例文 (803件) |
精製処理の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 803件
アンモニアの製造方法は、空気分離で得た窒素ガスと、水の電解法により発生した水素ガスとを混合し、混合ガスを、酸化触媒を充填した微量酸素除去用酸化反応器5に導入して、混合ガス中の微量酸素を許容値まで低減した後、混合ガスを、吸着剤を充填した微量水分除去用吸着器6A,6Bに導入して、混合ガス中の微量水分を許容値まで低減する精製処理を実施する。例文帳に追加
Nitrogen gas obtained by air separation and hydrogen gas generated by electrolysis of water are mixed, and the mixed gas is refined by introducing it into an oxidizing reactor 5 filled with an oxidizing catalyst for removing a trace amount of oxygen to an allowed value and then into absorbers 6A, 6B for removing a trace amount of moisture to an allowed value. - 特許庁
メルカプト基含有炭化水素基を有する固体酸触媒の存在下、強酸型陽イオン交換樹脂と接触させた後、さらに蒸留処理をして得られたフェノールとアセトンとを反応させてビスフェノールAを製造する方法において、原料として使用するフェノールの精製効果を安定に発揮させることにより触媒劣化を防止し、安定的かつ低コストのビスフェノールAの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for stably producing bisphenol A at a low cost while preventing the deterioration of a catalyst through the stable exhibition of purifying effect on phenol used as a raw material when producing bisphenol A by bringing phenol into contact with a storing acid-type cation exchange resin, and then by reacting the phenol obtained by distillation treatment with acetone in the presence of a solid acid catalyst having mercapto group- containing hydrocarbon group. - 特許庁
ヘキサメチレンジイソシアネートモノマーから誘導されるポリイソシアネートであって、ヘキサメチレンジイソシアネートモノマー質量濃度が0.1〜20質量%の範囲において、60〜200℃の温度で10〜360分間の熱処理を行った後、余剰のヘキサメチレンモノマーを除去精製することを特徴とする、ヘキサメチレンジイソシアネートモノマー及び溶剤を実質的に含まない、25℃における粘度が300〜4000mPa・sであるイソシアヌレート型ポリイソシアネート組成物の製造方法。例文帳に追加
The method for producing an isocyanurate type polyisocyanate composition substantially not containing a hexamethylene diisocyanate monomer and a solvent and having 300-4,000mPa s viscosity at 25°C comprises heat-treating a polyisocyanate derived from a hexamethylene diisocyanate monomer at 0.1-20 mass% of hexamethylene diisocyanate monomer mass concentration at 60-200°C for 10-360 minutes and then removing and purifying excessive hexamethylene diisocyanate monomer. - 特許庁
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