１２を有する。 - 特許庁

In the step for film-depositing the oxide film of Ge, a Ge oxide target is sputtered while an Ar gas is introduced to film-deposit the oxide film 3.例文帳に追加

Ｇｅの酸化物膜の成膜工程では、Ａｒガスを導入しながらＧｅ酸化物ターゲットをスパッタリングして、酸化物膜３を成膜する。 - 特許庁

The conductor layer 3 is composed of a first sputtered layer 31 formed by sputtering copper on the upper surface of the film 2 at a temperature of 150-280°C and a second sputtered layer 32 formed by sputtering copper on the upper surface of the first sputtered layer 31 at a temperature of -20°C to 150°C.例文帳に追加

導体層３は，ポリイミドフィルム２の上面に，１５０〜２８０℃の温度下で銅をスパッタリングすることにより形成した第１スパッタ層３１と，第１スパッタ層３１の上面に，−２０〜１５０℃の温度下で銅をスパッタリングすることにより形成した第２スパッタ層３２とからなる。 - 特許庁