「収差測定」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

また，ラインアンドスペース部の先端は露光条件の変化や収差に対して敏感にその形状が変化するため，感度の高い測定方法となる。例文帳に追加

Since an end of the space is sensitively changed in its shape with respect to the change of exposure condition or the aberration, the measuring method becomes highly sensitive. - 特許庁

Ｚステージ２２Ｚ上の精度基準マーク２３ａ，２３ｂを利用して定期的に光学系の精度を測定し、収差や照明テレセン、ケラレなどを調整する。例文帳に追加

The accuracy of the optical system is measured periodically, utilizing the accuracy reference marks 23a and 23b on the Z stage 22Z to adjust an abberation, lighting telecentric, eclipse and the like. - 特許庁

更に、加速電圧と非点補正コイル励磁電流を変えながら測定した一連のフレームに対して鮮鋭度を評価し前記非点補正コイル励磁電流を最適値に設定して非点収差を自動補正する。例文帳に追加

In addition, sharpness is evaluated for a sequence of frames measured, while the acceleration voltage and astigmatism correction coil exciting current are varied, the astigmatism correction coil exciting current is set to the optimal value, and astigmatism is corrected automatically. - 特許庁

波面収差測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, OPTICAL PROJECTION SYSTEM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, PROJECTION ALIGNER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MICRO DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁

汎用のカメラやデジタルカメラにおいて、レンズ収差を補正するのに必要な内部パラメータを簡便に測定できるキャリブレーション装置を提供する。例文帳に追加

To provide a calibration apparatus by which an internal parameter required for correcting an aberration of a lens is measured simply in a general- purpose camera and a digital camera. - 特許庁

可干渉距離の短い光束でも干渉縞を観察することができ、なおかつ、光源波長のばらつきに影響されることなく干渉縞を観察することができる波面収差測定用干渉計の提供を課題とする。例文帳に追加

To observe an interference fringe even in a beam of a short interference distance, and to observe the interference fringe without being affected by dispersion of a wavelength in a light source. - 特許庁

これをステッパを用いてウェハ上に転写，形成すると，その幅寸法のため，ラインアンドスペース部の外縁部の形状は直線的な形状となり，光学測長機での測定が可能となり，収差成分の評価ができる。例文帳に追加

When the patterns are transferred and formed on a wafer by using the stepper, a shape of an outer edge of the space becomes a linear shape due to its width size, and can be measured by the instrument, thereby evaluating an aberration component. - 特許庁

アライメント誤差の発生量と収差の発生量との対応関係を、コンピュータシミュレーションにより求めるとともに、アライメント誤差の実際の発生量を測定する。例文帳に追加

The correspondence relationship between the amount of generation of an alignment error and the amount of generation of aberration is obtained by computer simulation, and the actual amount of generation of the alignment error is measured. - 特許庁

パターン形成方法、光学素子の製造方法、マイクロレンズアレイの製造方法、投影露光装置の照明装置、投影露光装置、及び収差測定装置例文帳に追加

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS ARRAY, ILLUMINATOR FOR PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNER AND ABERRATION MEASURING INSTRUMENT - 特許庁

また、測定部１１１は、収差結果に基づいてアブレーション量を演算し、その演算結果を入出力部１１５を介して手術装置に出力する。例文帳に追加

Further, the measuring part 111 calculates an aberration quantity on the basis of the aberration result and outputs the result to surgery operating equipment through an input-output part 115. - 特許庁

次に、支持装置２０に球面ミラーをセットするとともに、コリメートレンズ６１をレーザ光の光路内に配置して、球面ミラーからの反射光の波面収差Ｂ２を測定する。例文帳に追加

A spherical mirror is set on the support device 20, and the collimator lens 61 is disposed in an internal part of the optical path of the laser light for measuring a wavefront aberration B2 of the reflected light from the spherical mirror. - 特許庁

被検光学系の光軸が重力方向と異なる場合であっても、被検光学系からの光の波面（波面収差）を高精度に測定することができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology capable of measuring a wavefront (wavefront aberration) of light from an optical system to be inspected with high accuracy, even when the optical axis of the optical system to be inspected is different from a direction of the center of gravity. - 特許庁

半導体検査装置やレーザ加工装置に用いられる対物レンズの瞳径は、シャックハルトマンセンサの検出視野を超える場合があるので、1回の撮像では瞳全体の収差を測定することはできない。例文帳に追加

To solve a problem wherein, since there is the case where a pupil diameter of an objective lens used for a semiconductor inspection device or a laser processing device exceeds a field of view detected by Shack-Hartmann sensor, an aberration of the whole pupil cannot be measured by one-time imaging. - 特許庁

