| 例文 |
composition patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4879件
There are disclosed an injection-molded substrate formed by injection-molding a thermoplastic resin composition containing 15 to 65 vol.% of a filler on an electrolytic copper foil of 2 to 15 μm in surface roughness (Rz), and an injection-molded component formed by further coating the injection-molded substrate having a circuit pattern formed thereon, with a thermoplastic resin composition containing 15 to 60 vol.% of a filler.例文帳に追加
表面粗度(Rz)が2〜15μmの電解銅箔上に、充填材を15〜65体積%含有する熱可塑性樹脂組成物を射出成形してなる射出成形基板、及び、回路パターンを形成した前記射出成形基板に、充填材15〜60体積%を含有する熱可塑性樹脂組成物をさらに被覆した射出成形部品。 - 特許庁
To provide a weak alkaline developable photosensitive resin composition which enables formation of a solder resist having sufficiently high heat resistance and thermal shock resistance and formation of a dry film showing sufficiently excellent storage stability, a photosensitive film for a permanent resist using the composition, a resist pattern forming method, a printed wiring board and a method for producing the same, a surface protective film, and an interlayer insulating film.例文帳に追加
充分に高い耐熱性及び耐熱衝撃性を備えたソルダーレジストを形成でき、かつ、充分に優れた貯蔵安定性を示すドライフィルムを形成できる、弱アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びこれを用いた永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法、表面保護膜、層間絶縁膜を提供する。 - 特許庁
To provide a heat resistant negative type photosensitive resin composition having satisfactory adaptability independently of the structure of a polybenzoxazole precursor to which photosensitivity is imparted and also having good sensitivity and resolution, to provide a method for producing a pattern of good shape using the composition and excellent in sensitivity, resolution and heat resistance, and to provide high reliability electronic parts.例文帳に追加
本発明は、感光性を付与するポリベンゾオキサゾール前駆体がいかなる構造であっても充分に対応でき、しかも感度や解像度も良好な耐熱性ネガ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法、信頼性の高い電子部品を提供するものである。 - 特許庁
To provide an adhesive resin composition capable of restraining a conductive paste from being deformed or diffused toward its periphery, when baking a laminate bonded with the second ceramic green sheet onto the first ceramic green sheet having the pattern-like conductive paste on its surface, via the adhesive resin composition, and a manufacturing method for a ceramic substrate using the same.例文帳に追加
表面にパターン状の導電ペーストを有する第1のセラミックグリーンシートに第2のセラミックグリーンシートを、接着用樹脂組成物を介して接着した積層体を焼成する際に、導電ペーストが変形したり、周囲へ拡散したりするのを抑制することのできる接着用樹脂組成物およびそれを用いたセラミック基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂及び(A’)特定の一般式で表されるトリフェニルスルホニウム構造を有する繰り返し単位(a0)を有する樹脂を含有し、且つ、樹脂(A)及び/又は樹脂(A’)が、ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位(a1)を有する樹脂である感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁
The method of manufacturing the metal oxide thin-film pattern in a predetermined region on a substrate includes a process of applying an ink composition containing ions of metal to become metal oxide in an ink jet manner, wherein the ink composition has a viscosity of 3 to 40 mPa s and a surface tension of 10 to 70 mN/m.例文帳に追加
基板上の所定の領域に金属酸化物薄膜パターンを製造する方法であって、該金属酸化物となる金属のイオンを含むインク組成物をインクジェット方式により塗布する工程を含み、該インク組成物の、粘度が3〜40mPa・s、かつ表面張力が10〜70mN/mであることを特徴とする金属酸化物薄膜パターンの製造方法。 - 特許庁
This ink composition used in the method for producing a color filter by forming a color pattern on a transparent substrate plate by the inkjet method is characterized by using the ink composition for the color filter, containing a coloring pigment, a thermosetting resin, a solvent and a silicone-based surfactant for the formation of the colored ink layer of the color filter.例文帳に追加
透明基板上にインクジェット方式にて色パターンを形成するカラーフィルタの製造方法において用いられるインキ組成物であって、着色顔料、熱硬化性樹脂、溶剤、およびシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用インキ組成物をカラーフィルタの着色インク層形成に使用することで課題を解決することができる。 - 特許庁
To provide an inorganic particle-containing organic resin composition capable of forming a member having an excellent pattern form and a high aspect ratio, excellent in burning property of the organic component in baking process and capable of producing a highly reliable display panel, a transfer film formed by the composition and a method for producing a member for a display panel.例文帳に追加
