「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

ALUMINUM-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

アルミニウム含有感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS BY USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パタ—ンの製造法及び電子部品 - 特許庁

SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PRODUCTION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which gives an insulating film having little deformation of a pattern when the composition is thermally cured to form the pattern.例文帳に追加

熱硬化してパターン形成する際にパターンの変形が少ない絶縁膜を与えるポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ナノインプリント用感放射線性組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

OVERLAY FILM FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、金属パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DISPLAY AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ディスプレイ及びそのパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND LAMINATE例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT GUIDE PLATE PATTERN例文帳に追加

導光板パターン用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

COLOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR PATTERN AND COLOR FILTER例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物、着色パターン及びカラーフィルタ - 特許庁

CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物およびこれを使用したパターンの形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION FOR DRY EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SOLDER RESIST COMPOSITION, DRY FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ソルダーレジスト組成物、ドライフィルム、およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