「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

The photocurable composition is applied on the transparent electrode of a front glass substrate, exposed according to a specified pattern, developed and calcined to form the black layer (lower layer) electrode circuit of the electrode having a black and white double-layer structure of the PDP.例文帳に追加

このような光硬化性組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの白黒二層構造の電極における黒層（下層）電極回路が形成される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition free from problems relating to tailing in a pattern profile or line edge roughness so as to solve problems in the techniques to improve the performance of microphotofabrication using far UV rays, in particular, ArF excimer laser light.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションの性能向上技術における課題を解決することであり、パターン形状の裾引き、ラインエッジラフネスの点で問題のないポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

Furthermore, it can make the drive method simple, while it simplifies the composition of the column drivers 12 and 13 as compared with the conventional mosaic pattern, since one of the 1st electrodes 1 corresponds to only the sub-pixel of the one color.例文帳に追加

更にまた、１個の第１の電極１は１色の副画素のみに対応しているので、従来のモザイクパターンと比較すると、カラムドライバ１２及び１３の構成を簡略化すると共に、その駆動方法を簡易なものとすることが可能である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition superior in characteristics required for sensitivity and resolution and inner pattern profile dimensional stability from exposure process to heating process at the time of using far ultraviolet rays, especially, short wavelength light source, such as excimer laser beams.例文帳に追加

遠紫外光、とくにエキシマレーザー光などの短波長光源の使用に対して感度、解像力、定在波の内パターンプロファイル、露光から加熱工程までの寸法安定性などの必要特性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV excellent in density dependence of a contact hole pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、コンタクトホールパターンの疎密依存性に優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition, capable of forming a resist pattern having rectangular profile with high sensitivity and high resolving power in lithography, using far-UV, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength and superior in the focus depth.例文帳に追加

遠紫外線とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するリソグラフィーにおいて、矩形プロファイルをもつレジストパターンを高感度、高解像力で実現し得る、更に焦点深度が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The aerosol composition includes the porous silica and the liquefied gas, provided that the porous silica has at least one peak at a position corresponding to d-spacing of greater than 2 nm in an X ray diffraction pattern.例文帳に追加

多孔質シリカと、液化ガスとを含有するエアゾール組成物であって、前記多孔質シリカが、そのＸ線回折パターンにおいて、ｄ間隔が２ｎｍより大きい位置に少なくとも１つのピークを有することを特徴とするエアゾール組成物である。 - 特許庁

To provide an upper antireflection film for extending the depth of a focus, a composition for forming an upper antireflection film, and a pattern forming method using the upper antireflection film.例文帳に追加

本発明は、焦点深度を広げることが可能な上層反射防止膜、該上層反射防止膜を形成するための上層反射防止膜形成用組成物および該上層反射防止膜を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a practically useful and alcohol-developable negative photosensitive resin composition having high transparency, a low dielectric constant, a low coefficient of thermal expansion, a high glass transition temperature and satisfactory toughness, and to provide a method for producing a fine pattern using the same.例文帳に追加

高透明性、低誘電率、低熱膨張係数、高ガラス転移温度、且つ十分な靭性を併せ持つ実用上有益で、アルコール類で現像できるネガ型の感光性樹脂組成物、及び、これを用いた微細パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a woodgrain pattern-forming thermoplastic resin composition which stably yields desirable woodgrain patterns and provides a woodgrain patterned molded product having a high impact resistance and a woodgrain patterned molded product having a high weather resistance.例文帳に追加

木目模様を安定して得られるとともに任意の木目模様が得られ、耐衝撃性にも優れた木目模様成形品を得ることができる木目模様形成熱可塑性樹脂組成物及び耐候性に優れた木目模様成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high resolving power when a bracelet illumination lamp is used, having a broad defocus latitude, less liable to produce a side lobe in pattern formation using a halftone phase shift mask and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際に高解像力であり、デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming a photosensitive film layer which adequately excels in sandblasting resistance at the time of sandblasting processing, particularly under the high pressure condition when forming a concavo-convex pattern on the surface of a base material using sandblasting.例文帳に追加

サンドブラスト法を用い基板表面に凹凸パターンを形成する際、特に高圧条件下でのサンドブラスト加工時に耐サンドブラスト性に十分優れた感光性フィルム層を形成することのできる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent positive type resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving a resist pattern whose profile is rectangular (free from a T-top shape peculiar to a resist for irradiation with electron beams).例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、得られるレジストパターンプロファイルが矩形（特に電子線照射用レジストに特有のＴ−ｔｏｐ形状とならない）である、優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition for a solid state imaging device allowing pattern formation of a coloring layer having a good spectral characteristic and high resolution; a color filter for a solid state imaging device using the same; and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

