「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

ネガ型感光性組成物及び導電パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

レジスト組成物、レリーフパターンの製造方法、及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, LAMINATE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、積層体およびパターン形成方法 - 特許庁

THICK FILM PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE TYPE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF IRREGULAR PATTERN例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及び凹凸パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST-COMPOSITION AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY-PATTERN FORMATION例文帳に追加

フォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 - 特許庁

CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, METHOD FOR PATTERNING, AND PATTERN例文帳に追加

インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR ANTIREFLECTION COATING AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

反射防止コーティング用組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

THERMOSETTING COMPOSITION, THERMOSET ARTICLE AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

熱硬化性組成物、熱硬化物およびパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE RESIN COMPOSITION, COATING FILM, PATTERN AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

重合性樹脂組成物、塗膜、パターンおよび表示装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST FILM, FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN AND FORMATION METHOD OF CONDUCTOR PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法及び導体パターンの形成方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

重合性樹脂組成物、パターン、カラーフィルタ及び表示装置 - 特許庁

COMPOSITION FOR UNDERLAYER FILM AND MULTILAYER RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM例文帳に追加

パターン形成方法及びレジスト下層膜形成用組成物 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

The method for forming resist pattern comprises using the positive type resist composition.例文帳に追加

該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

樹脂組成物、それを用いたレリーフパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING PATTERN, AND COLOR FILTER例文帳に追加

パターン形成用の感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ - 特許庁

HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING THE COMPOSITION, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

耐熱感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン製造方法、及び電子部品 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感刺激性組成物、化合物及び感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

BAKING RESIN COMPOSITION, BAKING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PROCESS FOR FORMING CERAMIC PATTERN例文帳に追加

焼成用樹脂組成物、焼成用感光性樹脂組成物及びセラミックパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FILM AND RESIN PATTERN USING THOSE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルム、およびそれらを用いた樹脂パターン - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

THERMOPLASTIC COMPOUND RESIN COMPOSITION AND GRAIN TONE PATTERN RESIN COMPOSITION OBTAINED BY MOLDING THE SAME例文帳に追加

熱可塑性複合樹脂組成物および、これを成形してなる木目調樹脂成形品 - 特許庁

STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

BASE PROPAGATOR, BASE PROPAGATOR COMPOSITION, REACTIVE BASE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

塩基増殖剤、塩基増殖剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR ION IMPLANTATION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

イオン注入工程用の樹脂組成物及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

環式化合物、フォトレジスト組成物、およびフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 - 特許庁

ORGANIC ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF PHOTORESIST BY USING THE COMPOSITION例文帳に追加

有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and improved in exposure latitude, pattern collapse, pattern profile and line edge roughness of a line pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

感度に優れ、且つ、露光ラチチュード、パターン倒れ、パターンプロファイル、及びラインパターンのラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND IN PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THIS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND USED IN THIS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED FOR THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