「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(98ページ目) - Weblio英語例文検索

The composition for resin print for giving a pattern to a cloth surface comprises an aqueous dispersion including a resin chosen from an acrylic resin and a urethane-based resin, wherein when a volatile component is volatilized from the aqueous dispersion to be a solid state, under the condition of 170°C, the torque when adding torsion for 60 seconds by 1°/second while pressing by 0.35 MPa is 0.085 N×m-0.315 N×m.例文帳に追加

布帛表面に模様を付与するための樹脂プリント用組成物であって、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂から選択される樹脂を含む水性分散体からなり、当該水性分散体から揮発性成分を揮発させて固形状態とした際に、１７０℃の条件下で、０．３５ＭＰａでプレスしながらねじりを１°／秒で６０秒加えた時のトルクが、０．０８５Ｎ・ｍ〜０．３１５Ｎ・ｍであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion achieving excellent pigment dispersion stability even in a case of adding a small amount of a pigment dispersant; a curable composition curable at high sensitivity by exposure and being excellent in developability of unexposed areas; and a color filter having sufficient coloring density even when it is a thin layer and having a color pattern with high resolution; and a solid state imaging element.例文帳に追加

顔料分散剤の添加量が少ない場合においても優れた顔料の分散安定性を達成しうる顔料分散液、顔料の含有量が多い場合であっても、露光により高感度で硬化し、未露光部の現像性に優れた硬化性組成物、及び、薄層であっても十分な着色濃度を有し、高解像度の着色パターンを備えたカラーフィルタ及び固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition which contains a compound good also in compatibility with other components, can optimally control radiation transmittance particularly as a chemically amplified positive resist effectively sensitive to far-ultraviolet radiation, in particular, can effectively suppress a linewidth change of a resist pattern due to a thickness variation of a resist film on a highly reflecting substrate, and excels also in depth of focus latitude.例文帳に追加

他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

“design” means only the features of shape, configuration, pattern, ornament or composition of lines or colours applied to any article whether in two dimensional or three dimensional or in both forms, by any industrial process or means, whether manual, mechanical or chemical, separate or combined, which in the finished article appeal to and are judged solely by the eye;例文帳に追加

「意匠」とは，手工芸的，機械的，若しくは化学的の如何を問わず，又は分離若しくは結合の如何を問わず，工業的方法又は手段により，2次元若しくは3次元又はその双方の形態かを問わず，物品に適用される線又は色彩の形状，輪郭，模様，装飾若しくは構成の特徴に限られるものであって，製品において視覚に訴え，かつ，視覚によってのみ判断されるものを意味する。 - 特許庁

This resist stripping method strips the resist film from a laminated pattern forming material consisting of a first film and the resist film using a solvent for stripping and, therein, the solvent for stripping is formed by adding moisture thereto or by adding the same solvent with a solvent for the resin solution composition which is used for forming the first film thereto.例文帳に追加

本発明のレジスト剥離方法は、第一の膜とレジスト膜からなる積層パターン形成物から該レジスト膜を剥離用溶剤を用いて剥離するレジスト剥離方法において、該剥離用溶剤として、該剥離用溶剤に水分を添加するか、または、該剥離用溶剤に該第一の膜を形成するために使用された樹脂溶液組成物の溶剤と同一の溶剤を添加することを特徴とするものである。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition containing a low toxicity compound having an ethylenically unsaturated group, having superior photosensitive characteristics such as high sensitivity and high resolution and capable of good development with an aqueous alkali solution, to produce a pattern having superior heat and chemical resistances and to obtain electronic parts having enhanced reliability.例文帳に追加

本発明は、従来のものに比べ毒性の低いエチレン性不飽和基を有する化合物を含み、高感度、高解像度などの優れた感光特性を有する感光性ポリイミド前駆体組成物、及び該組成物はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造方法並びに前記のパターンを有することにより信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, a coating film comprising a radiation-sensitive resin composition comprising an acid-dissociable group- containing polysiloxane which is made alkali-soluble when the acid-dissociable group is dissociated is formed on an underlayer film comprising a polymer having ≥80 wt.% carbon content and a weight average molecular weight (expressed in terms of polystyrene) of 500-100,000 and irradiation with radiation is carried out.例文帳に追加

パターン形成方法は、炭素含量が８０重量％以上でポリスチレン換算重量平均分子量が５００〜１００，０００の重合体を含有する下層膜上に、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる酸解離性基含有ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成して、放射線を照射する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