優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができ、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から形成される樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays, the composition showing little dependence on heating temperature after exposure in a microphotofabrication process using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, having decreased surface roughening by etching, having low dependence on pattern density, and having excellent side lobe margin.例文帳に追加
遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide recorded matter including a pattern (printed part) excellent in glossy feeling and scuff resistance, a method of production, capable of producing such recorded matter in a good efficiency, an ultraviolet light-curing type inkjet composition capable of suitably being used for producing such recorded matter, and also powder used for producing such ultraviolet light-curing type inkjet composition.例文帳に追加
光沢感、耐擦性に優れたパターン(印刷部)を備えた記録物を提供すること、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、当該記録物の製造に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる粉末を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which causes neither reduction of film retention nor chipping or undercut of a pattern even under low exposure energy, yields pixels and a black matrix excellent in solvent resistance and adhesion to a substrate, and has excellent storage stability as a liquid composition even if a pigment is contained in high concentration.例文帳に追加
低露光量でも、残膜率が低下したり、パターンの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与え、また顔料を高濃度に含有する条件下でも、液状組成物としての保存安定性に優れる新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供すること。 - 特許庁
The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.例文帳に追加
第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁
To provide an inorganic powder-containing resin composition which achieves high solvent resistance of a pattern after development and can form a black matrix suitable for batch formation of a plurality of members; a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition; and a method for manufacturing a flat panel display in which a plurality of members including a black matrix are batch-formed.例文帳に追加
本発明は、現像後のパターンの耐溶剤性が高く、複数部材の一括形成に適したブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、ブラックマトリクスを含む複数部材を一括形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The positive resist composition includes (A) an alkali-soluble novolac resin, (B) a photosensitizing agent, and (C) a predetermined benzotriazole-based compound, wherein since the predetermined benzotriazole-based compound is included, good adhesion of a resist film of the composition to a substrate is maintained, a fine resist pattern is formed, and the generation of residues is suppressed even after the development of the resist film.例文帳に追加
(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(B)感光剤、及び所定の(C)ベンゾトリアゾール系化合物を含有するポジ型レジスト組成物は、所定のベンゾトリアゾール系化合物を含有するため、レジスト膜と基板との密着性が良好に維持され、微細なレジストパターンを形成可能であると共に、レジスト膜の現像後においても、残渣の発生を少なく抑えることができる。 - 特許庁
To provide a designing powder coating composition for precoat materials which can form the same textured pattern as in using a true fabric and, in addition, excels in processability, a method for forming a designing coating film, and a precoat material with designing coating.例文帳に追加
本物の織布を使用したのと同様のテクスチャー意匠を形成することができ、しかも加工性にも優れた、プレコート材用意匠性粉体塗料組成物、意匠性塗膜の形成方法および意匠性を有する塗装プレコート材を提供すること。 - 特許庁
To solve the problems of a performance-improving the technique for microfabrication of a semiconductor element or the like that uses ultraviolet radiation, excimer laser light, an electron beam or the like, and to provide a positive photosensitive composition, having high sensitivity and high resolution and satisfying a good pattern profile.例文帳に追加
紫外線、エキシマレーザー光、電子線等を使用する半導体素子等の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度かつ高解像性、良好なパターン形状を満足するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁
