「収差測定」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

シミュレーション部１１４は、収差測定部１１１を求めた収差と、散乱度合い演算部１１３で求めた係数に基づき、測定収差にその他の成分を加味した見え具合を示すデータまたは網膜像を形成する。例文帳に追加

A simulation part 114 forms data or the retinal image showing the degree of sight considering the other components in addition to the measured aberration based on the aberration measured by the aberration measuring part 111 and the coefficient calculated by the scatter degree calculation part 113. - 特許庁

この状態において、制御部は、ステップＳ１０２からステップＳ１０３に進んで、収差測定部により測定される収差が所定以下となるように、可変形状ミラーを駆動して収差補正制御を実行する。例文帳に追加

In such a state, the control part proceeds from a step S102 to a step S103, and drives the variable shape mirror to perform aberration correction control so that the aberration measured by the aberration measuring part may be equal to or less than the predetermined one. - 特許庁

もし、支配的な3次の球面収差が取り除かれるならば、5次までの残余の軸上収差は、非常に精度良く測定でき、そして補正できる。例文帳に追加

If the dominating third-order spherical aberration is eliminated, the residual axial aberrations up to the fifth order can be measured and compensated very precisely.  - 科学技術論文動詞集

フレネル領域での測定に起因する収差を補償する鏡面形状の収差補正副反射鏡１２を用いるものである。例文帳に追加

This system uses an aberration correction sub-reflection mirror 12 in the shape of a mirror surface for compensating the aberration caused by measurement in the Fresnel region. - 特許庁

広い波長域で使用する光学系であっても、波面測定精度を向上させた波面収差測定方法、及び、波面収差測定機を提供する。例文帳に追加

To provide a method of measuring wavefront aberration and a wavefront aberration measuring instrument with wavefront aberration measuring accuracy enhanced even where an optical system is used in a wide wavelength band. - 特許庁

簡単に精度よくラジアル型ＧＲＩＮレンズの媒質の色収差または色収差パラメータであるアッベ数の値を測定することができる測定機および測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide an equipment and a method for measuring the Abbe number, i.e., the chromatic aberration or chromatic aberration parameter, of a medium of a radial GRIN lens easily and accurately. - 特許庁

これにより、例えば、光ピックアップ出射光の波面収差測定を高精度に行う、光ピックアップ波面測定装置を簡素な系にて構成でき、収差測定時の水平方向の位置あわせを短時間で実現できる。例文帳に追加

Thereby, e.g. an optical pickup wavefront measuring device for highly accurately measuring wavefront aberration of the light emitted from the optical pickup can be constituted with a simple system and alignment in a horizontal direction during aberration measurement can be performed in a short period of time. - 特許庁

そして、着脱機構は、投影光学系の波面収差を測定する位置である測定位置から離れた退避位置で波面収差測定ユニット３５を着脱する。例文帳に追加

The loading/unloading mechanism loads or unloads the wave-front aberration measuring unit 35 at the drawing position separated from the measuring position as the position to measure the wave-front aberration of the projected optical system. - 特許庁

電磁レンズにおける色収差係数測定方法及び走査透過電子顕微鏡例文帳に追加

CHROMATIC ABERRATION COEFFICIENT MEASURING METHOD IN ELECTROMAGNETIC LENS AND SCANNING TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE - 特許庁

眼の屈折収差測定に好適な波面検知システム及び波面検知方法を提供する。例文帳に追加

To provide a wavefront detection system suitable for refraction aberration measuring for an eye and a wavefront detection method. - 特許庁

波面分析により光学系の収差を客観的に測定するための方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for objectively measuring aberration of an optical system by wavefront analysis. - 特許庁

平版投射装置、回折モジュール、センサモジュールおよび波面収差を測定する方法例文帳に追加

LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS, DIFFRACTION MODULE, SENSOR MODULE, AND METHOD OF MEASURING WAVE FRONT ABERRATION - 特許庁

他覚的屈折波面収差測定装置、手術用顕微鏡およびスリットランプ例文帳に追加

INSTRUMENT FOR OBJECTIVE MEASUREMENT OF REFRACTIVE WAVEFRONT ABERRATION, SURGICAL MICROSCOPE, AND SLIT LAMP - 特許庁

ＥＵＶリソグラフィシステムのために調整された反射型回折素子の収差測定方法および装置例文帳に追加

METHOD AND EQUIPMENT FOR MEASURING ABERRATION OF REFLECTIVE DIFFRACTION ELEMENT ADJUSTED FOR EUV LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

干渉計を構成する光学部材によって生じる収差を取り除いて精度の高い測定を行う。例文帳に追加

To perform highly accurate measurements by eliminating aberrations caused by optical members constituting an interferometer. - 特許庁

波面収差測定装置、露光装置並びに半導体装置の製造システムおよびその製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, ALIGNER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING SYSTEM AND METHOD - 特許庁

フィゾー干渉計方式によって、屈折率分布型ロッドレンズの収差測定を可能とする。例文帳に追加

To measure the aberration of a refractive index distribution type rod lens by a Fizeau interferometer system. - 特許庁

収差の少ない紫外光を干渉計等の光学測定機器に導入すること。例文帳に追加

To introduce ultraviolet light having little aberration into an optical measuring apparatus such as an interferometer. - 特許庁

シミュレーション部は、測定された波面収差成分による視標の影響度合いを求める。例文帳に追加

A simulation member calculates the degree of affection of the measured wavefront aberration element on eyes. - 特許庁