In a method for forming a positive oxide thin film pattern in which the top of a substrate is coated with a composition containing a metal alkoxide and a chelate stabilizer, the resulting coating film is irradiated with light, a chemical reaction of the unirradiated part in the coating film is allowed to proceed and the irradiated part is dissolved and removed by etching with an etching solution, an aqueous alkali solution is used as the etching solution.例文帳に追加

金属アルコキシド及びキレート安定化剤を含む組成物を基板上に塗布し、塗布膜に光照射すると共に、この塗布膜における非照射部の化学反応を進行させた後、エッチング溶液にてエッチングして照射部を溶解、除去するポジ型酸化物薄膜パターンの形成方法において、前記エッチング溶液としてアルカリ水溶液を用いることを特徴とするものである。 - 特許庁

The resin container is obtained by molding a resin composition comprising two kinds of resin components having different crystallization rates in which one is a polyethylene terephthalate resin and the other is a polybutylene terephthalate resin into a shape having a difference in thickness in a body part so as to form an arbitrary pattern by using a transparency change by difference in degree of crystallization between a part having a thick thickness and a part having a thin thickness.例文帳に追加

結晶化速度の異なる２種の樹脂成分を含み、そのひとつがポリエチレンテレフタレート樹脂であり、他の一つがポリブチレンテレフタレート樹脂である樹脂組成物を、胴部に肉厚の差を設けた形状に成形することにより、肉厚の厚い部分と肉厚の薄い部分の結晶化度の違いによる透明性の変化を利用して任意の模様を付与したことを特徴とする樹脂容器。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a source of light with 157 nm is used, having a wide defocus latitude, less liable to cause line edge roughness, free of concern for negative formation because a resist film is substantially thoroughly dissolved when developed with a developer and ensuring slight trailing of a line-and-space pattern.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが発生し難く、現像液で現像した際にレジスト膜が実質的に完全に溶解してネガ化の懸念がなく、ラインアンドスペースパターンの裾引きが小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new method for efficiently producing monomer useful for introducing a construction unit having a specific butyrolactone ring into an acrylic resin so as to obtain a chemical amplification type photoresist composition having good transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, resist pattern forms, dry etching resistance and adhesiveness and having high affinity to alkalis.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーに対して良好な透明性を有し、優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示し、アルカリに対し高い親和性を有する化学増幅型ホトレジスト組成物を得るため、アクリル系樹脂に、特定のブチロラクトン環をもつ構成単位を導入するが、その導入のために有用な単量体を効率よく製造するための新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

This polybenzoxazole imide film is formed by performing pattern exposure and alkali development of the film of a positive type photosensitive resin composition containing a diazonaphthoquinone-based photosensitizer in the hydroxyamide group-containing alicyclic polyimide containing a recurring unit expressed by general formula (4) [wherein, A is a tetravalent aromatic group; and B is a divalent aromatic or aliphatic group] or its precursor, and then heating.例文帳に追加

下記一般式（４）：（式（４）中、Ａは４価の芳香族基を表し、Ｂは２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）で表される反復単位を含有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体中に、ジアゾナフトキノン系感光剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物の膜をパターン露光及びアルカリ現像した後、加熱することにより得られることを特徴とするポリベンゾオキサゾールイミド膜である。 - 特許庁

The curable sheet composition capable of following a metal mold shape by heating and pressurizing, of polymerizing to cure by means of photoirradiation, and of fixing an optical element molding pattern, is characterized by containing 50-94% of a polycarbonate diol-modified urethane acrylate oligomer, 5-40% of a (meth)acrylate having in the molecule at least one carboxyl group and 0.5-5% of a photopolymerization initiator.例文帳に追加

加熱加圧により金型形状に追従し、光照射により重合硬化し、光学素子成型パターンを固定化することが出来る硬化性シート組成物であって、ポリカーボネートジオール変性ウレタンアクリレートオリゴマー５０乃至９４％と分子内に少なくとも１個のカルボキシル基を有する（メタ）アクリレート５乃至４０％と光重合開始剤０．５乃至５％を含むことを特徴とする硬化性シート組成物。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution.例文帳に追加

表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which exhibits excellent uniformity in film thickness and has high radiation sensitivity even if a slit coating method is adopted as a coating method, and has such a development margin that a favorable pattern shape can be formed even if an optimal developing time has elapsed passed in a developing step, and an interlayer insulating film having various excellent performance such as high heat and solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant.例文帳に追加

