「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(90ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an inorganic particle-containing organic resin composition capable of forming a member having an excellent pattern form and a high aspect ratio, excellent in burning property of the organic component in baking process and capable of producing a highly reliable display panel, a transfer film formed by the composition and a method for producing a member for a display panel.例文帳に追加

優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができ、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から形成される樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

This alkali-soluble conductive paste composition contains (A) an alkaline-soluble polymer binder, (B) a conductive metal powder, and (C) an organic acid, and this is suitably used for the method of construction in which a layer of the alkali-soluble conductive paste composition formed on the substrate is patternized via the pattern of the conductive paste which is insoluble in an alkaline aqueous solution provided on the upper layer.例文帳に追加

本発明のアルカリ可溶性導電性ペースト組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性高分子バインダー、（Ｂ）導電性金属粉、および（Ｃ）有機酸を含むことを特徴とし、基材上に形成したアルカリ可溶性導電性ペースト組成物の層が、その上層に設けたアルカリ水溶液に不溶な導電性ペーストのパターンを介してパターン化される工法に好適に用いられる。 - 特許庁

The invention relates to: a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition excellent in electrical properties and transparency, capable of efficiently forming a pattern of smooth shape, and excellent in heat-resistant shape retentivity, heat-resistant transparency and solvent resistance of a formed resin film, and to provide a laminate obtained by forming a resin film using the radiation sensitive composition on a substrate and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

電気特性や透明性に優れ、且つ効率よくなだらかな形状のパターン形成が可能で、しかも形成される樹脂膜の耐熱形状保持性、耐熱透明性及び耐溶剤性に優れた感放射線組成物、この感放射線組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises the steps of (1) sticking the sheet-like thermosetting resin composition on the pattern surface of a wafer having bumps, (2) pressurizing the wafer by compressing a gas in a pressure-proof vessel at a temperature not lower than the softening point of the thermosetting resin composition, (3) cutting the wafer into chips, and (4) mounting the chip on a wiring circuit board.例文帳に追加

（１）バンプを有するウエハのパターン面にシート状熱硬化性樹脂組成物を貼り合わせる工程、（２）耐圧容器内で、該熱硬化性樹脂組成物の軟化点以上の温度で、気体圧縮による加圧を該ウエハに行う工程、（３）該ウエハをチップに切断する工程、および（４）該チップを配線回路基板に搭載する工程を含む、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.例文帳に追加

第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁

To provide an inorganic powder-containing resin composition which achieves high solvent resistance of a pattern after development and can form a black matrix suitable for batch formation of a plurality of members; a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition; and a method for manufacturing a flat panel display in which a plurality of members including a black matrix are batch-formed.例文帳に追加

本発明は、現像後のパターンの耐溶剤性が高く、複数部材の一括形成に適したブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、ブラックマトリクスを含む複数部材を一括形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition includes (A) an alkali-soluble novolac resin, (B) a photosensitizing agent, and (C) a predetermined benzotriazole-based compound, wherein since the predetermined benzotriazole-based compound is included, good adhesion of a resist film of the composition to a substrate is maintained, a fine resist pattern is formed, and the generation of residues is suppressed even after the development of the resist film.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）感光剤、及び所定の（Ｃ）ベンゾトリアゾール系化合物を含有するポジ型レジスト組成物は、所定のベンゾトリアゾール系化合物を含有するため、レジスト膜と基板との密着性が良好に維持され、微細なレジストパターンを形成可能であると共に、レジスト膜の現像後においても、残渣の発生を少なく抑えることができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that is excellent in fundamental properties of a resist, such as sensitivity and resolution, even if a thin film, is excellent in exposure latitude when a line pattern is formed, and can form a resist film for reducing residues after development.例文帳に追加

薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition is spin-coated and dried on a semiconductor substrate 1 on which a first conductor layer 3, a second conductor layer 7 and an interlayer insulating film 4 have been formed, and light is illuminated through a mask of a pattern for forming a window 6C in a predetermined portion.例文帳に追加

第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成された半導体基板１に、ネガ型感光性樹脂組成物をスピンコートして乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンのマスク上から光を照射する。 - 特許庁

