vacuum chambersとは 意味・読み方・使い方

A vacuum applicator 12 which includes two independent vacuum lamination chambers 18, 20 and has a conveyer is provided.例文帳に追加

２つの独立した真空ラミネーションチャンバー１８、２０を含み、コンベヤーを有する真空アプリケータ１２が特徴である。 - 特許庁

A plurality of processing chambers 30 in each of which a substrate is vacuum processed are arranged around a vacuum conveyance chamber 13 maintained in a vacuum atmosphere.例文帳に追加

真空雰囲気に維持された真空搬送室１３の周囲に、基板に対して真空処理が行なわれる複数の処理室３０を設ける。 - 特許庁

Auxiliary chambers 71 to 73 and the film deposition chamber 4 are always kept at vacuum.例文帳に追加

補助チャンバー７１〜７３及び成膜チャンバー４は、常時真空に維持される。 - 特許庁

The vacuum chamber system is provided with at least two vacuum chambers 1a and 1b with gas discharging capability, and a conveyance means 4.例文帳に追加

真空チャンバシステムは、少なくとも２つの排気可能な真空チャンバ１ａ、１ｂと、移送手段４と、を備えている。 - 特許庁

The two vacuum chambers accommodates a semiconductor device to be processed, and are provided with vacuum chamber openings 2a and 2b and vacuum chamber sealing surfaces 3a and 3b.例文帳に追加

２つの真空チャンバは、処理する半導体素子を収容し、真空チャンバ開口部２ａ、２ｂおよび真空チャンバシール面３ａ、３ｂを備えている。 - 特許庁

Of a plurality of vacuum chambers, a vacuum chamber 2 closest to the atmospheric pressure side is vented to the atmospheric pressure, and a vacuum chamber 3 on the vacuum processing device side adjacent to the chamber 2 is roughly exhausted.例文帳に追加

複数の真空チャンバー中、大気圧側に最も近い真空チャンバー２を大気圧にベントすると共に、２に隣接する真空処理装置側の真空チャンバー３を荒引排気する。 - 特許庁

A vacuum device 12 of a laser annealing system 10 has a vacuum chamber 22 having capacity larger than the total capacity of two load lock chambers 20 and 21, and vacuum pumps 24 and 25 which keeps an intermediate vacuum in the vacuum chamber 22.例文帳に追加

レーザアニーリングシステム１０の真空装置１２は、２つのロードロックチャンバ２０，２１の合計容積より大きい容積を有する真空チャンバ２２と、真空チャンバ２２を中間真空度に保つ真空ポンプ２４，２５とを有する。 - 特許庁

Accordingly, the chambers may be continuously maintained in a vacuum state when any one of the chambers is repaired.例文帳に追加

これにより、特定グループに属するチャンバの維持補修時、他のグループに属するチャンバの内部は、継続的に真空で維持することができる。 - 特許庁