「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

SALT, RESIST COMPOSITION, AND PRODUCTION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性ペースト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE COMPOSITION AND RESIN USED IN THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いる化合物 - 特許庁

RESIN FOR PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ホトレジスト組成物用樹脂、ホトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

BASE GENERATOR, RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL CONSISTING OF THE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIN COMPOSITION AND ARTICLE USING THE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

塩基発生剤、樹脂組成物、当該樹脂組成物からなるパターン形成用材料、当該樹脂組成物を用いたパターン形成方法並びに物品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR INSPECTING RESIST PATTERN例文帳に追加

水溶性樹脂組成物、パターン形成方法及びレジストパターンの検査方法 - 特許庁

CERAMIC PATTERN FORMING COMPOSITION AND CERAMIC PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

セラミックスパターン形成用組成物及びそれを用いたセラミックスパターン形成方法 - 特許庁

FILM-FORMING POLYSILANE COMPOSITION FOR METALLIC PATTERN AND METHOD FOR FORMING METALLIC PATTERN例文帳に追加

金属パターン用被膜形成用ポリシラン組成物及び金属パターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

パターン形成用感放射線ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING CERAMIC PATTERN AND METHOD FOR FORMING CERAMIC PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

セラミックスパターン形成用組成物及びそれを用いたセラミックスパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR RESIST BASE LAYER AND METHOD FOR FORMATION OF PATTERN例文帳に追加

レジスト下層用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PRODUCTION OF RELIEF PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びレリーフパターンの製造法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

樹脂、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND POSITIVE RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、ポジ型レジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR RESIN COMPOSITION AND PREPARATION OF PATTERN例文帳に追加

ポリイミド前駆体樹脂組成物及びパターン製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性塗料組成物及びパターンの形成方法 - 特許庁

POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN例文帳に追加

重合体、レジスト組成物およびパターン製造方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、および、レジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND NEGATIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジストパターン形成方法およびネガ型レジスト組成物 - 特許庁

RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN, AND PATTERNING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING NANOMETER ORDER PATTERN例文帳に追加

重合体組成物及びナノオーダーパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト表面処理剤組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁

COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