To make a set of metallic deposits layer having a structure and a pattern of a distinctive size (75 μm or less), which cannot be produced by a conventional screen printing method, by the use of a composition which cannot be used by the conventional screen printing method without performing a wet chemical process.例文帳に追加
従来技術のスクリーン印刷法では使用し得なかった組成物を用いて、従来技術のスクリーン印刷法では成し得なかった特徴サイズ(75μm以下)の構造およびパターンを有する金属析出層を、湿式化学的工程を経ずに作成する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加
良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition which is excellent in storage stability, has high sensitivity, forms a pattern excellent in adhesion to a substrate and in chemical resistance, and suitable for forming a spacer or a protective film not inducing image persistence when used for a liquid crystal display element.例文帳に追加
保存安定性に優れ、高感度であり、形成されるパターンの基板密着性および耐薬品性に優れ、液晶表示素子に使用したときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a resin composition for a compounded wood which makes up the compounded wood which is of a conspicuous grain pattern and appears to have a significant wetting feel and also a sophisticated touch as a decorating outlook and further, is free from the generation of cracks due to thermal or water effects and highly durable.例文帳に追加
木目の際立った、ぬれ感が大きく高級感のある化粧外観を備えるとともに、熱や水等の影響によりクラックが発生しない、耐久性に優れた複合化木材を得ることができる複合化木材用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加
遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition suitable for use in an ultramicro-lithographic process for manufacturing VLSI or a high capacity microchip and in another photofabrication process, and having improved PEB temperature dependency, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
超LSIや高容量マイクロチップ製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、PEB温度依存性が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The photosensitive element for a plasma display panel is used for forming a metal pattern on the uneven substrate, namely a lamination body where a burring layer B and a resin composition layer C having photosensitivity are laminated in this order on a support body film A.例文帳に追加
(A)支持体フィルム上に、(B)埋め込み層(C)感光性を有する樹脂組成物層とがこの順に積層されてなる積層体であることを特徴とする凸凹の有る基板上の金属パターンを形成するための、プラズマディスプレイパネル用感光性エレメント。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.例文帳に追加
KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー等の(極)遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
To provide a paste composition which can form a black layer of excellent black chromaticity and of a low contact resistance value with excellent storage stability, and to provide a pattern of a fired product which can be used for a black layer of excellent black chromaticity and of a low contact resistance value.例文帳に追加
黒色度が良好で、接触抵抗値の低い黒層を形成することができ、保存安定性が良好なペースト組成物、及び黒色度が良好で、接触抵抗値の低い黒層として用いることが可能な焼成物パターンを提供する。 - 特許庁
The resist composition contains a compound expressed by formula (C1) and an acid generator allows formation of a fine resist pattern.例文帳に追加
式(C1)で表される化合物及び酸発生剤を含むレジスト組成物は、微細なレジストパターンを形成できる[式(C1)中、m3は4〜10の整数を表し;R^c1は、ヒドロキシ基等を表し;n3は1〜4の整数を表し;R^c2は、式(2−1)又は式(2−2)で表される基である。 - 特許庁
To provide a cosmetic composition enabling combinedly using a maltooligosaccharide and a hardly-water-soluble active ingredient, stably storable without depositing the maltooligosaccharide, and having itch-suppressive effect and excellent hair-growing effects on male-pattern alopecia and stress-derived alopecia.例文帳に追加
マルトオリゴ糖と、難水溶性の有効成分とを併用でき、該マルトオリゴ糖を析出させることなく安定に保存可能であり、抑痒効果や、男性型脱毛症及びストレス性脱毛症に優れた育毛効果を有する化粧料組成物の提供。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition containing an amine imide together with an ester of polyamide acid as a photo-base generating agent which efficiently generates a strong base even with active ray of low exposure, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film.例文帳に追加
低露光量の活性光線であっても強塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸エステルと併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法および耐熱性塗膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a screen printable hydrogel composition having potential for forming a desired pattern and a method for placement of desired dimensions of the gel directly onto a substrate with little to no yield loss and for precise control over the ultimate thickness.例文帳に追加
