例文 (999件) |
RESIST MATERIALの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1761件
RESIST MATERIAL例文帳に追加
レジスト材料 - 特許庁
RESIST MATERIAL, AND RESIST MATERIAL FOR ELECTRON BEAM RECORDING例文帳に追加
レジスト材料および電子線記録用レジスト材料 - 特許庁
EVALUATION METHOD OF RESIST MATERIAL例文帳に追加
レジスト材料の評価方法 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト材料 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING RESIST MATERIAL, RESIST MATERIAL, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
レジスト材料の製造方法およびレジスト材料ならびに露光方法 - 特許庁
RESIST MATERIAL, RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト材料、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION USING THE RESIST MATERIAL例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST MATERIAL FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING RESIST MATERIAL例文帳に追加
液浸露光プロセス用レジスト材料および該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST IMAGE FORMING MATERIAL, RESIST IMAGE FORMING MATERIAL USING SAME AND RESIST IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト画像形成材料、レジスト画像形成材、及びレジスト画像形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, MULTILAYER RESIST MATERIAL USING THE SAME AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、それを用いた多層レジスト材料及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE RESIST MATERIAL例文帳に追加
液浸露光プロセス用レジスト組成物、該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST UNDERCOAT FORMING MATERIAL AND MULTILAYER RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト下層膜形成材料及び多層レジストパターン形成方法 - 特許庁
The resist pattern containing the resist material is formed on a microelectronic substrate.例文帳に追加
レジスト物質を含むレジストパターンを微細電子基板上に形成する。 - 特許庁
RESIST IMAGE FORMING MATERIAL AND METHOD FOR FORMING RESIST IMAGE OF SAME例文帳に追加
レジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法 - 特許庁
RESIST COVER FILM-FORMING MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト被覆膜形成用材料およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST COATING FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジスト被覆膜形成用材料およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND POSITIVE RESIST BASE MATERIAL WHICH USES THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたポジ型レジスト基材 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
RESIST PATTERN MINIATURIZATION MATERIAL AND METHOD FOR FORMING MICRO RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターン縮小化材料および微細レジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST IMAGE FORMING MATERIAL AND RESIST IMAGE FORMING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加
レジスト画像形成材、及びそのレジスト画像形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND BASE MATERIAL WITH RESIST LAYER OF THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト保護膜用材料およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING RESIST MATERIAL AND/OR PLANARIZING MATERIAL例文帳に追加
レジスト材及び/又は平坦化材の除去方法 - 特許庁
LAMINATED MATERIAL HAVING PHOTOPOLYMERIZABLE RESIST MATERIAL LAYER例文帳に追加
光重合性レジスト材層を有する積層材 - 特許庁
To surely remove a resist material on an article, irrespective of the nature, etc. of the resist material in stripping the resist material off, using adhesive sheets.例文帳に追加
物品上のレジスト材を接着シート類を用いて剥離除去するにあたり、レジスト材の性状などに関係なく、確実に除去する。 - 特許庁
MONOMER FOR RESIST MATERIAL, POLYMER FOR RESIST MATERIAL AND ACID DISSOCIABLE GROUP-CONTAINING RESIN例文帳に追加
レジスト材用単量体、レジスト材用重合体および酸解離性基含有樹脂 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD, RESIST MATERIAL AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加
レジスト材料用重合体及びその製造方法、レジスト材料、パターン形成方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE RESIST MATERIAL例文帳に追加
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL例文帳に追加
レジスト材料用高分子化合物及びその製造方法並びに化学増幅ポジ型レジスト材料 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING DRY RESIST PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND DRY RESIST PHOTOSENSITIVE MATERIAL例文帳に追加
ドライレジスト感光材料の製造方法およびドライレジスト感光材料 - 特許庁
BASE MATERIAL FOR PATTERN FORMING MATERIAL, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
パターン形成材料用基材、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND PATTERNING METHOD USING THE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL例文帳に追加
高分子化合物、化学増幅レジスト材料、該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
A resist removing step in which a resist coating material is removed with a solvent is carried out between an exposure step and an alkali developing step, the resist coating material is separated from waste liquor containing the dissolved resist coating material produced in the resist removing step and the separated resist coating material is refined and reutilized in a coating step.例文帳に追加
露光工程とアルカリ現像工程との間に、溶媒を用いてレジスト塗料を剥離するレジスト剥離工程を行い、前記レジスト剥離工程で生じる前記レジスト塗料が溶解している廃液中から、レジスト塗料を分離、精製して、塗布工程において再利用する。 - 特許庁
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