To provide a permanent resist composition having properties adapted for MEMS parts, that is, liquid storage stability, a high aspect ratio and excellent pattern property, and giving a cured product excellent in cracking resistance, alkali resistance, adhesion to a substrate and heat resistance.例文帳に追加

ＭＥＭＳ部品用に適合した特性を有する、すなわち液保存安定性、高アスペクト比でパターン性に優れ、その硬化物は、耐クラック性、耐アルカリ性、基材に対する密着性、耐熱性に優れている、永久レジスト組成物を開発することを課題とする。 - 特許庁

To provide a composition for resist lower-layer film formation that forms a resist lower-layer film which is suitably buried in a via or trench, easily formed based upon a desired pattern, and superior in etching resistance, and a method of forming a dual-damascene structure using the same.例文帳に追加

ビアもしくはトレンチへの埋め込みに好適であり、所望のパターンに基づいた形成が容易であり、エッチング耐性に優れるレジスト下層膜を与えるレジスト下層膜形成用組成物及びこの組成物を用いたデュアルダマシン構造の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having excellent developability and a sufficiently high photosensitive characteristic, and further excellent in a bonding strength and reliability of a cured film, a photosensitive element using the same, a forming method for a resist pattern, and a bonding method for a member to be bonded.例文帳に追加

現像性が良好で、十分に高い感光特性を有し、かつ硬化膜の接着強度及び信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which is sensitive to radiation, particularly (extreme) far-ultraviolet radiation such as EUV with excellent sensitivity, and forms a chemically amplified positive resist film which enables to stably form a high-accuracy fine pattern excellent in nano edge roughness.例文帳に追加

放射線、特にＥＵＶ等の（極）遠紫外線に優れた感度で感応するとともに、ナノエッジラフネスに優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することのできる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a printed textile product having sufficiently high color density for pattern expression, without scumming, and having practical color fastness, in printing a cellulosic textile fiber material using a natural dye-containing printing paste composition.例文帳に追加

天然染料を含有する捺染糊組成物を用いてセルロース系繊維材料を捺染する場合に、模様表現に十分な染色濃度を有し、白場を汚染することなく、且つ、実用的な染色堅牢度を有する捺染物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The stripping liquid composition is provided for removing a color resist in the manufacturing process of a TFT-LCD, in particular, for removing a color resist pattern so as to reuse defective substrates produced in the process of forming a color filter of a TFT-LCD.例文帳に追加

本発明はＴＦＴ-ＬＣＤ製造工程のカラーレジスト除去用剥離液組成物に関し、より詳しくはＴＦＴ-ＬＣＤのカラーフィルター工程中に発生する不良基板を再使用するためにカラーレジストパターンを除去するための剥離液組成物に関する。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes steps of sticking the light-shielding layer (B) side of the element to a substrate, exposing a predetermined portion through the photosensitive resin composition layer (A), and removing (A) and (B) in an exposed portion by development, and removing (A) in an unexposed portion.例文帳に追加

（Ｂ）遮光層側を基材に貼りつける工程、（Ａ）の感光性樹脂組成物層上から所定部を露光する工程、現像によって露光部の（Ａ）及び（Ｂ）を除去する工程、並びに未露光部の（Ａ）を除去する工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁

The pattern forming method using the positive resist composition is also provided.例文帳に追加

(Ａ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂及び（Ｃ）特定のラクトン構造を有する低分子化合物を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition containing an amine imide together with an ester of polyamide acid as a photo-base generating agent which efficiently generates a strong base even with active ray of low exposure, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film.例文帳に追加

低露光量の活性光線であっても強塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸エステルと併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法および耐熱性塗膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a screen printable hydrogel composition having potential for forming a desired pattern and a method for placement of desired dimensions of the gel directly onto a substrate with little to no yield loss and for precise control over the ultimate thickness.例文帳に追加

スクリーン印刷可能なヒドロゲル組成物、ならびに、所望されるパターンを形成する能力、およびほとんどまたは全く収量損失なしに所望される寸法のゲルの支持体上への直接配置、および最終的な厚さの制御を与える方法の提供。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition excellent in resolution of a resist pattern after development while having high sensitivity, excellent also in tenting property of a hardened film and flocculating property during dispersion in a developing solution, and useful as an alkali developable DFR for manufacture of a printed wiring board.例文帳に追加

