「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性重合体組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND COMPOSITION FOR FORMING FLATTENING FILM例文帳に追加

パターン形成方法及び平坦化膜形成用組成物 - 特許庁

SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

(CO)POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

（共）重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR EUV, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ＥＵＶ用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

パターン形成方法および感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR UPPER LAYER FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層膜用組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN MADE OF ITS BAKED PRODUCT例文帳に追加

感光性組成物、及びその焼成物からなるパターン - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ホトマスク用ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND LIGHT SHIELDING PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物及び遮光パターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, AND PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感放射線レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND RESIST COMPOSITION USED THEREFOR例文帳に追加

パターン形成方法及びそれに用いるレジスト組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COATING FILM, PATTERN, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、塗膜、パターン及び表示装置 - 特許庁

AMINE COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加

アミン化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NITROGEN COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

窒素化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

レジストパターン形成方法及び感光性樹脂組成物 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化合物、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 - 特許庁