standard trenchとは 意味・読み方・使い方

There are used a 4H-SiC substrate 31 where the principal surface is composed of {0001} surfaces in general with off-angle α, and a trench formation device where the standard deviation is set up at σ in the variation of the angle settled by the trench side wall surface and the substrate principal surface in the wafer.例文帳に追加

主面が概ね｛０００１｝面であり、かつオフ角αを有する４Ｈ−ＳｉＣ基板３１と、トレンチ側壁面と基板主面とのなす角度のウェハ面内におけるばらつきの標準偏差がσとなるトレンチ形成装置を用いる。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical fiber preform which can obtain an optical fiber having a trench type refractive index distribution, reduced transmission loss, reduced connection loss with a standard single mode optical fiber and satisfactory bending resistance.例文帳に追加

トレンチ型屈折率分布を有し、伝送損失が小さく、標準シングルモード光ファイバとの接続損失が小さく、耐曲げ特性の良い光ファイバが得られる光ファイバ母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned feature portion on a substrate having a higher density (that is, a low pitch) as compared to what is possible using a standard photolithography processing technique using a single high-resolution photomask, while changing both the width of the patterned feature portion and a spacing (trench width) between the patterned features portions are in an integrated circuit.例文帳に追加

パターン形成特徴部の幅とパターン形成特徴部の間の間隔（トレンチ幅）の双方を集積回路内で変化させつつ単一高解像度フォトマスクを用いた標準フォトリソグラフィ処理技術を用いて可能であるものと比較して高密度（即ち、低ピッチ）を持つ基板上にパターン形成特徴部を形成する方法を提供する。 - 特許庁