高感度でありながら現像後のレジストパターンの解像性に優れ、また硬化膜のテンティング性、現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

By the conductive composition containing bismuth (Bi) of ≥50 wt.%, indium (In) of ≤30 wt.%, Tin (Sn) of ≤30 wt.%, and copper (Cu) selected in the range of 1 to 5 wt.%, the through electrode 3 and the circuit pattern 2 are formed.例文帳に追加

５０ｗｔ％以上のビスマス（Ｂｉ）と、３０ｗｔ％以下のインジウム（Ｉｎ）と、３０ｗｔ％以下の錫（Ｓｎ）と、１〜５ｗｔ％の範囲で選択された銅（Ｃｕ）とを含有する導電性組成物によって、貫通電極３及び回路パターン２を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition excellent in terms of resolution, adhesion and adhesive strength while it has a adequately reduced moisture permeability and moisture absorbing property and to provide a photosensitive element using the same and a resist pattern formation method and a method for adhesion of a material to be adhered.例文帳に追加

透湿率、吸湿率を充分に低く抑えつつ、解像性、密着性、接着強度に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The phase-change structure fills partially the HARS, fills a first phase-change substance layer pattern, including a first phase-change substance and the remainder of the HARS, and includes a second phase-change substance having a composition being different from the first phase-change substance.例文帳に追加

相変化構造物はＨＡＲＳを部分的に満たし、第１相変化物質を含む第１相変化物質層パターン、及び前記ＨＡＲＳの残りを満たし、前記第１相変化物質と相異なる組成を有する第２相変化物質を含む。 - 特許庁

To provide safely a composition for firing which is used for a pattern in a display member and a circuit member, can be coated and can thermally decompose the organic component at a low temperature and can obtain a high strength material after firing, and a fired material using this.例文帳に追加

ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a black matrix substrate that has a black matrix layer in which multiple attachment pattern is formed, the method being free from application failure when spin-applying a liquefied photosensitive resin composition in which pigment is dispersed.例文帳に追加

多面付けパターンを形成したブラックマトリックス層を有するブラックマトリックス基板の製造方法において、顔料を分散させた液状の感光性樹脂組成物をスピン塗布するときに、塗布不良を生じないブラックマトリックス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided the foaming sugar-coated food patterned with the mottles in which a recessed part of a sugar-coating material having an uneven pattern on the surface is coated with a foaming coating composition containing a foaming component composed of a carbonate and an acid as principal components and 10-30 wt.% of a solid fat.例文帳に追加

表面に凹凸模様を有する糖衣物の凹部に、主成分として炭酸塩と酸とからなる発泡性成分及び固形脂１０〜３０重量％を含有する発泡性コーティング組成物がコーティングされた斑模様入り発泡性糖衣食品。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use in an ultramicro-lithographic process for manufacturing VLSI or a high capacity microchip and in another photofabrication process, and having improved PEB temperature dependency, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップ製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ＰＥＢ温度依存性が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which leaves no undissolved matter in development, has no scumming, chipping and undercut of a pattern edge, and excels also in solvent re-solubility of a dry film and electrical properties of the film typified by voltage retention.例文帳に追加

現像時に未溶解物が残存せず、パターンエッジのスカム、欠けおよびアンダーカットがなく、また乾燥塗膜の溶剤再溶解性および電圧保持率に代表される電気特性にも優れた着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

This humidity conditioning building material has a rugged pattern of desired shape at least on one surface of an inorganic base material formed by adding diatomaceous earth with the grain size in a range of 2 μm-100 μm, in the range of 5 wt.% to 40 wt.% to the total composition.例文帳に追加

粒度が２μｍ〜１００μｍの範囲内にある珪藻土を全組成分に対して重量で、５％〜４０％の範囲で添加して成形した無機質系基材の少なくとも一表面が所望形状の凹凸模様を有する調湿性建材。 - 特許庁

To provide an ink composition for a color filter in an inkjet method, forming the cross sectional shape of a colored pattern at the end part of an ink-applied surface neither as a shape of inclining to the outside of the applied surface nor a reverse-tapered shape but a flat shape.例文帳に追加

