「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

CURABLE SILICONE COMPOSITION FOR NEGATIVE PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

DEVELOPER COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERN例文帳に追加

現像剤組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, FORMING METHOD FOR CONDUCTIVE PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF COMPOSITION例文帳に追加

導電性パターン形成用組成物、導電性パターンの形成方法及び導電性パターン形成用組成物の製造方法 - 特許庁

FILM FORMING COMPOSITION FOR NANOIMPRINT AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ナノインプリント用の膜形成組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパタ—ン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

導電性パターン形成用組成物及びその製造方法 - 特許庁

RESIST UNDERCOAT FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FORMING METHOD OF POSITIVE TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RESIST LOWER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in pattern collapse and roughness performance and to provide a pattern forming method using the above composition.例文帳に追加

パターン倒れ、ラフネス性能が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感放射線ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR LIFT OFF AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

リフトオフ用ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

To perform composition of a background pattern image more favorably than the conventional method.例文帳に追加

地紋画像の合成を従来よりも好適に行う。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING THERMAL FLOW PATTERN例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びサーマルフローパターン形成方法 - 特許庁

INK COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND DROPLET DISCHARGE APPARATUS例文帳に追加

インク組成物、パターン形成方法、及び液滴吐出装置 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

The method for resist pattern formation comprises utilization of the positive resist composition.例文帳に追加

該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, FORMATION OF PATTERN, AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING IT例文帳に追加

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR AMELIORATING SOIL PATTERN例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物および汚れ模様の改善方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERN例文帳に追加

フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 - 特許庁

UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層膜形成組成物及びフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

COLORANT FOR FORMING SPECIAL PATTERN AND RESIN COMPOSITION THEREFOR例文帳に追加

特殊模様形成用着色剤及びその樹脂組成物 - 特許庁

RESIN COMPOSITION AND RESIN MOLDED PRODUCT HAVING WOOD GRAIN PATTERN例文帳に追加

樹脂組成物及び木目模様を有する樹脂成形品 - 特許庁

RESIN COMPOSITION AND RESIN MOLDED ARTICLE HAVING WOODGRAIN PATTERN例文帳に追加

樹脂組成物および木目模様を有する樹脂成形品 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

INK COMPOSITION, AND PRINTING METHOD AND PATTERN FILM USING THE SAME例文帳に追加

インク組成物と、それを用いた印刷方法及びパターン膜 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR LIFT-OFF, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

リフトオフ用ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive composition excellent in sensitivity, resolution and pattern shape and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