「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物およびこれを使用したパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION FOR DRY EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体装置 - 特許庁

To predict a phase transformation diagram pattern from the composition of steel.例文帳に追加

鋼材の組成から相変態図パターンを予測することである。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ホトマスク用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびそのパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN AND RESIST COMPOSITION USED THEREFOR例文帳に追加

微細パターン形成方法およびそれに用いるレジスト組成物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER STRUCTURE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性組成物、高分子構造物およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which gives an insulating film having little deformation of a pattern when the composition is thermally cured to form the pattern.例文帳に追加

熱硬化してパターン形成する際にパターンの変形が少ない絶縁膜を与えるポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ナノインプリント用感放射線性組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

SOLDER RESIST COMPOSITION, DRY FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ソルダーレジスト組成物、ドライフィルム、およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

The coating composition is brought into contact with the surface of the resist pattern.例文帳に追加

コーティング組成物をレジストパターンの表面に接触させる。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