| 例文 (7件) |
光化学汚染物質の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
毒性のある生物物質や化学物質と他の汚染物質の毒性を破壊し且つ光化学作用を示し且つ紫外光に耐性のある表面コーティングを提供する。例文帳に追加
To provide UV resistant surface coatings which exhibit photochemical activity that destroys toxic biological and chemical agents, and other contaminants. - 特許庁
なお、この光化学反応方法は、例えば、ダイオキシン類などの有害物質によって汚染された土壌または焼却灰の無害化処理に利用することが可能である。例文帳に追加
The photochemical reaction method can be utilized for detoxification treatment of the soil or incineration ash contaminated with harmful substances, for example, dioxins. - 特許庁
なお、この光化学反応装置は、例えば、ダイオキシン類などの有害物質によって汚染された土壌または焼却灰の無害化処理に用いることが可能である。例文帳に追加
For example, the photochemical reactor can be used in the detoxification treatment of soil polluted with a harmful substance such as dioxins or the like or incineration ash. - 特許庁
本発明は、紫外線顕微鏡に関し、紫外光と光路雰囲気中の汚染物質との光化学反応を発生させることなく、光学性能の低下を防止し、製品寿命を長くすることができる紫外線顕微鏡を提供する例文帳に追加
To provide an ultraviolet microscope which does not generate a photochemical reaction between ultraviolet rays and contaminants in an ambience of an optical path, and can prevent the degradation of optical performance and extend the lifetime of a product. - 特許庁
このような大気汚染物質の排出量は、燃料消費の増大に従って1980年代後半から急増しており、酸性雨、光化学スモッグなどの大気環境問題を引き起こしている。例文帳に追加
The emission of air-contaminating substances started rapidly increasing along with the expansion of fuel consumption from the second half of the 1980s and is causing air pollution problems such as acid rain and photochemical smog. - 経済産業省
半導体素子の製造工程における雰囲気の環境の汚染物質を調べるだけではなく、光化学反応による生成物を調べるために、実際に半導体露光装置で暴露されている環境下でフォトマスクのごく近傍の雰囲気の汚染物質を調べる分析方法及び捕集器を提供する。例文帳に追加
To provide an analysis method and collector for examining a contaminant in an atmosphere extremely near a photomask under an actually exposed environment by a semiconductor exposure device, so as not only to examine the contaminant in the atmospheric environment in a manufacturing process of a semiconductor element but also to examine a product by a photochemical reaction. - 特許庁
２つの作用である自己洗浄と自己浄化のコーティングは、表面に沿って移動する水滴を有することによって、汚染物質を除去し且つ表面の洗浄をできる超疎水性の態様と、紫外光と湿気の存在中に水酸基ラジカルを生成することによって表面を消毒できる光化学的に活性な態様とからなる。例文帳に追加
A dual action self-cleaning and self-decontaminating coating consists of a superhydrophobic aspect capable of removing contaminants and cleaning the surface by having water droplets moving along the surface and a photochemically active aspect capable of disinfecting the surface by producing hydroxyl radicals in the presence of UV radiation and moisture. - 特許庁
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