「"ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

電子線描画装置および電子顕微鏡 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加

電子ビーム描画装置、および電子ビーム描画方法 - 特許庁

DRAWING DATA PROCESSING SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置における描画データ処理方式 - 特許庁

METHOD FOR DIAGNOSING ELECTRON BEAM DRIFT AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビームドリフト診断方法、電子ビーム露光装置 - 特許庁

ELECTRON GUN FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置用電子銃 - 特許庁

LASER LENGTH-MEASURING SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置のレーザ測長システム - 特許庁

LITHOGRAPHY METHOD OF SUBSTRATE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

基材の描画方法、及び電子ビーム描画装置 - 特許庁

METHOD FOR ALIGNING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビームリソグラフィ装置のアレイメント方法 - 特許庁

VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

可変面積型電子ビーム描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND DEFLECTOR THEREIN例文帳に追加

電子線描画装置用偏向器及び電子線描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD OF PRINCIPAL PART THEREOF例文帳に追加

電子線描画装置およびその要部の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

電子ビーム描画装置および描画方法 - 特許庁

STAGE DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

ステージ装置及びこれを用いた電子ビーム描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

電子線描画装置及び情報記録媒体 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF DIAGNOSING WRITING DATA例文帳に追加

電子ビーム描画装置および描画データの診断方法 - 特許庁

CURRENT MEASURING METHOD OF ELECTRON BEAM IN VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの電流測定方法および可変面積型電子ビーム描画装置 - 特許庁

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加

電子銃、電子ビーム描画装置、及び電子ビーム描画方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, ELECTRON BEAM DEFLECTION CORRECTING METHOD, AND STANDARD SUBSTRATE例文帳に追加

電子ビーム露光装置、電子ビーム偏向校正方法、及び基準基板 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD OF LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子線描画装置，電子線描画システム、および描画方法 - 特許庁

ELECTRON GUN, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

電子銃及びその電子銃を用いた電子ビーム描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF DRAWING USING ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線描画装置および電子線を用いた描画方法 - 特許庁

TARGET MARK MEMBER, WAFER STAGE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

ターゲットマーク部材、ウェハステージおよび電子ビーム露光装置 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING GRAPHIC DATA WITH HIGHER ACCURACY FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置用の図形データの高精度化処理方法 - 特許庁

ELECTRON EMISSION ELEMENT, IMAGE-FORMING DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子放出素子および画像形成装置および電子線描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, IRRADIATION METHOD, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD THEREOF, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND MASK例文帳に追加

電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法、素子製造方法、及びマスク - 特許庁

ELECTRON BEAM EMISSION SOURCE, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRON BEAM EMISSION SOURCE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子線描画装置 - 特許庁

MANUFACTURING SYSTEM OF THICK FILM/THIN FILM HYBRID MULTILAYER WIRING BOARD AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

厚膜薄膜混成多層配線基板の製造システムおよび電子線描画装置 - 特許庁

METHOD FOR CALIBRATING IRRADIATION TIME OF ELECTRON BEAM IN VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法 - 特許庁

To provide various options for improving the throughput of an electron beam lithography system.例文帳に追加

電子ビーム・リソグラフィ装置のスループットを改良するための様々なオプションを提供すること。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD, AND MANUFACTURE OF PHOTOMASKS AND SEMICONDUCTOR DEVICES例文帳に追加

電子線描画装置、電子線描画方法、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF EXPOSING HOLE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線描画装置、ホールパターンの露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

DRAWING DATA GENERATING PROGRAM, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

描画データ生成プログラム、電子線描画装置およびマスクの製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF例文帳に追加

電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK AS WELL AS MANUFACTURING METHOD FOR THEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置、半導体装置およびマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁

ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF ADJUSTING THE SAME, AND METHOD OF ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム描画装置、電子ビーム描画装置の調整方法及び電子ビーム描画方法 - 特許庁

MEASURING METHOD, PHOTOLITHOGRAPHY METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR BASE MATERIAL, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

測定方法、描画方法、基材の製造方法、および電子ビーム描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF MASTER, AND MANUFACTURING METHOD OF INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

電子線描画装置、原盤製造方法、及び情報記録媒体製造方法 - 特許庁

Our electron-beam lithography system is used to write circuit-design patterns on photomasks for semiconductors. 例文帳に追加

われわれの電子ビーム描画装置は、半導体用のフォトマスクの上に回路設計パターンを描くことに使われる。 - 科学技術論文動詞集

To realize a variable area electron beam lithography system capable of freely forming triangular and rectangular electron beams with high throughput.例文帳に追加

高いスループットで三角形と矩形の電子ビームを自由に成形できる可変面積型電子ビーム描画装置を実現するにある。 - 特許庁

To provide a conditioning method for an electron gun capable of effectively suppressing an abnormal discharge of the electron gun, and provide an electron beam lithography system.例文帳に追加

電子銃の異常放電を効果的に抑制することのできる電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE, SUBSTRATE, MOLD FOR FORMING SUBSTRATE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、基材の製造方法、基材、その基材を形成するための金型、及び電子ビーム描画装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING METHOD, STORAGE MEDIUM STORING LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子線描画データ加工方法および描画データ加工プログラムを記録した記録媒体、ならびに電子線描画装置 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which confirms a state of electron beams in a lithography region in real time before lithographing work.例文帳に追加

描画領域の電子線の状態を、描画前にリアルタイムで確認することができる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁

To reduce a temperature rise in a conductor associated with power supply to a stage, an electrostatic chuck, etc., in an electron beam lithography system.例文帳に追加

電子線リソグラフィシステムにおいて、ステージ、静電チャック等への電力供給に伴う導線の温度上昇を減少させる。 - 特許庁