surface wave excitationとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma processing device which does not generate mode jump of a surface wave excitation plasma.例文帳に追加

表面波励起プラズマのモードジャンプを生じさせないプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To design a flexible surface acoustic wave filter on an NSPUDT substrate where the excitation of a surface acoustic wave becomes unidirectional because of the anisotropy of crystal.例文帳に追加

結晶の異方性から弾性表面波の励振に一方向性が生じるＮＳＰＵＤＴ基板において、柔軟な弾性表面波フィルタを設計する。 - 特許庁

To provide a surface wave excitation treatment device capable of generating uniform plasma ranging over the entire region of a dielectric.例文帳に追加

誘電体の全領域にわたって均一なプラズマを生成することができる表面波励起プラズマ処理装置 - 特許庁

The SWP processing apparatus 100 is equipped with a processing chamber which generates surface wave excitation plasmas in an airtight space by the microwaves introduced from the microwave introduction section 10, and processes a workpiece with the surface wave excitation plasmas.例文帳に追加

ＳＷＰ処理装置１００は、マイクロ波導入部１０により導入されたマイクロ波により気密空間に表面波励起プラズマを生成し、該表面波励起プラズマにより被処理物を処理する処理室とを備える。 - 特許庁

The surface acoustic wave device is composed by arranging on the top surface of a substrate 2, with a surface acoustic wave element, having an excitation electrode 5 on one principal plane of a piezoelectric substrate 3 made to face the one principal plane of the piezoelectric substrate 3.例文帳に追加

基体２の上面に、圧電基板３の一方主面の上に励振電極５を設けた弾性表面波素子を、圧電基板３の一方主面を対向させた状態で配設してなる。 - 特許庁

To provide a surface wave excitation plasma CVD device wherein the periphery of a workpiece substrate is a proper film formation region.例文帳に追加

被処理基板周辺を適正な成膜可能領域とする表面波励起プラズマＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a piezoelectric wafer with less characteristic variation in manufacturing processes and a method of manufacturing an acoustic wave device using the same, regarding the piezoelectric wafer used for excitation of acoustic wave such as surface acoustic wave and surface boundary wave, and to provide an acoustic wave device using the same.例文帳に追加

本発明は、弾性表面波や弾性境界波などの弾性波の励起に用いられる圧電ウエハ及びそれを用いた弾性波デバイスの製造方法に関し、製造過程における特性バラツキの少ない圧電ウエハ及びそれを用いた弾性波デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

When performing the sterilization, the gas in the treatment chamber 1 is circulated between the treatment chamber 1 and the ASWP (atmospheric-pressure surface wave excitation plasma) unit 2 via a pipe D4.例文帳に追加

滅菌処理時には、配管D4を介して処理室１内のガスが処理室１とＡＳＷＰユニット２との間で循環される。 - 特許庁