スクリーン印刷可能なヒドロゲル組成物、ならびに、所望されるパターンを形成する能力、およびほとんどまたは全く収量損失なしに所望される寸法のゲルの支持体上への直接配置、および最終的な厚さの制御を与える方法の提供。 - 特許庁
To provide a photopolymerizable resin composition excellent in resolution of a resist pattern after development while having high sensitivity, excellent also in tenting property of a hardened film and flocculating property during dispersion in a developing solution, and useful as an alkali developable DFR for manufacture of a printed wiring board.例文帳に追加
高感度でありながら現像後のレジストパターンの解像性に優れ、また硬化膜のテンティング性、現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用DFRとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The stripping liquid composition is provided for removing a color resist in the manufacturing process of a TFT-LCD, in particular, for removing a color resist pattern so as to reuse defective substrates produced in the process of forming a color filter of a TFT-LCD.例文帳に追加
本発明はTFT-LCD製造工程のカラーレジスト除去用剥離液組成物に関し、より詳しくはTFT-LCDのカラーフィルター工程中に発生する不良基板を再使用するためにカラーレジストパターンを除去するための剥離液組成物に関する。 - 特許庁
The method for forming a pattern includes steps of sticking the light-shielding layer (B) side of the element to a substrate, exposing a predetermined portion through the photosensitive resin composition layer (A), and removing (A) and (B) in an exposed portion by development, and removing (A) in an unexposed portion.例文帳に追加
(B)遮光層側を基材に貼りつける工程、(A)の感光性樹脂組成物層上から所定部を露光する工程、現像によって露光部の(A)及び(B)を除去する工程、並びに未露光部の(A)を除去する工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁
The pattern forming method using the positive resist composition is also provided.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂及び(C)特定のラクトン構造を有する低分子化合物を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a conductive paste composition which has a high conductivity, good adhesion to a transparent conductive film, and low contact resistance, and forms a wiring pattern such as an electrode superior in moisture proof, weatherability and with high reliability.例文帳に追加
高い導電性、ならびに透明導電膜に対する良好な接着性、低い接触抵抗を備えるとともに耐湿性、耐候性に優れた高い信頼性を有する電極等の配線パターンを形成することのできる導電性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive adhesive composition excellent in terms of resolution, adhesion and adhesive strength while it has a adequately reduced moisture permeability and moisture absorbing property and to provide a photosensitive element using the same and a resist pattern formation method and a method for adhesion of a material to be adhered.例文帳に追加
透湿率、吸湿率を充分に低く抑えつつ、解像性、密着性、接着強度に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供すること。 - 特許庁
The phase-change structure fills partially the HARS, fills a first phase-change substance layer pattern, including a first phase-change substance and the remainder of the HARS, and includes a second phase-change substance having a composition being different from the first phase-change substance.例文帳に追加
相変化構造物はHARSを部分的に満たし、第1相変化物質を含む第1相変化物質層パターン、及び前記HARSの残りを満たし、前記第1相変化物質と相異なる組成を有する第2相変化物質を含む。 - 特許庁
To provide safely a composition for firing which is used for a pattern in a display member and a circuit member, can be coated and can thermally decompose the organic component at a low temperature and can obtain a high strength material after firing, and a fired material using this.例文帳に追加
ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加
良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a black matrix substrate that has a black matrix layer in which multiple attachment pattern is formed, the method being free from application failure when spin-applying a liquefied photosensitive resin composition in which pigment is dispersed.例文帳に追加
多面付けパターンを形成したブラックマトリックス層を有するブラックマトリックス基板の製造方法において、顔料を分散させた液状の感光性樹脂組成物をスピン塗布するときに、塗布不良を生じないブラックマトリックス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
There is provided the foaming sugar-coated food patterned with the mottles in which a recessed part of a sugar-coating material having an uneven pattern on the surface is coated with a foaming coating composition containing a foaming component composed of a carbonate and an acid as principal components and 10-30 wt.% of a solid fat.例文帳に追加