レーザ光照射装置から出射されるレーザ光の波面収差を精度よく測定する。例文帳に追加

To accurately measure wavefront aberrations of laser light emitted from a laser light irradiating device. - 特許庁

以後、基準イメージと比較イメージとの間の距離を測定して露光ビームの収差角を決める。例文帳に追加

Thereafter, the aberration angle of the exposure beam is determined by measuring a distance between the reference image and the comparison image. - 特許庁

収差がなく入射角が小さい全反射吸収測定用プリズムを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a total reflection absorption measuring prism having no aberration and small angle of incidence. - 特許庁

光学収差に対して表面高さ測定値を補正するためのシステムおよび方法が提供される。例文帳に追加

A system and a method for correcting a measured value of a surface height against an optical aberration are provided. - 特許庁

短時間で被検光学系の光学性能（波面収差など）を高精度に測定する。例文帳に追加

To measure optical performance (wavefront aberrations, etc.) of an optical system to be inspected with high accuracy, in a short time. - 特許庁

さらに、コンピュータは、動的収差により生じる動作誤差信号を測定する。例文帳に追加

Further, the computer measures an operational error signal that results from dynamic aberrations. - 特許庁

コーナーキューブ等の測定対象物の光学性能（例えば、収差）を高精度に評価する。例文帳に追加

To accurately evaluate optical performance such as an aberration of a measurement object such as a corner cube. - 特許庁

波面収差測定装置、ピンホールマスク、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

WAVE FRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, PIN HOLE MASK, PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

鏡筒の片ぼけや、光軸傾き、像面湾曲収差を精度良く測定できるようにすることである。例文帳に追加

To accurately measure the one-side blur, optical-axis inclination and image plane curve aberration of a lens barrel. - 特許庁

光学系の収差の影響を排除して薄膜の膜厚の測定精度を向上させる。例文帳に追加

To eliminate an effect of an aberration of an optical system, and improve the measurement precision of a film thickness of a thin film. - 特許庁

被検光学系の波面収差を高精度に測定することが可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of measuring wave aberration of an optical system to be inspected with high precision. - 特許庁

収差測定装置及び方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING ABERRATION, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE - 特許庁

レンズ収差測定方法およびそれに用いるホトマスクならびに半導体装置の製造方法例文帳に追加

LENS ABERRATION MEASURING METHOD, PHOTOMASK USED THEREFOR AND FABRICATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

WAVE ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

荷電粒子線露光装置における非点収差ボケ発生感度の測定方法及び露光方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING ASTIGMATISM BLUR GENERATION SENSITIVITY IN CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL LITHOGRAPHIC SYSTEM AND OPTICAL LITHOGRAPHIC METHOD - 特許庁

そして、測定した前記マークの像のずれに基づいてアライメント光学系の収差を補正する。例文帳に追加

Based upon the measured deviation of the images of the mark, the aberration of the optical alignment system is then corrected. - 特許庁

光学波面検知システム及びその検知方法、並びに眼の屈折収差測定システム及びその測定方法例文帳に追加

OPTICAL WAVEFRONT DETECTION SYSTEM AND ITS DETECTION METHOD AND ALSO REFRACTION ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM FOR EYE AND ITS MEASURING METHOD - 特許庁

シェーディングと色収差による焦点ズレを測定できる顕微鏡視野光量分布測定装置を実現する。例文帳に追加

To provide a device for measuring microscope field light quantity distribution capable of measuring a focus deviation due to shading and color aberration. - 特許庁

光学システムの収差は、瞳面における輝点の相対位置を測定することによって測定することができる。例文帳に追加

Aberrations in the optical systems can be measured by measuring the relative positions of bright spots in the pupil plane. - 特許庁

任意の偏光光に対する被検光学系の波面収差を、短時間、且つ、簡易に測定することができる測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a measuring method which can measure the wave aberration of an optical system as a measurement target to given polarization light in a short time and in an easy and convenient manner. - 特許庁

簡易な構成で高精度に被検光学系の波面収差を測定することができる測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a measuring instrument highly accurately measuring wavefront aberration of an optical system to be measured by a simple configuration. - 特許庁

レンズの球面収差の影響を考慮した正確な被測定物の位置測定を可能にする共焦点光学装置及びその方法を提供する。例文帳に追加

To provide a confocal optical device and its method, which accurately measures a position of a measuring object while considering an influence by spherical aberration of a lens. - 特許庁

出射光測定装置は、出射光をデフォーカスさせ、ビームスポットの形状から収差等の特性を測定する。例文帳に追加

The outgoing light measuring device defocuses the outgoing light and measures the characteristics such as aberration from a shape of the beam spot. - 特許庁

光ピックアップの収差などの特性を容易に測定し、且つ安価に構成される光ピックアップの出射光測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide an outgoing light beam measuring apparatus of an optical pickup which measures the characteristics such as aberration of the optical pickup easily and is constituted at a low price. - 特許庁

また、本発明のシステムは、眼の解剖学的局部位および収差を測定する測定ユニットと、電子計算ユニットとを有している。例文帳に追加

This system has a measuring unit for measuring the anatomical area and aberrations of the eye and an electronic computation unit. - 特許庁

被検光学系（投影光学系）の波面収差を高精度に測定することができる測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a measurement apparatus capable of highly precisely measuring the wavefront aberration of a target optical system (projection optical system). - 特許庁