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basic resinの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 757件
The developer contains toner particles obtained using a dispersion comprising a solvent, a particulate mixture containing a binder resin and a colorant, dispersed in the solvent, and a combination of a surfactant and a basic compound or a combination of a sulfonic surfactant and a polycarboxylic acid surfactant as an additive for dispersing the mixture, wherein the additive remaining in the developer is within a predetermined range.例文帳に追加
溶媒と、該溶媒中に分散された、バインダー樹脂及び着色剤を含有する粒状の混合物、混合物を分散させるための添加剤として、界面活性剤及び塩基性化合物の組合せ、あるいはスルホン系界面活性剤及びポリカルボン酸界面活性剤の組合せを含む分散液を用いて得られたトナー粒子を含む現像剤であって、現像剤中に残留する上記添加剤が所定の範囲内である現像剤。 - 特許庁
This oxide fine particle-containing resin composition is obtained by mixing (A) silicon oxide fine particles and/or metal oxide fine particles with (B) an organic polymer having a silicon atom bonded with hydrolyzable group and/or hydroxy group in an organic solvent and in the presence of a basic compound, an acidic compound or a metal chelate compound, and dispersing the (A) the oxide fine particles in the organic solvent.例文帳に追加
上記酸化物微粒子含有樹脂組成物は、有機溶媒中、塩基性化合物、酸性化合物または金属キレート化合物の存在下で、（Ａ）ケイ素酸化物微粒子および／または金属酸化物微粒子、および（Ｂ）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を含有するシリル基を有する有機重合体を混合して、前記酸化物微粒子（Ａ）を有機溶媒中に分散させることにより得られる。 - 特許庁
The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble, is made alkali- soluble by the action of the acid and contains at least one aromatic ring and an acid decomposable group and (C) a basic compound which contains an optionally substituted ≥9C aliphatic hydrocarbon group in its molecule.例文帳に追加
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる少なくとも１つの芳香環及び酸で分解し得る基を含有する樹脂、及び（Ｃ）分子内に少なくとも炭素数９以上の置換又は無置換の脂肪族炭化水素基を含有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁
The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium slat compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant having a specified structure.例文帳に追加
（Ａ）特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
This positive photoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant with a specified structure.例文帳に追加
（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
Mixed slurry including an aqueous solution of at least one metal salt of phenylphosphonic acid selected from magnesium phenylphosphonate, lithium phenylphosphonate, sodium phenylphosphonate and potassium phenylphosphonate, at least one selected from zinc oxide and zinc bicarbonate, cyanuric acid and water, is dispersed and reacted, thereby the crystal nucleating agent for a resin containing zinc basic cyanurate, zinc phenylphosphonate and a hydroxide of a metal constituting the metal salt of the phenylphosphonic acid is obtained.例文帳に追加
フェニルホスホン酸マグネシウム、フェニルホスホン酸リチウム、フェニルホスホン酸ナトリウム及びフェニルホスホン酸カリウムから選択される少なくとも一種のフェニルホスホン酸の金属塩の水溶液と、酸化亜鉛及び塩基性炭酸亜鉛から選択される少なくとも一種と、シアヌル酸と、水とを含有する混合スラリーを、分散させて反応させることにより、塩基性シアヌル酸亜鉛、フェニルホスホン酸亜鉛、及び、前記フェニルホスホン酸の金属塩を構成する金属の水酸化物を含有する樹脂用結晶核剤を得る。 - 特許庁
In the method of producing the thermoplastic resin having a specified structure, an acylated material provided by acylating hydroxide groups of at least one kind of compound selected from a group consisting of aromatic diol, heterocyclic diol, aromatic hydroxycarboxylic acid and heterocyclic hydroxycarboxylic acid is transesterified with non-aromatic dicarboxylic acid, wherein the acylation and/or the transesterification is performed in the presence of the organic basic compound that is a heterocyclic compound containing at least one nitrogen atom in a molecule.例文帳に追加
芳香族ジオール、複素環ジオール、芳香族ヒドロキシカルボン酸、および複素環ヒドロキシカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物の水酸基を、脂肪族酸無水物でアシル化して得られたアシル化物と、非芳香族ジカルボン酸をエステル交換する、特定構造を有する熱可塑性樹脂の製造方法であって、窒素原子を分子中に１個以上含むヘテロ環化合物である有機塩基化合物の存在下、アシル化および／またはエステル交換を行うことを特徴とする熱可塑性樹脂の製造方法。 - 特許庁
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