「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOPOLYMERIZABLE BLACK COMPOSITION AND BLACK PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

光重合性黒色組成物及び黒色パターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYAMIC ACID COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性ポリアミド酸組成物およびパタ−ン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND LAMINATE例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

COLOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR PATTERN AND COLOR FILTER例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物、着色パターン及びカラーフィルタ - 特許庁

UPPER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT GUIDE PLATE PATTERN例文帳に追加

導光板パターン用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 - 特許庁

CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターン及び半導体装置 - 特許庁

ALUMINUM-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

アルミニウム含有感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS BY USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パタ—ンの製造法及び電子部品 - 特許庁

SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PRODUCTION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

OVERLAY FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、金属パターン及びその形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性組成物とこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE PARTICLES, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

活性粒子、感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