「"microcrystal thin film"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The amorphous thin film 12 has resistance to a process performed at a temperature equal to or more than 300°C when the microcrystal thin film 13 having the cubic structure is formed.例文帳に追加

前記非晶質薄膜１２は、立方晶構造を有する微結晶薄膜１３を形成する際の３００℃以上のプロセスに耐性を有する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MICROCRYSTAL THIN FILM, METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR, AND THIN-FILM TRANSISTOR, AND PICTURE DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微結晶薄膜の成膜方法、薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタおよび薄膜トランジスタを用いた画像表示装置 - 特許庁

By using a heating and holding method to generate thermal gradient, the microcrystal thin film structural body having specific solute part and the microcrystal part gradiently existing is manufactured.例文帳に追加

また熱勾配を生じるような加熱および保持方法を用いることにより、比し溶質部分と微結晶部分が傾斜的に存在する微結晶薄膜構造体を製造する。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium has a film structure in which a soft magnetic substrate layer 12, a microcrystal thin film 13, a nonmagnetic layer 14, and a perpendicular magnetized film 15 are deposited in this order on a substrate 11.例文帳に追加

基板１１上に、軟磁性下地層１２，微結晶薄膜１３，非磁性層１４および垂直磁化膜１５を、この順序で成膜した膜構造を有している。 - 特許庁

The microcrystal thin film 13 is a film in which magnetic particles are magnetically isolated in an in-plane direction, and constituted of one selected from a semihard ferrite, a soft magnetic granular film, a soft magnetic nano crystal, etc.例文帳に追加

微結晶薄膜１３は、磁性粒子が面内方向において磁気的に孤立化した膜でなり、セミハードのフェライト、軟磁性グラニュラー膜、軟磁性ナノ結晶等から選択したものから構成される。 - 特許庁

In a photovoltaic device, on a light-receiving surface side surface of a first conductivity type semiconductor substrate 11, an amorphous thin film 12 containing silicon and carbon and whose composition ratio of the silicon and the carbon is 7:3 to 5:5, and a microcrystal thin film 13 containing silicon, carbon and second conductivity type impurities and having a cubic structure, are laminated in this order.例文帳に追加

第１導電型の半導体基板１１の受光面側の表面に、シリコンと炭素とを含みシリコンと炭素との組成比が７：３〜５：５である非晶質薄膜１２と、シリコンと炭素と第２導電型の不純物とを含み立方晶構造を有する微結晶薄膜１３と、がこの順で積層される。 - 特許庁

Concretely, the method includes: a material supply step where the first and second material gases are supplied; and a material accumulation step where the supply of the first material gas is stopped, only the second material gas is supplied and the material supplied in the material supply step is formed into a film on a substrate, and the steps are repeated to form a high-quality microcrystal thin film.例文帳に追加

具体的には、実施の形態１にかかる微結晶薄膜の成膜方法は、第１原料気体および第２原料気体を供給する原料供給工程と、上記の第１原料気体の供給を停止して第２原料気体のみを供給し、原料供給工程において供給された原料を基板上に成膜させる原料堆積工程とを含み、これらの工程を交互に繰り返すことによって高品質の微結晶薄膜を成膜する。 - 特許庁