「"developing solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CONCENTRATED COLOR PHOTOGRAPHIC DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

濃縮カラー写真現像液 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE PHOTORESIST例文帳に追加

ネガ型フォトレジスト用現像液 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE例文帳に追加

感光性ポリイミド用現像液 - 特許庁

ALKALINE DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST例文帳に追加

ホトレジスト用アルカリ性現像液 - 特許庁

CYCLIC USE METHOD OF DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

現像液の循環使用方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR COLOR NEGATIVE PHOTOGRAPHIC FILM例文帳に追加

カラーネガ写真フィルム用現像液 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

現像液及びパターン形成方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

現像液の処理装置および方法 - 特許庁

ALKALI DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物用アルカリ現像液 - 特許庁

AQUEOUS DEVELOPING SOLUTION FOR FORMING RESIST COATING例文帳に追加

レジスト被膜形成用水性現像液 - 特許庁

RESIST DEVELOPING SOLUTION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト現像液及びパターン形成方法 - 特許庁

A developing solution nozzle 133 of a developing device 30 is connected to a developing solution supply block 136 supplying a developing solution to the developing solution nozzle 133.例文帳に追加

現像処理装置３０の現像液ノズル１３３には、当該現像液ノズル１３３に現像液を供給する現像液供給ブロック１３６が接続されている。 - 特許庁

PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS AND DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加

フォトリソグラフィ方法および現像液組成物 - 特許庁

ALKALI DEVELOPING SOLUTION FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

平版印刷版用アルカリ現像処理液 - 特許庁

PREPARING WATER FOR PHOTOGRAPHIC DEVELOPING SOLUTION AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SAME, AND PHOTOGRAPHIC DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

写真現像液用の調製水及びその製造装置、並びに写真現像液 - 特許庁

RESIST DEVELOPING SOLUTION AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE RESIST DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

レジスト現像液および当該レジスト現像液を用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

AQUEOUS DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR PHOTOSENSITIVE RESIN例文帳に追加

感光性樹脂用水性現像液組成物 - 特許庁

DEVELOPING DEVICE AND DEVELOPING SOLUTION CIRCULATION METHOD例文帳に追加

現像装置および現像液循環方法 - 特許庁

In this case, when the developing solution spreading over both the peripheral edge of the substrate and the feed nozzle runs out, the developing solution is less returned, and a flow of developing solution is restrained from being formed, and the developing solution ripples less.例文帳に追加

この場合、基板の周縁部と供給ノズルとに跨る現像液が液切れしたときの液の寄り戻しが低減され、基板表面の現像液の流れ、波立ちが抑えられる。 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FEED METHOD AND DEVELOPING MACHINE例文帳に追加

現像液供給方法及び現像装置 - 特許庁

LIQUID FORMULATION AGENT FOR PHOTOGRAPHIC DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

写真現像液用液体調合処理剤 - 特許庁

ALKALI DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物用アルカリ現像液 - 特許庁

METHOD FOR REPLENISHING DEVELOPING SOLUTION FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

平版印刷版現像液の補充方法 - 特許庁

AQUEOUS DEVELOPING SOLUTION FOR FORMING RESIST FILM PATTERN例文帳に追加

レジスト被膜パターン形成用水性現像液 - 特許庁

REGENERATION TREATMENT METHOD FOR WASTE PHOTORESIST DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

フォトレジスト現像廃液の再生処理方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

現像液組成物および画像形成方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST, AND DEVELOPING DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト用現像液及び現像処理装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND DEVELOPING SOLUTION CONTROL SYSTEM例文帳に追加

パターン形成方法および現像液管理システム - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE OF RESIST DEVELOPING DEVICE例文帳に追加

レジスト現像装置における現像液吐出ノズル - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE FOR RESIST DEVELOPING APPARATUS例文帳に追加

レジスト現像装置における現像液吐出ノズル - 特許庁

METHOD FOR PREVENTING DETERIORATION IN DEVELOPING SOLUTION AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

現像液の劣化防止方法およびその装置 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING CARBONATE IN RESIST DEVELOPING SOLUTION, REMOVING DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING CONCENTRATION OF RESIST DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加

レジスト現像液中の炭酸塩の除去方法、除去装置、及びレジスト現像液の濃度管理方法 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING ALKALI CONCENTRATION OF DEVELOPING SOLUTION, AND EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加

現像液のアルカリ濃度推定方法及び装置 - 特許庁

Temperature adjusting structures 74, 75 and 76, which adjust the temperature of a developing solution, are provided respectively on the storing part 73, where the developing solution is stored, of a developing solution supply nozzle 67.例文帳に追加

現像液供給ノズル６７の現像液を貯留する貯留部７３に現像液の温度を調整する温度調整機構７４，７５，７６を夫々設ける。 - 特許庁

After a fixed time has passed, the developing solution 16 is supplied from the developing solution supplying nozzle 15 on the photoresist film 12, and the developing solution 16 is replaced with new solution.例文帳に追加

その後、一定の時間経過した後、フォトレジスト膜１２の上に現像液供給ノズル１５から現像液１６を供給して、現像液１６を新液に置換する。 - 特許庁

A developing solution supplied from a developing solution discharging nozzle is piled up on a substrate held in a standstill state (S101).例文帳に追加

静止保持された基板に現像液吐出ノズルから供給される現像液を液盛りする（Ｓ１０１）。 - 特許庁

Developing solution 16 is supplied from a developing solution supplying nozzle 15 on a photoresist film 12 formed on a glass substrate 10, and is subjected to mounting of the developing solution 16.例文帳に追加

ガラス基板１０上に形成されたフォトレジスト膜１２の上に現像液供給ノズル１５から現像液１６を供給して、現像液１６を液盛りする。 - 特許庁

PIGMENT DISPERSION RESIST DEVELOPING SOLUTION FOR LCD COLOR FILTER例文帳に追加

ＬＣＤカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液 - 特許庁

To improve a developing solution for a color negative photographic film.例文帳に追加

カラーネガ写真フィルム用現像液を改良すること。 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料用現像液組成物 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR DEVELOPING PHOTORESIST例文帳に追加

フォトレジスト用現像液及びフォトレジストの現像方法 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST, DEAERATION APPARATUS AND CONTROL DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト用現像液管理方法、脱気装置、管理装置 - 特許庁

In the method for controlling the developing solution and the removing solution, the photosensitive material dissolved or dispersed in the developing solution and the removing solution is electrolyzed and removed from the developing solution and the removing solution.例文帳に追加

感光材料が溶解または分散している現像液およびはく離液の中から感光材料を電解して除去する現像液およびはく離液の管理方法。 - 特許庁

The development replenishing method includes: measuring the conductivity of a developing solution; comparing the conductivity of the developing solution with a predetermined conductivity reference; and replenishing the developing solution with a development replenisher when the conductivity of the developing solution is lower than the conductivity reference, wherein the difference between the conductivity of the developing solution and the conductivity reference is calculated and displayed as an activity of the developing solution.例文帳に追加

現像液の電導度を測定し、該現像液電導度値を予め定めた電導度基準値と比較して、該現像液電導度値が該電導度基準値より低い場合に該現像液に現像補充液を補充する現像補充方法であって、該現像液電導度値と該電導度基準値との差異値を演算し現像液活性度として表示するようにした。 - 特許庁

A developing solution tank 33 reserving a developing solution that is fed to a substrate S is arranged below a developing tank 30.例文帳に追加

基板Ｓに供給すべき現像液が貯留されている現像液タンク３３は、現像槽３０の下方に配置されている。 - 特許庁