「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(91ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a stable photosensitive resin composition capable of retaining the tack-freeness of a photosensitive resin dry film in warming by the effects of remaining heat after drying, a temperature rise due to exposure, etc., capable of undergoing contact exposure through a mask pattern and having high sensitivity, high adhesion and high resolution.例文帳に追加

乾燥後の余熱、露光による温度上昇等の影響による加温時の感光性樹脂乾燥膜のタックフリー性を維持でき、マスクパターンの密着露光が可能で、高感度、高密着性、高解像性で安定な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

It is desirable that the linear patterns are formed after the bulge-inducing patterns are formed, and therefore, the method may further involve the step for forming bulge-confirming patterns for confirming the bulge generation positions by previously applying droplets of the composition to regions other than the pattern formation regions.例文帳に追加

バルジ誘導用パターンを形成した後、線状パターンを形成することが望ましく、予めパターン形成領域外に組成物の液滴を付与してバルジ発生位置を確認するためのバルジ確認用パターンを形成する工程をさらに含んでもよい。 - 特許庁

The method for forming a pattern using the composition is also disclosed.例文帳に追加

(Ａ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂及び（Ｃ）特定のラクトン構造を有する低分子化合物を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

A whole- or partial-screen covering tool is removably mounted on the outside frame of a television receiver and a hyposthenic color composition pattern providing hypostatization (stereoscopic vision) of image is mounted on the tool so as to cover the entire or a part of screen.例文帳に追加

映像の実体視（立体視）をもたらす処の実体視色構成パターンを、それをテレビの外周枠に装着する事によってそこに作り出す処の全面装着具又は部分装着具を、テレビに着脱自在に装着する事を以て解決した。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity and resolution, and excellent also in pattern shape, uniformity in film thickness and storage stability.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、パターン形状、膜厚均一性および保存安定性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation sensitivity, has a developing margin which can form superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in developing process.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid composition for forming a coating layer for image protection in which an image exhibiting excellent gas resistance and rubbing resistance can be provided at a low running cost, its apparatus can be reduced in size easily, and an interference fringe pattern incident to formation of the coating layer can be reduced.例文帳に追加

耐ガス性、耐擦性に優れた画像を、低ランニングコストで提供でき、そのための装置の小型化も容易で、かつ被覆層の形成による干渉縞模様を低減できる画像保護のための被覆層形成用の液体組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a printed textile product having sufficiently high color density for pattern expression, without scumming, and having practical color fastness, in printing a cellulosic textile fiber material using a natural dye-containing printing paste composition.例文帳に追加

天然染料を含有する捺染糊組成物を用いてセルロース系繊維材料を捺染する場合に、模様表現に十分な染色濃度を有し、白場を汚染することなく、且つ、実用的な染色堅牢度を有する捺染物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.例文帳に追加

高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

By the conductive composition containing bismuth (Bi) of ≥50 wt.%, indium (In) of ≤30 wt.%, Tin (Sn) of ≤30 wt.%, and copper (Cu) selected in the range of 1 to 5 wt.%, the through electrode 3 and the circuit pattern 2 are formed.例文帳に追加

５０ｗｔ％以上のビスマス（Ｂｉ）と、３０ｗｔ％以下のインジウム（Ｉｎ）と、３０ｗｔ％以下の錫（Ｓｎ）と、１〜５ｗｔ％の範囲で選択された銅（Ｃｕ）とを含有する導電性組成物によって、貫通電極３及び回路パターン２を形成する。 - 特許庁

This humidity conditioning building material has a rugged pattern of desired shape at least on one surface of an inorganic base material formed by adding diatomaceous earth with the grain size in a range of 2 μm-100 μm, in the range of 5 wt.% to 40 wt.% to the total composition.例文帳に追加

粒度が２μｍ〜１００μｍの範囲内にある珪藻土を全組成分に対して重量で、５％〜４０％の範囲で添加して成形した無機質系基材の少なくとも一表面が所望形状の凹凸模様を有する調湿性建材。 - 特許庁

