「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZABLE BLACK COMPOSITION AND BLACK PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYAMIC ACID COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性ポリアミド酸組成物およびパタ−ン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USED THEREFOR例文帳に追加

パターンの形成方法、及び該方法に用いる感光性組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

レジスト組成物及びレジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE PATTERN AND RESIST COMPOSITION USED THEREFOR例文帳に追加

微細パターン形成方法およびそれに用いるレジスト組成物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER STRUCTURE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性組成物、高分子構造物およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体装置 - 特許庁

To predict a phase transformation diagram pattern from the composition of steel.例文帳に追加

鋼材の組成から相変態図パターンを予測することである。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

UPPER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ホトマスク用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびそのパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性組成物とこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