塗布方法としてスリット塗布法を採用した場合であっても、優れた膜厚均一性を示し、且つ高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成しうる現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率等の諸性能に優れる層間絶縁膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for a column spacer exhibiting excellent adhesiveness particularly to a substrate formed with an acrylic resin film, forming a desired pattern form, and also not stripped off by rubbing treatment in a manufacturing process of a liquid crystal display element, not generating low temperature bubbling in a manufactured liquid crystal display element, and forming the column spacer effectively suppressing generation of color heterogeneity caused by gravity defects.例文帳に追加

特にアクリル樹脂膜が形成された基板に対する優れた密着性を示し、所望のパターン形状を形成することができ、かつ、液晶表示素子の製造過程におけるラビング処理よって剥離することがなく、製造する液晶表示素子に低温発泡を生ずることなく、重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制できるカラムスペーサを形成できるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the ceramic carrier comprising a laminate of a plurality of ceramic green sheets provided with a wiring pattern and a grid electrode 4 formed of a conductor composition 41 filled in a through hole 4 of one side outermost ceramic green sheet 5 of the laminate, a surface shape of each electrode of the grid electrode 4 is formed in an outward protruding ridge shape.例文帳に追加

配線パターンが設けられた複数のセラミックグリーンシート積層体により構成され、かつこの積層体における一方側最外セラミックグリーンシート５の貫通孔40内に充填された導体組成物41にて形成されたグリッド電極４を備えるセラミックキャリアであって、上記グリッド電極における各電極の表面形状が電極周縁部よりその中央部が外方に凸の山型形状になっていることを特徴とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing an unsaturated polyester resin- molded product molded by laminating plural sheet molding compounds in which an unsaturated polyester resin composition containing an unsaturated polyester resin, a polymerizable monomer, a low shrink material, a curing agent and a thickener is impregnated into a fiber base material, the method for manufacturing the unsaturated polyester resin-molded product is made to contain a pattern material of the sheet molding compound only corresponding to the surface.例文帳に追加

不飽和ポリエステル樹脂、重合性単量体、低収縮材、硬化剤及び増粘剤を含有する不飽和ポリエステル樹脂組成物を繊維基材に含浸させたシートモールデイングコンパウンドを複数枚積層して成形することにより不飽和ポリエステル樹脂成形品を製造する方法において、表面に対応するシートモールデイングコンパウンドにのみ模様材を含有させることを特徴とする不飽和ポリエステル樹脂成形品の製造方法。 - 特許庁

In the decorative sheet wherein an adhesive layer and a transparent polyester resin layer are successively laminated on a base material sheet comprising a polyolefinic resin or a polyester resin and a pattern layer is formed between the transparent polyester resin layer and the adhesive layer so as to come into contact with the transparent polyester resin layer, at least one of the respective layers is formed of an aqueous composition.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂又はポリエステル系樹脂からなる基材シート上に、接着剤層及び透明性ポリエステル系樹脂層が順に積層されており、透明性ポリエステル系樹脂層と接着剤層との間であって、透明性ポリエステル系樹脂層と接するように絵柄模様層が形成されてなる化粧シートであって、化粧シートを構成する層の少なくとも１種が水性組成物から形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To obtain a polymer useful as a resist material, or the like, especially the polymer as the resist material suitable for a fine processing using an ArF excimer laser or an electron beam, to provide a method for producing the same, to obtain a resist composition by using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

レジスト材料等の構成成分樹脂として有用な有機溶剤への溶解性に優れた重合体、このような重合体の製造方法、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィー、中でも波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマレーザー光、および電子線リソグラフィー等に対して高感度でドライエッチング耐性に優れる好適なレジスト組成物、ならびに、このレジスト組成物を用いた高精度で微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In this conductor film, the metal pattern layer 3 is formed on the laminated layer film 4a with a vapor phase film forming method and the laminated layer film 4a is formed of a composition including, as the main structural elements, a melamine system cross linking agent, and a polyester resin having carboxylic acid group and sulfonic acid group in the side chain.例文帳に追加

ポリエステルフィルム４の少なくとも片面に積層膜４ａを有し、該積層膜上に金属層がパターン形状に加工された金属パターン層３を有する導電性フィルムであって、前記金属パターン層３が前記積層膜４ａ上に気相製膜法で形成されたものであり、前記積層膜４ａが、メラミン系架橋剤と側鎖にカルボン酸基及びスルホン酸基を有するポリエステル樹脂を主たる構成成分とする組成物から形成されたものであることを特徴とする、導電性フィルム。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