In the decorative sheet constituted by forming a pattern layer and a transparent acrylic resin layer on a base material sheet comprising a polyolefinic resin or an acrylic resin, at least one of the layers comprises an aqueous composition.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂からなる基材シート上に、絵柄模様層及び透明性アクリル系樹脂層が形成されてなる化粧シートであって、化粧シートを構成する層の少なくとも１種が水性組成物からなることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

A gap-embedding composition is embedded in a gap between pattern shapes composed of photosensitive resin formed on a surface, and includes at least a hydrolysis condensate of aryloxy silane raw material, and an aromatic compound as a solvent.例文帳に追加

表面上に形成された感光性樹脂からなるパターン形状の間隙に埋め込む組成物であって、少なくともアリールオキシシラン原料の加水分解縮合物と、溶媒として芳香族化合物を有することを特徴とする間隙埋め込み用組成物。 - 特許庁

To solve the problem on techniques to improve the intrinsic performance of microphotofabrication using far-UV rays, particularly ArF excimer laser light and to provide an excellent positive resist composition having low dependence on the pattern density and a wide side robe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a black matrix containing a novel photopolymerization initiator having both advantages of a highly photosensitive photopolymerization initiator rich in reactivity and a photopolymerization initiator having interfacial activity, and having satisfactory pattern-forming ability of high sensitivity.例文帳に追加

反応性に富む高感度の光重合開始剤と、界面活性光開始剤の両者の長所を兼ね備えた新規な光重合開始剤を含有し、高感度で十分なパターン形成能を有するブラックマトリックス用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive polymer composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and high resolution, and capable of forming a pattern form thin film that is superior in flatness, heat resistance, solvent resistance and transparency.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、高感度、かつ高解像度の感放射線性重合体組成物であり、さらに平坦性、耐熱性、耐溶剤性、透明性に優れたパターン状薄膜を形成できるポジ型感放射線性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which prevents sublimation of contained triazine and can form a pattern of a good shape and a color filter for a display having required patterns of colored layers, a black matrix, a protective layer, a gap holding material, etc., with a high degree of accuracy.例文帳に追加

含有するトリアジンの昇華が防止され、さらに形状の良好なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物と、着色層、ブラックマトリックス、保護層、ギャップ保持材等の所望のパターンを高い精度で備えるディスプレー用カラーフィルタとを提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition low in dielectric constant and a photosensitive film using the same, high in pattern accuracy and in adhesion to the substrate, developable in water or in a dilute alkali solution, and suitable for the fabrication of solder resists and interlaminar insulation layers for printed wiring boards and IC packages.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

A composition containing a hydrophilic polymer having a photoactive group in at least a side chain or an end is brought into contact with the top of a hydrophobic support, energy is imagewise imparted to fix the hydrophilic polymer on a hydrophobia polymer-containing layer, thereby forming a hydrophilic pattern, and then a coloring material is stuck to the hydrophilic pattern or to a hydrophobic region with no imparted energy.例文帳に追加

疎水性支持体上に、少なくとも側鎖又は末端に光活性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層上に該親水性ポリマーを固定化して親水性パターンを形成し、該親水性パターン、或いはエネルギーを付与されていない疎水性領域のいずれかに色材を付着させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an enamel particle dispersion, not precipitating during its storage even in using the large diameter of the dispersed particles for a large, smooth multi-colored pattern film, not aggregating the particles each other, forming a smooth film the cause of excellent storage stability, not deteriorating its designing property even applying the coating after a long time storage, and to provide a multi-colored pattern coating composition.例文帳に追加

塗装した場合に大柄で平滑な多彩模様塗膜を形成するために、分散粒子の粒子径を大きくしても、貯蔵中に沈降せず、粒子同士が合一化せず、平滑な塗膜を形成する貯蔵安定性に優れ、長期貯蔵した後に塗装を行ってもその意匠性が損なわれることがない多彩模様塗料組成物を製造しうるエナメル粒子分散液を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the lens sheet in which a light shielding pattern is arranged on a lens substrate having a lens array, the light shielding pattern is formed using a resin layer comprising a photosensitive resin composition containing at least (a) a heat adhesive binder comprising an organic polymer, (b) a compound having at least one or more radical-polymerizable ethylenic double bonds and (c) three or more photopolymerization initiators.例文帳に追加