表面に凹凸模様を有する糖衣物の凹部に、主成分として炭酸塩と酸とからなる発泡性成分及び固形脂10〜30重量%を含有する発泡性コーティング組成物がコーティングされた斑模様入り発泡性糖衣食品。 - 特許庁
The water-soluble resin composition comprises a water-soluble polymer represented by (Formula 1) as specified, and a first water-soluble solvent, and is coated and heat-treated on a photoresist layer having a contact hole pattern formed, to reduce the size of the contact hole.例文帳に追加
下記の(式1)のように表示される水溶性重合体および第1水溶性溶媒を含み、コンタクトホールパターンが形成されているフォトレジスト膜上に塗布および熱処理することによって、前記コンタクトホールの大きさを減少させる水溶性樹脂組成物。 - 特許庁
To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation having high sensitivity, excellent in pattern profile and film retention even in low exposure energy, and providing pixels and a black matrix excellent in solvent resistance to various solvents and in adhesion to a substrate.例文帳に追加
高感度で、低露光量でもパターン形状および残膜率が優れ、かつ各種溶剤に対する耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
A resin composition 1 is obtained by compounding additives such as a filler, a pattern material, an internal mold release agent, a curing agent and the like with a thermosetting resin and injected in a casting mold 2 and molded and cured to manufacture the artificial marble.例文帳に追加
熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型材、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物1を得て、この樹脂組成物1を注型用金型2に注入して成形硬化させて得られる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition, sensitive particularly o far UV and charged particle beams, such as electron beam, having superior resolution and pattern shape and suitable particularly for use as a chemical amplification type resist which has small nano-edge roughness.例文帳に追加
特に、遠紫外線や、電子線等の荷電粒子線に感応し、解像性能およびパターン形状が優れるとともに、特にナノエッジラフネスが小さい化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a forming method for conductive patterns which forms a conductive pattern having no variation of its line width and its line space, even if a circuit is fine, without receiving such constraints as its cost, the workability required when creating a substrate for it, the selection of the composition constituting an insulating layer for it, and the selection of an electrode material for it.例文帳に追加
コストや基板作成時の加工性、絶縁性層を構成する組成物の選択、電極材料の選択等の制約を受けることなく、微細な回路であっても線幅や線間にばらつきのない導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.例文帳に追加
250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition that is excellent in fundamental properties of a resist, such as sensitivity and resolution, even if a thin film, is excellent in exposure latitude when a line pattern is formed, and can form a resist film for reducing residues after development.例文帳に追加
薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a permanent resist composition having properties adapted for MEMS parts, that is, liquid storage stability, a high aspect ratio and excellent pattern property, and giving a cured product excellent in cracking resistance, alkali resistance, adhesion to a substrate and heat resistance.例文帳に追加
MEMS部品用に適合した特性を有する、すなわち液保存安定性、高アスペクト比でパターン性に優れ、その硬化物は、耐クラック性、耐アルカリ性、基材に対する密着性、耐熱性に優れている、永久レジスト組成物を開発することを課題とする。 - 特許庁
The negative photosensitive resin composition is spin-coated and dried on a semiconductor substrate 1 on which a first conductor layer 3, a second conductor layer 7 and an interlayer insulating film 4 have been formed, and light is illuminated through a mask of a pattern for forming a window 6C in a predetermined portion.例文帳に追加
第1導体層3、第2導体層7及び層間絶縁膜4が形成された半導体基板1に、ネガ型感光性樹脂組成物をスピンコートして乾燥し、所定部分に窓6Cを形成するパターンのマスク上から光を照射する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition which is sensitive to radiation, particularly (extreme) far-ultraviolet radiation such as EUV with excellent sensitivity, and forms a chemically amplified positive resist film which enables to stably form a high-accuracy fine pattern excellent in nano edge roughness.例文帳に追加
放射線、特にEUV等の(極)遠紫外線に優れた感度で感応するとともに、ナノエッジラフネスに優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することのできる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
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