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Plating Methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5154件
PLATING BATH OF COPPER PYROPHOSPHATE, PLATING BATH OF ZINC PYROPHOSPHATE, AND PLATING METHOD WITH THESE PLATING BATHS例文帳に追加
ピロりん酸銅めっき浴及びピロりん酸亜鉛メッキ浴並びにこれらのメッキ浴を用いたメッキ方法 - 特許庁
COPPER BALL FOR ANODE FOR COPPER PLATING, PLATING APPARATUS, COPPER PLATING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING PRINTED BOARD例文帳に追加
銅めっきの陽電極用銅ボール、めっき装置、銅めっき方法、及びプリント基板の製造方法 - 特許庁
PLATING TOOL AND METHOD OF PLATING ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME例文帳に追加
めっき用治具とこれを用いた電子部品のめっき方法 - 特許庁
To provide a high-efficiency plating apparatus and plating method.例文帳に追加
高効率のめっき装置及びめっき方法を提供する。 - 特許庁
PLATING METHOD, PLATING APPARATUS AND ELECTROPLATED BATTERY CAN例文帳に追加
メッキ方法、メッキ装置および電気メッキが施された電池缶 - 特許庁
ELECTRIC ALUMINUM PLATING BATH AND PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電気アルミニウムめっき浴及びそれを用いためっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH AND METHOD FOR ELECTROLESS NICKEL PLATING例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴及び無電解ニッケルめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS PALLADIUM PLATING BATH AND ELECTROLESS PALLADIUM PLATING METHOD例文帳に追加
無電解パラジウムめっき浴及び無電解パラジウムめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS COBALT PLATING SOLUTION AND ELECTROLESS COBALT PLATING METHOD例文帳に追加
無電解コバルトめっき液及び無電解コバルトめっき方法 - 特許庁
ION PLATING FILM FORMING APPARATUS AND ION PLATING FILM FORMING METHOD例文帳に追加
イオンプレーティング成膜装置、及びイオンプレーティング成膜方法。 - 特許庁
PLATING METHOD AND PLATING DEVICE USING INSOLUBLE ANODE例文帳に追加
不溶性陽極を使用するめっき方法及びその装置 - 特許庁
ELECTROLESS COMPOSITE PLATING BATH AND ELECTROLESS COMPOSITE PLATING METHOD例文帳に追加
無電解複合めっき浴及び無電解複合めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION AND ELECTROLESS COPPER PLATING METHOD例文帳に追加
無電解銅メッキ液組成物及び無電解銅メッキ方法 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH, AND PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴及びそれを用いためっき方法 - 特許庁
PHOTODEPOSITION GOLD PLATING METHOD AND GOLD PLATING FORMATION APPARATUS例文帳に追加
光析出による金メッキ法及び金メッキ膜形成装置 - 特許庁
ELECTROLYTIC ALLOY PLATING SOLUTION, AND PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電解合金めっき液及びそれを用いるめっき方法 - 特許庁
SUBSTITUTED GOLD PLATING BATH AND METAL PLATING METHOD USING THE BATH例文帳に追加
置換金メッキ浴及び当該浴を用いた金メッキ方法 - 特許庁
ELECTROLESS GOLD-PLATING LIQUID AND PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解金めっき液およびそれを用いためっき方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING METAL-COATED RESIN SUBSTRATE, PLATING APPARATUS, AND PLATING METHOD例文帳に追加
金属被覆樹脂基板の製造方法、めっき装置及びめっき方法 - 特許庁
ELECTROLYTIC PLATING METHOD AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
電解めっき処理方法と装置 - 特許庁
METHOD FOR CONTROLLING MULTILAYER PLATING STAGE例文帳に追加
多層めっき工程の管理方法 - 特許庁
PLATING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PLATING PROCESS SYSTEM例文帳に追加
めっき方法、半導体装置の製造方法およびめっき処理システム - 特許庁
POSTTREATMENT METHOD FOR GOLD PLATING FILM例文帳に追加
金めっき皮膜の後処理方法 - 特許庁
PLATING METHOD ON ALUMINIUM ALLOY例文帳に追加
アルミニウム合金上のめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS CONVERSION GOLD-PLATING METHOD例文帳に追加
置換型無電解金めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD FOR FINE PARTICLE例文帳に追加
微粒子の無電解めっき方法 - 特許庁
CIRCUIT BOARD, AND PLATING METHOD THEREOF例文帳に追加
配線基板及びそのメッキ方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING LIQUID, ELECTROLESS PLATING METHOD, AND PRODUCTION METHOD FOR CIRCUIT BOARD例文帳に追加
無電解めっき液、無電解めっき方法、回路基板の製造方法 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING AND ELECTROLESS PLATING METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加
無電解メッキの前処理方法および該基材の無電解メッキ方法 - 特許庁
METHOD OF PRETREATMENT TO ELECTROLESS PLATING例文帳に追加
無電解めっきの前処理方法 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING例文帳に追加
無電解めっき用前処理方法 - 特許庁
MOUNTING METHOD FOR CIRCUIT BOARD, GOLD PLATING FLUID AND GOLD PLATING METHOD例文帳に追加
回路基板の実装方法及び金めっき液並びに金めっき方法 - 特許庁
LEVELLING AGENT FOR PLATING, ADDITIVE COMPOSITION FOR ACIDIC COPPER PLATING BATH, ACIDIC COPPER PLATING BATH, AND PLATING METHOD USING THE PLATING BATH例文帳に追加
めっき用レベリング剤、酸性銅めっき浴用添加剤組成物、酸性銅めっき浴および該めっき浴を用いるめっき方法 - 特許庁
PLATING SOLUTION CONTROL DEVICE, PLATING APPARATUS PROVIDED THEREWITH, AND METHOD FOR PREPARING COMPOSITION OF PLATING SOLUTION例文帳に追加
メッキ液管理装置、それを備えたメッキ装置、およびメッキ液組成調整方法 - 特許庁
VESSEL FOR PLATING TREATMENT, BARREL PLATING EQUIPMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING VESSEL FOR PLATING TREATMENT例文帳に追加
めっき処理用容器、バレルめっき装置、及びめっき処理用容器の製造方法 - 特許庁
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