例文 (417件) |
収差測定の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 417件
収差測定装置例文帳に追加
収差測定装置例文帳に追加
ABERRATION MEASUREMENT APPARATUS - 特許庁
収差測定装置例文帳に追加
ABERRATION MEASURING DEVICE - 特許庁
収差測定装置例文帳に追加
収差測定方法、収差測定用原板ユニット、及び収差測定用原板例文帳に追加
ABERRATION MEASURING METHOD, NEGATIVE UNIT AND NEGATIVE FOR ABERRATION MEASUREMENT - 特許庁
波面収差測定装置例文帳に追加
波面収差測定装置例文帳に追加
波面収差測定装置例文帳に追加
波面収差測定装置例文帳に追加
APPARATUS FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION - 特許庁
収差測定方法例文帳に追加
METHOD OF ABERRATION MEASUREMENT - 特許庁
収差測定方法例文帳に追加
ABERRATION MEASUREMENT METHOD - 特許庁
収差測定方法及び収差測定システム例文帳に追加
METHOD AND SYSTEM FOR ABERATION MESUREMENT - 特許庁
波面収差測定装置及び波面収差測定方法例文帳に追加
MEASURING DEVICE AND METHOD OF WAVEFRONT ABERRATION - 特許庁
露光装置の収差測定方法および収差測定システム例文帳に追加
ABERRATION MEASURING METHOD AND SYSTEM OF EXPOSURE SYSTEM - 特許庁
収差測定装置及び収差測定方法例文帳に追加
ABERRATION MEASURING DEVICE AND ABERRATION MEASURING METHOD - 特許庁
収差測定用又は収差調整用の瞳フィルタ、収差測定方法および収差調整方法例文帳に追加
PUPIL FILTER FOR MEASURING OR ADJUSTING ABERRATION, METHOD OF MEASURING ABERRATION, AND METHOD OF ADJUSTING ABERRATION - 特許庁
収差測定方法と収差評価装置例文帳に追加
ABERRATION MEASURING METHOD AND ABERRATION EVALUATION APPARATUS - 特許庁
投影レンズの収差測定方法例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING ABERRATION OF PROJECTION LENS - 特許庁
収差測定誤差補正方法例文帳に追加
波面収差測定用干渉計例文帳に追加
INTERFEROMETER FOR MEASURING SAGITTAL - 特許庁
波面収差の測定方法例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION - 特許庁
収差測定誤差補正方法例文帳に追加
ABERRATION MEASUREMENT AND ERROR CORRECTION METHOD - 特許庁
ロッドレンズの収差測定方法例文帳に追加
ABERRATION MEASURING METHOD FOR ROD LENS - 特許庁
眼の高次収差測定装置例文帳に追加
HIGHER ORDER ABERRATION MEASUREMENT APPARATUS FOR EYES - 特許庁
収差測定装置及び調整装置例文帳に追加
ASTIGMATISM MEASURING APPARATUS AND ADJUSTMENT APPARATUS - 特許庁
コマ収差の測定用マスク及びコマ収差の測定方法例文帳に追加
MASK FOR MEASURING COMA ABERRATION AND MEASURING METHOD OF COMA ABERRATION - 特許庁
波面収差測定装置、露光装置及び波面収差測定方法例文帳に追加
DEVICE AND METHOD FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁
光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING WAVE FRONT ABERRATION IN OPTICAL SYSTEM - 特許庁
電磁レンズの球面収差測定方法及び球面収差測定装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SPHERICAL ABERRATION IN ELECTROMAGNETIC LENS - 特許庁
収差測定装置、収差測定方法、光学系、および、露光装置例文帳に追加
ABERRATION MEASURING DEVICE, ABERRATION MEASURING METHOD, OPTICAL SYSTEM, AND ALIGNER - 特許庁
光ピックアップの非点収差測定方法、非点収差調整方法、及び非点収差測定装置例文帳に追加
ASTIGMATISM MEASURING METHOD FOR OPTICAL PICKUP, ASTIGMATISM ADJUSTING METHOD AND ASTIGMATISM MEASURING DEVICE - 特許庁
球面収差測定パターンおよび測定方法例文帳に追加
SPHERICAL ABERRATION MEASURING PATTERN AND MEASURING METHOD - 特許庁
波面測定精度を向上させた波面収差測定方法、及び、波面収差測定機を提供する。例文帳に追加
To provide a method of measuring wavefront aberration and a wavefront aberration measuring instrument with wavefront aberration measuring accuracy enhanced. - 特許庁
走査透過電子顕微鏡、及び収差測定方法、ならびに収差補正方法例文帳に追加
SCANNING TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE, ABERRATION MEASURING METHOD, AND ABERRATION CORRECTION METHOD - 特許庁
収差補正装置、非点収差測定方法及び光ピックアップ例文帳に追加
ABERRATION CORRECTING DEVICE, ASTIGMATISM MEASURING METHOD, AND OPTICAL PICKUP - 特許庁
光学素子の波面収差測定方法及び波面収差補正方法例文帳に追加
METHOD OF MEASURING WAVE ABERRATION OF OPTICAL ELEMENT, AND METHOD OF CORRECTING WAVE ABERRATION - 特許庁
波面収差測定方法、波面収差測定系の校正方法、波面収差測定装置、及び投影露光装置例文帳に追加
WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, CALIBRATION METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT EQUIPMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS - 特許庁
フォーカス、像湾曲、非点収差、球面収差、コマ収差、及び/又はフォーカス面ずれが測定される。例文帳に追加
The focus, image curvature, astigmatism, spherical aberration, coma, and/or, focal plane deviation are measured. - 特許庁
波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加
WAVEFRONT ABERRATION MEASURING APPARATUS, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
波面収差測定方法、マスク、波面収差測定装置、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加
WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT METHOD, MASK, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
回折格子で発生する収差を測定可能な波面収差測定装置を提供する。例文帳に追加
To provide a wavefront aberration measuring device capable of measuring aberration to be generated in a diffraction grating. - 特許庁
波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加
WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
波面収差測定装置用光源装置、波面収差測定装置及び極端紫外線露光装置例文帳に追加
WAVE ABERRATION MEASURING APPARATUS, LIGHT SOURCE DEVICE THEREFOR, AND EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DEVICE - 特許庁
波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法。例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
波面収差測定装置、波面収差測定方法、及び被検レンズ保持調整機構例文帳に追加
WAVE ABERRATION MEASURING DEVICE, WAVE ABERRATION MEASURING METHOD AND INSPECTION LENS HOLDING ADJUSTING MECHANISM - 特許庁
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