偏光状態に依らず測定光あるいは戻り光のすくなくともいずれかを変調することができ、収差を補正して光画像のＳＮ比の向上が可能となる光画像撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light image capturing apparatus capable of modulating at least one of measuring light and return light regardless of a polarization state, correcting an aberration and improving the SN ratio of light images. - 特許庁

色収差による焦点差を利用して、被検物の表面形状に応じた高精度な測定ができる計測装置およびその計測方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a measuring device capable of highly accurate measurement of an object to be inspected depending on a surface shape of the object by using a difference in focuses due to chromatic aberration, and to provide a method of measuring the same. - 特許庁

色収差による焦点差を利用して高精度に被検物を測定することができる計測装置およびその計測方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a measuring device capable of highly accurate measurement of an object to be inspected using a difference in focuses due to chromatic aberration, and to provide a method of measuring the same. - 特許庁

光学素子の製造方法、この製造方法により製造された光学素子、この光学素子を用いた露光装置の製造方法及び収差測定装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, OPTICAL ELEMENT MANUFACTURED BY THE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ALIGNER AND ABERRATION MEASURING INSTRUMENT USING THE OPTICAL ELEMENT - 特許庁

また、測定部１１１は、収差結果に基づいてアブレーション量を演算し、その演算結果を入出力部１１５を介して手術装置に出力する。例文帳に追加

The unit 111 also calculates an ablation amount based on an aberration result, and outputs its calculated result to the operating system via an I/O unit 115. - 特許庁

これにより、パターン転写時に、収差に起因して、２層目の重ね合わせ検査マークのパターン２と、２層目の本番パターン１とに生じる位置ずれ量の相違を、重ね合せ測定において許容できる範囲にできる。例文帳に追加

Thus, the difference in positional deviation values generated in the overlap inspection mark pattern 2 in the second layer and the production pattern 1 in the second layer can be obtained within an allowable range at overlap measurement. - 特許庁

作業者による目視検査によらずに、簡単な構成で自動的にレンズの特性や収差を高速かつ高精度に測定・検査可能にすることを目的とする。例文帳に追加

To automatically measure and inspect a characteristic and an aberration of a lens in a short time with high precision by means of a simple structure without depending on any visual inspection by a worker. - 特許庁

光学素子（対物レンズＯＢＪ）を成形する金型１に、部品種類識別用のマークＭＫ２と、収差測定方向基準となるマークＭＫ１とを形成する凹部をフランジ部転写面に形成しておく。例文帳に追加

In a metal mold 1 for forming an optical element (an objective lens OBJ), recessed portions for forming a mark MK2 for component type distinction and a mark MK1 as an aberration measurement direction reference are previously formed on a flange portion transfer surface. - 特許庁

波面収差測定ユニット７５の検出面７６を主制御系３３に予め記憶された基準位置に基づいて、ＡＦセンサ４５を用いて投影光学系ＰＬの結像面に合わせ込む。例文帳に追加

The detecting surface 76 of a wave-front aberration measuring unit 75 is set to the focusing surface of a projected optical system PL using an AF sensor 45 based on the reference position previously stored in a control system 33. - 特許庁

マスクの製造方法、このマスクを用いた光学素子の製造方法、光学素子の製造方法、この製造方法により製造された光学素子を用いた露光装置の製造方法及び収差測定装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING MASK, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE SYSTEM USING OPTICAL ELEMENT PRODUCED BY THIS METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ABERRATION MEASURING DEVICE - 特許庁

使用環境や使用状況により光学系に狂いが生じた場合、２つに分岐したそれぞれの光路で生じた収差の差を取り除き、精度の高い測定を行う。例文帳に追加

To remove the difference between the aberrations generated in respective light paths divided into two when deviation is generated in an optical system by use environment or a use state to perform highly accurate measurement. - 特許庁

パターン形成装置による放射強度分布を測定してレンズ発熱収差効果の予測を可能とするリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a lithography device in which an emission strength distribution made by a pattern forming unit is measured to enable the forecast of a lens heat generation aberration effect, and also provide a device manufacturing method. - 特許庁

被検レンズを実装するときの環状平面部（Ｒ２平面部）を基準にして、被検レンズの光軸を干渉計光軸と一致させ、干渉計による透過波面収差の測定ができる方法及び装置を得る。例文帳に追加

To provide a method and a device for making the optical axis of a lens to be inspected coincide with that of an interferometer, by using as a reference an annular plane portion (plane R2 portion) for mounting the lens to be inspected, and measuring transmission wavefront aberrations by the interferometer. - 特許庁

