| 例文 |
composition patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4879件
COMPOSITION, IMAGE FORMING METHOD USING COMPOSITION AND ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION例文帳に追加
組成物、該組成物を用いた画像形成方法及び導電性パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PATTERN FORMING APPARATUS AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性組成物及びパターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びパターンの製造法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ネガ型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性組成物及び回路パタ—ン形成方法 - 特許庁
PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
フォトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING PROCESS AND RESIST-MODIFYING COMPOSITION例文帳に追加
パターン形成方法及びレジスト変性用組成物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加
パターン形成方法及び感光性樹脂組成物 - 特許庁
CHITOSAN-CONTAINING WATER-BASED MULTI-COLOR PATTERN COATING COMPOSITION例文帳に追加
キトサン含有水性多彩模様塗料組成物 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST COMPOSITION AND METHOD AND DEVICE FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物、レジスト組成物、パターン形成方法およびデバイス - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加
感光性樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
While the coating composition is in contact with the surface of the resist pattern, the resist pattern composition is heat-treated to diffuse an acid in the coating composition from the resist pattern.例文帳に追加
コーティング組成物がレジストパターンの表面に接触した状態でレジストパターンを熱処理して、レジストパターンからコーティング組成物に酸を拡散させる。 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加
導電性パターン形成用組成物及び導電性パターンの形成方法 - 特許庁
NEGATIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, CURING PATTERN FORMING METHOD AND CURING PATTERN例文帳に追加
ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁
POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF FORMING HARDENING PATTERN, AND HARDENING PATTERN例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁
PATTERN FORMING BASE MATERIAL, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
パターン形成用基材及びネガ型レジスト組成物、並びにパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, CURED PATTERN FORMING METHOD AND CURED PATTERN例文帳に追加
ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁
PASTE COMPOSITION, FORMING METHOD OF PATTERN USING SAME, AND ITS PATTERN例文帳に追加
ペースト組成物、及びそれを用いたパターンの形成方法、並びにそのパターン - 特許庁
NEGATIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING CURED PATTERN, AND CURED PATTERN例文帳に追加
ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING COMPOSITION FLOOR TILE HAVING CLOUD-SHAPED PATTERN OR MARBLE PATTERN例文帳に追加
雲形模様又はマーブル模様を有するコンポジション床タイルの製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
感光性ペースト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
SALT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性ペースト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD WITH WATER-SOLUBLE PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加
水溶性フォトレジスト組成物のパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
導電性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND SALT例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターンの製造方法及び塩 - 特許庁
SALT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
塩、フォトレジスト組成物及レジストパターンの製造方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN FILM例文帳に追加
感光性組成物及びパターン膜の製造方法 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|