「ドーピング...」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

プラズマドーピング装置例文帳に追加

PLASMA DOPING APPARATUS - 特許庁

プラズマドーピング方法例文帳に追加

PLASMA DOPING METHOD - 特許庁

ナノ構造体のドーピング例文帳に追加

DOPING OF NANOSTRUCTURE - 特許庁

ドーピング処理方法例文帳に追加

DOPING TREATMENT METHOD - 特許庁

ドーピング処理装置例文帳に追加

DOPING PROCESSOR - 特許庁

イオンドーピング装置およびイオンドーピング方法例文帳に追加

ION DOPING APPARATUS AND ION DOPING METHOD - 特許庁

イオンドーピング装置及びイオンドーピング方法例文帳に追加

ION-DOPING EQUIPMENT AND ION-DOPING METHOD - 特許庁

イオンドーピング方法及びイオンドーピング装置例文帳に追加

ION-DOPING METHOD AND ION-DOPING DEVICE - 特許庁

プラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法例文帳に追加

PLASMA DOPING APPARATUS AND PLASMA DOPING METHOD - 特許庁

イオンドーピング方法およびイオンドーピング装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR ION DOPING - 特許庁

プラズマドーピング方法及びプラズマドーピング装置例文帳に追加

PLASMA DOPING METHOD AND PLASMA DOPING DEVICE - 特許庁

ドーピング装置及びドーピング方法例文帳に追加

DOPING APPARATUS AND DOPING METHOD - 特許庁

気相ドーピング装置および気相ドーピング方法例文帳に追加

VAPOR PHASE DOPING APPARATUS AND VAPOR PHASE DOPING METHOD - 特許庁

質量分離型ドーピング装置およびドーピング方法例文帳に追加

MASS SEPARATION TYPE DOPING APPARATUS AND DOPING METHOD - 特許庁

ドーピング装置およびドーピング方法例文帳に追加

DOPING DEVICE AND DOPING METHOD - 特許庁

プラズマドーピング方法およびプラズマドーピング装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA DOPING - 特許庁

ドーピングされた二酸化チタン例文帳に追加

DOPING-PROCESSED TITANIUM DIOXIDE - 特許庁

ポリマーのドーピング方法例文帳に追加

METHOD FOR DOPING POLYMER - 特許庁

プラズマドーピング方法及び装置例文帳に追加

PLASMA DOPING METHOD AND APPARATUS - 特許庁

ドーピング装置及び引き上げ装置例文帳に追加

DOPING DEVICE AND PULLING APPARATUS - 特許庁

ドーピング方法およびその装置例文帳に追加

DOPING METHOD AND DEVICE THEREFOR - 特許庁

光照射によるドーピング方法例文帳に追加

DOPING METHOD BY LIGHT IRRADIATION - 特許庁

ＡＬＤ技術を用いたドーピング例文帳に追加

DOPING WITH ALD TECHNOLOGY - 特許庁

ホウ素ドーピングされたダイヤモンド例文帳に追加

BORON DOPED DIAMOND - 特許庁

ドーピングシリカ体の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING DOPING SILICA BODY - 特許庁

ドーピング層形成方法例文帳に追加

DOPED LAYER FORMING METHOD - 特許庁

イオンドーピング装置およびイオンドーピング装置の低塵化方法例文帳に追加

ION DOPING APPARATUS AND METHOD OF REDUCING DUST IN ION DOPING APPARATUS - 特許庁

イオンドーピング装置、イオンドーピング方法および半導体装置例文帳に追加

ION DOPING DEVICE, ION DOPING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

ドーパントをドーピングした半導体装置及びそのドーピング方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR DEVICE DOPED WITH DOPANT AND DOPING METHOD OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

イオンドーピング装置及びイオンドーピング装置用多孔電極例文帳に追加

ION DOPING DEVICE AND POROUS ELECTRODE FOR THE SAME - 特許庁

前記ドーピングパターンは互いに異なるドーピング濃度を有する。例文帳に追加

The doping pattern has mutually different doping concentrations. - 特許庁

固体膜へのドーピング方法およびドーピング・パターン形成方法例文帳に追加

DOPING METHOD TO SOLID FILM AND DOPING PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

感光性成分を含む試料へのドーピング方法及びそのドーピング装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR DOPING SAMPLE CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPONENT - 特許庁

半導体融液へのドーパントのドーピング効率を向上させることができるドーピング方法及びドーピング装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a doping method by which efficiency of doping a dopant into a semiconductor melt can be improved, and to provide a doping device. - 特許庁

ドーピング層はＦ_４ＴＣＮＱをドーピングすることが好ましく、ドーピング量は２０ａｔｏｍ％以下（ただし０は除く）であることが好ましい。例文帳に追加

It is also preferable that the doping layer is doped with F_4TCNQ at a rate of ≤20 atom% (except 0). - 特許庁

イオンドーピング装置、イオンドーピング装置用フィラメントおよびその製造方法例文帳に追加

ION DOPING DEVICE AND FILAMENT FOR ION DOPING DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

シリコン低温結晶化のための金属触媒ドーピング装置及びこれを利用したドーピング方法例文帳に追加

METAL CATALYST DOPING DEVICE FOR LOW TEMPERATURE SILICON CRYSTALLIZATION AND DOPING METHOD UTILIZING THE SAME - 特許庁

Ｐ型ドーピングにはホウ素、Ｎ型ドーピングには窒素を１０％（ａｔｍ）以下の濃度で含有させる。例文帳に追加

P-type doping contains boron and N-type doping contains nitrogen in a concentration of ≤10% (atm). - 特許庁

電極のフリードーピングシステム及びこれを用いる電極のフリードーピング方法例文帳に追加

FREE-DOPING SYSTEM OF ELECTRODE AND FREE-DOPING METHOD OF ELECTRODE USING THE SAME - 特許庁

安定して低濃度ドーピングが可能なプラズマドーピング方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma doping method capable of stably performing a low concentration doping. - 特許庁

第２の炭化シリコン領域は、第１のドーピング濃度よりも低い第２のドーピング濃度を有する。例文帳に追加

The second silicon carbide region has a second doping concentration lower than the first doping concentration. - 特許庁

ダイヤモンドへの不純物拡散あるいはドーピングを容易し、ドーピング効果を高める。例文帳に追加

To facilitate impurity diffusion or doping into diamond and to increase a doping effect. - 特許庁

ドーピング装置及びドーピング方法、並びに薄膜トランジスタの作製方法例文帳に追加

DOPING APPARATUS, DOPING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR THIN FILM TRANSISTOR - 特許庁

２−６族半導体への窒素ドーピング方法と２−６族半導体への窒素ドーピング装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR DOPING NITIROGEN TO GROUP II-VI SEMICONDUCTOR - 特許庁

面内均一性に優れたプラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma doping system and a plasma doping method, wherein an in-plane uniformity is superior. - 特許庁