測定されたAXをリスティングの法則に基づいた眼球の回旋により検出される値に一致するよう補正し(S8)、レンズの各部位での平均屈折力偏差ΔAPと、非点収差偏差ΔASとを求める(S9)。例文帳に追加

The measured AX is corrected so as to conform with the value detected by turn of a bulbus oculi, based on a Listing's law (S8), so as to find an average refractivity deviation ΔAP in the each portion of the lens and an astigmatism deviation ΔAS therein (S9). - 特許庁

コントラスト感度と被検眼の瞳の径とを同時に測定することによって、被検眼の収差が容易に得られるコントラストチャート装置を提供する。例文帳に追加

To provide a contrast chart device capable of easily obtaining an aberration of an eye to be tested by simultaneously measuring the contrast sensitivity and the diameter of a pupil of the eye to be tested. - 特許庁

ウエハステージ上に交換可能に載置され、ウエハを保持するホルダとほぼ同一形状の受光筐体８２内に波面収差測定装置８１の受光部８５を収容する。例文帳に追加

A light receiving portion 85 of the wave-front aberration measuring apparatus 81 is accommodated within a light receiving cabinet 82, placed on a wafer stage for exchange, of almost the same shape as a holder to hold wafer. - 特許庁

投影光学系の波面収差を、該投影光学系を投影露光装置に搭載した状態で、簡易かつ高精度に測定することができる投影露光装置を実現すること。例文帳に追加

To realize a projection aligner in which the wave front aberration of a projection optical system can be measured easily with high accuracy under a state where the projection optical system is mounted on the projection aligner. - 特許庁

そして、光ディスク装置１は、ここで測定した光ディスク１０の反り、および球面収差に基づく物理的特徴情報を光ディスク１０のＲＭＡに記録する。例文帳に追加

Then, the optical disk device 1 records the measured warp of the optical disk 10 and the physical feature information based on the spherical aberration onto the RMA of the optical disk 10. - 特許庁

干渉縞に高周波成分が重畳されてしまう光学素子についてツェルニケ展開を行ったときにも、得られる多項式の直交性を保つことのできる収差測定方法を提供する例文帳に追加

To provide an aberration measurement method for maintaining orthogonality in an polynomial obtained, when Zernike expansion is carried out in an optical element, in which high-frequency components are superimposed on interference pattern. - 特許庁

前記測定構造の光路には、結像面軸方向の倍率色収差の補償が行われるように入射光線の波面を波長別に傾斜させる補償器（２２）が備えられる。例文帳に追加

A compensator (22) is provided in the path of rays of the measuring structure for tilting the wave face of the incident radiation at each wavelength so that the chromatic difference of magnification is compensated in the direction of an axis relative to the image formation surface. - 特許庁

光学素子（対物レンズＯＢＪ）を成形する金型１に、部品種類識別用のマークＭＫ２と、収差測定方向基準となるマークＭＫ１とを形成する凹部をフランジ部転写面に形成しておく。例文帳に追加

A concave section for forming a mark MK2 for part type recognition and a mark MK1 for an aberration measurement reference is formed on the mold 1 for molding the optical element (an objective lens OBJ) in a transfer surface of a flange section. - 特許庁

レンズの球面収差による光リング像を検出して光源までの距離を計測する場合に、その測定可能距離を伸ばすことができる位置計測システムを提供する。例文帳に追加

To provide a position measuring system capable of elongating its measurable distance, when detecting an optical ring image caused by spherical aberration of a lens and measuring the distance to a light source. - 特許庁

コンピュータシミュレーションにより、測定用レンズ１と基準球面反射鏡７との間に、厚みが既知の模擬平行平板が配置された状態での模擬透過波面測定を行い、測定用レンズ１および模擬平行平板を透過してなる模擬透過波面の球面収差と模擬平行平板の厚みとの対応関係を求める。例文帳に追加

A simulated transmission wavefront is measured in with a simulated parallel flat plate having a known thickness arranged between a measuring lens 1 and a reference spherical reflecting mirror 7, by means of computer simulation, and a correspondence relation is determined, between spherical aberration of the simulated transmission wavefront acquired by transmission through the measuring lens 1 and the simulated parallel flat plate and the thickness of the simulated parallel flat plate. - 特許庁

半導体ウェハ上に光を照射する複数のレンズ１１０と、半導体ウェハのトポグラフィーを測定し、このトポグラフィーに応じたデータを生成するレベリングセンサ１２２と、レベリングセンサからのデータを受け、ある焦点面に誘起させる収差を決定するアナイライザ１１２と、複数のレンズのうち少なくとも１つのレンズを調整して収差を誘起させるコントローラ１１４とを具備する。例文帳に追加