レンズアレイを有するレンズ基板に遮光パターンが設けられたレンズシートにおいて、前記遮光パターンが、少なくとも、（ａ）有機重合体からなる熱粘着性の結合剤、（ｂ）ラジカル重合性を有するエチレン性二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（ｃ）３種類以上の光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物からなる樹脂層を用いて形成されているものとする。 - 特許庁

The electrode pattern composed of the ink is formed on the substrate by offset printing using the ink for forming the plasma display panel electrode, containing conductive powders, a resin composition removable by baking and a thixotropy-imparting agent having 200-450°C pyrolysis temperature, wherein the ratio of the thixotropy-imparting agent is 0.1-5 wt.% of the whole, followed by baking the printed electrode pattern.例文帳に追加

導電性粉体と、焼成により除去可能な樹脂分と、熱分解温度が２００〜４５０℃であるチキソトロピー性付与剤と、を含み、かつ当該チキソトロピー性付与剤の含有割合が全体の０．１〜５重量％である、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの電極形成用インキを用いて、当該インキからなる電極パターンをオフセット印刷によって基板上に形成し、次いでこの電極パターンを焼成する。 - 特許庁

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure, a lactone solvent and a hydroxycarboxylic acid based solvent.例文帳に追加

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ラクトン系溶剤及びヒドロキシカルボン酸系溶剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 - 特許庁

The method for forming the porous pattern comprises coating a base material with the photopolymerizable composition to form a film, irradiating the formed film with electromagnetic waves according to a desired pattern, soaking the irradiated film in the poor solvent to the binder resin, and vaporizing the poor solvent penetrated into the film, so that any one of an irradiated part or a not-irradiated part is made to be porous.例文帳に追加

本多孔質パターンの形成方法は、かかる多孔質パターン形成用光重合性組成物を、基材上に塗設して塗膜を形成した後、該塗膜に所望のパターンに応じた電磁波照射を行い、次いで、バインダー樹脂に対する貧溶媒に浸漬した後、該塗膜内部に浸透した該貧溶媒を揮発させることにより、照射または未照射のいずれかの部位を多孔質化することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a radiosensitive composition and a polymer for a semiconductor resist, having a high transparency for a radiation and being excellent in basic physical properties for a resist, such as sensitivity and resolution, as well as in EL, LWR and a minimum collapse size when forming a line pattern.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際におけるＥＬ、ＬＷＲ、及び最小倒壊寸法に優れた感放射線性組成物及び半導体レジスト用重合体を提供する。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a pattern of a colored layer is formed by a screen print method while using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in the range of 24 to 95 wt.% by solid ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.例文帳に追加

感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color liquid crystal display capable of keeping effective intensity of radiation on a sufficient level in the whole region of a coating film from the top to the bottom and capable of forming a pattern having high hardness in the whole region and an excellent shape.例文帳に追加

塗膜の上部から底部までの全領域において放射線の有効強度を十分なレベルに保つことができて、形成されたパターンが該全領域において高い硬度を有し、優れた形状のパターンを形成しうるカラー液晶表示装置用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

A decorative sheet or decorative material has a printed pattern layer using a printing ink composition, a primer layer containing a resin having a double bond and containing a resin having an elongation of dried film after curing by UV ray of 50% or more and an energy beam curing type topcoat formed on a substrate in this order.例文帳に追加

基材上に、インキ組成物による印刷模様層、その上面に２重結合を有し且つＵＶ硬化後の乾燥皮膜の伸び率が５０％以上の樹脂を含有するプライマー層、その上面にエネルギー硬化型トップコート層が形成されている化粧紙。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having such good filterability that can form a uniform pattern and to provide a resin solution for photoresist which is stable over a long period of time, that is, a resin solution for photoresist of which the filterability does not deteriorate even after long-term storage.例文帳に追加