本発明はインクジェット方式においてインキ塗布面端部の着色パターンの断面形状が塗布面の外側に傾いた形状や逆テーパー形状ではなく平坦な形状となるカラーフィルタ用インキ組成物を提供することを課題とするものである。 - 特許庁

To provide a stable photosensitive resin composition capable of retaining the tack-freeness of a photosensitive resin dry film in warming by the effects of remaining heat after drying, a temperature rise due to exposure, etc., capable of undergoing contact exposure through a mask pattern and having high sensitivity, high adhesion and high resolution.例文帳に追加

乾燥後の余熱、露光による温度上昇等の影響による加温時の感光性樹脂乾燥膜のタックフリー性を維持でき、マスクパターンの密着露光が可能で、高感度、高密着性、高解像性で安定な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain the subject composition having excellent moldability and not eliminating a matte fine skin pattern, even when a dark color and molded product characteristics such as a plasticizer non-migrating property are imparted, by compounding a vinyl chloride-based resin, a plasticizer, chlorinated polyethylene, a specific acrylic resin, and calcium carbonate.例文帳に追加

可塑剤非移行性などの製品特性付与や暗色系（特に黒色系）の着色を施しても、高温成形や製品形状によって肌理の細かい艶消し性が消失しない、成形性に優れた塩化ビニル系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive element for a plasma display panel is used for forming a metal pattern on the uneven substrate, namely a lamination body where a burring layer B and a resin composition layer C having photosensitivity are laminated in this order on a support body film A.例文帳に追加

（Ａ）支持体フィルム上に、（Ｂ）埋め込み層（Ｃ）感光性を有する樹脂組成物層とがこの順に積層されてなる積層体であることを特徴とする凸凹の有る基板上の金属パターンを形成するための、プラズマディスプレイパネル用感光性エレメント。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a paste composition which can form a black layer of excellent black chromaticity and of a low contact resistance value with excellent storage stability, and to provide a pattern of a fired product which can be used for a black layer of excellent black chromaticity and of a low contact resistance value.例文帳に追加

黒色度が良好で、接触抵抗値の低い黒層を形成することができ、保存安定性が良好なペースト組成物、及び黒色度が良好で、接触抵抗値の低い黒層として用いることが可能な焼成物パターンを提供する。 - 特許庁

The resist composition contains a compound expressed by formula (C1) and an acid generator allows formation of a fine resist pattern.例文帳に追加

式（Ｃ１）で表される化合物及び酸発生剤を含むレジスト組成物は、微細なレジストパターンを形成できる［式（Ｃ１）中、ｍ３は４〜１０の整数を表し；Ｒ^c1は、ヒドロキシ基等を表し；ｎ３は１〜４の整数を表し；Ｒ^c2は、式（２−１）又は式（２−２）で表される基である。 - 特許庁

To provide a cosmetic composition enabling combinedly using a maltooligosaccharide and a hardly-water-soluble active ingredient, stably storable without depositing the maltooligosaccharide, and having itch-suppressive effect and excellent hair-growing effects on male-pattern alopecia and stress-derived alopecia.例文帳に追加

マルトオリゴ糖と、難水溶性の有効成分とを併用でき、該マルトオリゴ糖を析出させることなく安定に保存可能であり、抑痒効果や、男性型脱毛症及びストレス性脱毛症に優れた育毛効果を有する化粧料組成物の提供。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition which has a high conductivity, good adhesion to a transparent conductive film, and low contact resistance, and forms a wiring pattern such as an electrode superior in moisture proof, weatherability and with high reliability.例文帳に追加

高い導電性、ならびに透明導電膜に対する良好な接着性、低い接触抵抗を備えるとともに耐湿性、耐候性に優れた高い信頼性を有する電極等の配線パターンを形成することのできる導電性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the decorative sheet constituted by forming a pattern layer and a transparent acrylic resin layer on a base material sheet comprising a polyolefinic resin or an acrylic resin, at least one of the layers comprises an aqueous composition.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂からなる基材シート上に、絵柄模様層及び透明性アクリル系樹脂層が形成されてなる化粧シートであって、化粧シートを構成する層の少なくとも１種が水性組成物からなることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation sensitivity, has a developing margin which can form superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in developing process.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity and resolution, and excellent also in pattern shape, uniformity in film thickness and storage stability.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、パターン形状、膜厚均一性および保存安定性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