Semiconductor wafer exposure apparatus includes a plurality of lenses 110 for illuminating light on a semiconductor wafer, a leveling sensor 122 for measuring a topography of the semiconductor wafer to generate data according to the topography, an analyzer 112 for defining an aberration induced on a focal plane by receiving data from the leveling sensor, a controller 114 for inducing the aberration by regulating at least a lens in a plurality of lenses. - 特許庁

収差性能が良好な光ピックアップを簡素な光学系にて、短時間で高精度に測定する光ピックアップ波面収差検査装置、光ピックアップ組立調整装置、さらには、レンズ評価装置、レンズ組立装置、光ピックアップ用対物レンズアクチュエータ組立調整装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical pickup wavefront aberration inspection apparatus highly accurately measuring an optical pickup having satisfactory aberration performance in a short period of time by a simple optical system, to provide an optical pickup assembly adjustment device and to provide a lens evaluation device, a lens assembly device and an objective lens actuator assembly adjustment device for the optical pickup. - 特許庁

光ヘッド及び光ディスク装置に使用されている光ピックアップレンズの取り付けにあたり、光ピックアップレンズの性能評価の一つである波面収差測定の結果が良好な光ピックアップレンズを光ヘッドに良好な光スポットを容易に得られるように取り付けを行う。例文帳に追加

To attach an optical pickup lens where a result of wavefront aberration measurement as one of performance evaluations of the optical pickup lens is good so as to easily obtain a good optical spot for an optical head, when the optical pickup lens used for the optical head and the optical disk device. - 特許庁

補償光学系を用いた光画像の撮像において、被検査物の光画像を取得するときにはレンズの中心部分を利用する光学系を用いても、安定した波面収差の測定が可能となる光画像の撮像方法を提供する。例文帳に追加

To provide an optical image capturing method capable of measuring the stable wavefront aberration if an optical system using the center of a lens to acquire the optical image of a test object is used in capturing the optical image using a compensation optical system. - 特許庁

空間光変調手段を用いた補償光学系により、偏光状態に依らず測定光あるいは戻り光を変調することができ、収差を補正して光画像のＳＮ比を向上させることが可能となる光画像撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical imaging apparatus modulating measuring light or return light regardless of a polarization state by a compensation optical system using a spatial optical modulation means and enhancing the SN ratio of an optical image by correcting aberration. - 特許庁

画像処理部１４は、撮像素子１３の出力から複数のＭＬと色収差の両方の作用によって得られる異なる焦点を有する複数の焦点画像Ｉ_m，Ｉ_c1を生成し、生成した複数の焦点画像Ｉ_m，Ｉ_c1に基づいて、高い精度で被検物Ｐの形状を測定できる。例文帳に追加

An image processing part 14 generates a plurality of focal images I_m, I_c1 having each different focal point acquired by actions of both the plurality of MLs and chromatic aberration from output of the imaging element 13, and can measure the shape of the specimen P with high accuracy based on the plurality of generated focal images I_m, I_c1. - 特許庁

少なくとも１つが、少なくとも１つの定置光学部材(8)に対して相対的に動かされる、複数の光学部材(7,8)の結像特性を最適化するために、まず、すべての光学部材(7,8)を協働させて全体的結像収差を測定する(19)。例文帳に追加

In order to optimize the image properties of several optical elements (7, 8) of which at least one is moved relative to at least one stationary optical element (8), the overall image defect resulting from the interaction of all optical elements (7, 8) is first of all measured (19). - 特許庁

光学素子に対する透明平行平面板の姿勢を維持しつつ、基準光の波長に合わせた透明平行平面板を交換することができ、これにより光学素子の評価の作業効率を向上させることのできる収差測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aberration measuring device capable of replacing a transparent plane-parallel plates fitting to a wavelength of reference light, while holding an attitude of the transparent plane-parallel plate against optical elements, and thus enhancing working efficiency of evaluation for optical elements. - 特許庁

被検光学系の評価にあたり、大がかりな装置を用いることなく被検光学系通過光波が持つ詳細な光学的性能情報を取得することを可能とし、光量分布や波面収差等の光学的特性を測定・評価する。例文帳に追加

To acquire detailed optical performance information held by a test optical system transmitted light wave without using a large-scale device, and to measure/evaluate the optical characteristic such as a light quantity distribution or wavefront aberration, when evaluating the test optical system. - 特許庁