本発明は、均一なパターン形成を可能とするろ過性の良好なフォトレジスト組成物を提供することを目的とし、長期的に安定なフォトレジスト用樹脂溶液、つまり長期間保管してもろ過性能が低下しないフォトレジスト用樹脂溶液を提供する事にある。 - 特許庁

Since the surface coating layer remaining on the substrate has high lyophobic property and a portion where the coating is removed has relatively high lyophilic property, a composition containing a conductive material is selectively deposited in a portion where the coating is removed, and thereby a desired wiring pattern can be obtained.例文帳に追加

基板上に残留する表面被覆層は疎液性が高く、一方、被覆が除去された部分は相対的に親液性が高いので、被覆が除去された部分に選択的に導電性材料含有組成物を付着させることができ、所望の配線パターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a polymer which is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, is little in defects, when developed, and is excellent in copolymerizability with other monomers, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for an inkjet which is coated by an inkjet system, is optically settable with efficiency even if exposure is low, and further, can make thermosettability after optical setting satisfactory, thus can form a fine resist pattern with high precision.例文帳に追加

インクジェット方式により塗工される硬化性組成物であって、露光量が少なくても、効率的に光硬化させることができ、更に光硬化後の熱硬化性を良好にすることができ、従って微細なレジストパターンを精度よく形成することができるインクジェット用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which exhibits sufficient transmissivity when an exposure light source for F_2 excimer laser light (157 nm) is used, has a fast etching speed, and improves roughness of a sample surface after dry etching, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、エッチング速度が速く、かつドライエッチングを実施した後のサンプル表面の荒れが改善された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When, using such the photocurable/thermosetting conductive composition, a pattern of a coating film is formed by exposure and development and then hardened by heating at 80-300°C, the fine conductive circuit having excellent conductivity and adhesiveness can easily be formed without the use of a complicated process.例文帳に追加

このような光硬化性熱硬化性導電組成物によれば、塗膜のパターンを露光現像にて形成し、その後、８０℃〜３００℃で熱硬化することにより、導電性と密着性が共に優れる微細な導電回路を複雑な工程を経ることなく容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a laminate which is produced by forming a pattern layer on a substrate layer made of a rubber-reinforced resin composition and covering it with a transparent resin layer, excellent in appearance, easy of production, and also excellent in adhesion between layers and/or in solvent resistance of an anchor coat layer.例文帳に追加

ゴム強化樹脂組成物からなる基材層に図柄層を形成して透明樹脂層で被覆してなる積層体であって、外観に優れ、製造が容易な積層体、さらには各層間の密着性及び／又はアンカーコート層の耐溶剤性にも優れた積層体を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a colored layer pattern is formed by a screen printing method by using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in a range of 24 to 95 wt.% by a solid content ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for the formation of an inorganic antireflection film with which an antireflection film having a high antireflection effect even in a rather thin film and having excellent adhesion property and sticking property with a resist film can be formed and a resist pattern having excellent resolution and accuracy can be formed.例文帳に追加

簡便な方法により、比較的薄膜でも反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition in which crosslinking efficiency of a condensate of an alkoxysilane can be increased after exposure by heat treatment at such a relatively low temperature as ≤300°C, and from which a thin film pattern excellent in electrical insulation can be obtained.例文帳に追加

露光した後に、例えば３００℃以下の比較的低い温度で熱処理することによって、アルコキシシランの縮合物の架橋効率を十分に高めることができ、かつ電気的絶縁性能に優れた薄膜パターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and resolving power, ensuring excellent resolving power and pattern profile even if time passes considerably until after-heating after exposure and having small density dependency in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ションにおいて、感度及び解像力に優れ、露光した後の後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られ、疎密依存性の少ないポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive semiconductor nanocrystal and a photosensitive composition for a semiconductor nanocrystal, giving easily the semiconductor nanocrystal, without requiring a troublesome process of forming a film, of using a template or the like, and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

成膜または鋳型の使用など厄介な工程なしで簡単に半導体ナノ結晶のパターンを得ることが可能な、感光性半導体ナノ結晶及び半導体ナノ結晶の感光性組成物を提供するとともに、これらを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