分光特性が良好で、かつ解像度の高い着色層のパターン形成ができる固体撮像素子用着色感光性組成物とそれを用いた固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a resist pattern of a good shape in which dense and isolated patterns are present in a mixed state and improving such a tendency that isolated patterns become an inverted taper shape particularly to a shift of a focal depth on the minus side.例文帳に追加

密集パターンと孤立パターンの混在した形状のよいレジストパターンが形成可能であり、とくに焦点深度のマイナス側のズレに対して孤立パターンが逆テーパ形状になり易い傾向が改善されたポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition for a solid-state imaging element capable of forming a high-definition light-shielding film pattern in which the deterioration of light-shielding ability on the peripheral part is suppressed, curing sensitivity is high and a residue on an unexposure part is suppressed.例文帳に追加

周辺部における遮光能の低下が抑制され、硬化感度が高く、未露光部における残渣が抑制された高精細な遮光膜パターンを形成しうる固体撮像素子用重合性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The wiring circuit board is equipped with at least an electrical insulating layer, a conductive layer formed on the electrical insulating layer to serve as a predetermined circuit pattern, and an adhesive layer formed by thermally curing a thermosetting visco-adhesive composition.例文帳に追加

電気絶縁体層と、電気絶縁体層上に所定の回路パターンとなるように形成された導電体層とを少なくとも有しており、熱硬化型粘接着剤組成物の熱硬化により形成された接着剤層を有している。 - 特許庁

To provide a polymer exhibiting designed performance in the objective use, a method for producing the polymer and a resist composition capable of giving a resist film exhibiting the designed performance and suppressing the generation of defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which improves edge roughness of a resist pattern, does not cause deposition of insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is superior in density dependency and can suppress a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemically amplified resist having high transparency to a radiation, capable of solving the problem of trade-off particularly of resolution and exposure margin, and excellent also in dry etching resistance and a pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an acrylate or a methacrylate copolymer suitable for use as a resin component of a chemically amplified photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, a resist pattern shape, dry etching resistance and adhesion, having a high affinity to an alkali and capable of giving a good resist pattern by paddle development, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対する親和性が高く、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物の樹脂成分として好適に用いうるアクリル酸若しくはメタクリル酸エステル共重合体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加

高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film for a multilayer resist process which is excellent in storage stability, can form a silicon-containing film having a high Si content and a small permeation amount of a resist material, and can stably form a resist pattern having a superior bottom profile without causing trailing or the like, and to provide a silicon-containing film and a pattern forming method.例文帳に追加

保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.例文帳に追加

浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁

A method of producing a color filter includes (a) forming a colored pattern on a substrate by exposing and developing a colored curable composition containing a dye; a polymerizable monomer and an organic solvent, (b) forming a transparent protective film on the formed colored pattern; and (c), irradiating at least the transparent protective film with a light, after the transparent protective film is formed.例文帳に追加

（ａ）染料と重合性モノマーと有機溶剤とを含む着色硬化性組成物を、露光し現像して、基板の上に着色パターンを形成する工程と、（ｂ）形成された前記着色パターン上に、透明性保護膜を形成する工程と、（ｃ）前記透明性保護膜の形成後に少なくとも該透明性保護膜を光照射処理する工程とを含んでいる。 - 特許庁

To provide an insulating resin with excellent adsorptive properties to a plating catalyst or a precursor thereof and forming an insulating resin layer with excellent resistance to a plating solution; an insulating resin layer-forming composition comprising the insulating resin; a laminate easily forming a metal pattern; a method for manufacturing a surface metal film material using the laminate; and a method for manufacturing a metal pattern material.例文帳に追加

めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れ、めっき液耐性に優れる絶縁性樹脂層を形成しうる絶縁樹脂及び該絶縁性樹脂を含んでなる絶縁性樹脂層形成用組成物、金属パターンを簡易に形成しうる積層体、該積層体を用いた表面金属膜材料の作製方法、金属パターン材料の作製方法の提供。 - 特許庁

In the method for manufacturing the cured pattern by which a pattern obtained from a photosensitive resin composition including a resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent is exposed and cured with 10 to 10,000 mJ/cm^2 at 50 to 180°C, the resin includes a structural unit originating from a monomer having a 2-4C cyclic ether.例文帳に追加

樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物から得られたパターンを、５０℃〜１８０℃の条件下で、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２露光する硬化されたパターンの製造方法において、樹脂が、炭素数２〜４の環状エーテルを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化されたパターンの製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: forming an adhesive pattern by forming, on a semiconductor wafer, an adhesive layer by sticking an adhesive film formed of a photosensitive adhesive composition to the semiconductor wafer at ≤100°C, and subjecting the adhesive layer to exposure and development treatments; and sticking an adherend to the semiconductor wafer through the adhesive pattern.例文帳に追加

感光性接着剤組成物からなる接着フィルムを１００℃以下で半導体ウェハに貼付けることにより接着剤層を半導体ウェハ上に形成し、該接着剤層を露光及び現像処理することにより接着剤パターンを形成する工程と、接着剤パターンを介して半導体ウェハに被着体を接着する工程と、を備える半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an image by UV exposure and development with a dilute aqueous alkali solution, having no tackiness to a film for exposure in which a pattern image is formed, capable of giving a pattern excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering and chemical resistance, and suitable for use as a solder resist for production of a printed wiring board.例文帳に追加

紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像で画像形成可能であって、パターン画像を形成する露光用フィルムに対してタックフリー（べとつきがない）であり、密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱性、耐薬品性が優れたパターンを与えることができる、プリント配線板製造用ソルダーレジストとして好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the coated glass vessel having the hardened coating film having the mottling pattern and the manufacturing method for the same, the hardened coating film having the mottling pattern is formed by spray-coating the surface of the glass vessel with a coating material composition for glass which contains 50-400 pts.wt. polyol compound and 5-100 pts.wt. silane coupling agent respectively to 100 pts.wt. melamine resin.例文帳に追加

まだら模様の硬化塗膜を有する塗装ガラス容器およびその製造方法であって、メラミン樹脂１００重量部に対して、ポリオール化合物を５０〜４００重量部、シランカップリング剤を５〜１００重量部の範囲でそれぞれ含むガラス用塗料組成物を使用して、ガラス容器の表面に、スプレー塗装等によって、まだら模様の硬化塗膜を形成する。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

The pattern forming material includes a photosensitive layer formed by using a photosensitive composition at least including a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, wherein absorption at 810 cm^-1 per 1 μm thickness of the pattern formed by at least exposing the photosensitive layer after the photosensitive layer is stacked on the surface of the board is <0.02.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤、を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を、基板の表面に積層した後、該感光層に対して露光を少なくとも行うことにより形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１の吸収が、０．０２未満であるパターン形成材料である。 - 特許庁

A powder paint, composed of an ultraviolet curing resin composition, is stuck and coated onto the printed-wiring board 1 by the impact force of an impact medium 11, it is heated ane melted, a coating film is formed, ultraviolet rays are irradiated and exposed selectively, so as to form a prescribed pattern, unexposed parts in the coating film is removed by developer, and the resist pattern is formed.例文帳に追加

紫外線硬化樹脂組成物からなる粉体塗料を、インパクトメディア１１の衝突力によりプリント配線板１上に付着させて塗布し加熱溶融して塗膜を形成した後、所定のパターンとなるように紫外線を選択的に照射して露光し、塗膜の未露光部分を現像液で除去しレジストパターンを形成することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a resist material that has good barrier performance to water, enables to keep a resist composition from eluting to water, has a high receding contact angle to water, is useful for an immersion lithography due to excellent process applicability without requiring a protective film, and enables to form a fine pattern precisely, as well as to provide a pattern formation method using the material.例文帳に追加

水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition solution which allows fine pattern printing by an inkjet system, is curable by active energy beams and low-temperature heating (250°C or below), and has low viscosity despite not containing organic solvents, and to provide a coating film of the photosensitive resin composition obtained from the solution and having good physical properties, and to provide a method for utilizing the same.例文帳に追加

本発明の課題は、インクジェット方式で微細パターンの印刷が可能であり、活性エネルギー線及び低温（２５０℃以下）の加熱で硬化可能であって、有機溶媒を含有しないにもかかわらず、低粘度である感光性樹脂組成物溶液及びそれから得られる良好な物性を有する感光性樹脂組成物塗膜、並びに、その利用方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

This alkali-soluble conductive paste composition contains (A) an alkaline-soluble polymer binder, (B) a conductive metal powder, and (C) an organic acid, and this is suitably used for the method of construction in which a layer of the alkali-soluble conductive paste composition formed on the substrate is patternized via the pattern of the conductive paste which is insoluble in an alkaline aqueous solution provided on the upper layer.例文帳に追加

本発明のアルカリ可溶性導電性ペースト組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性高分子バインダー、（Ｂ）導電性金属粉、および（Ｃ）有機酸を含むことを特徴とし、基材上に形成したアルカリ可溶性導電性ペースト組成物の層が、その上層に設けたアルカリ水溶液に不溶な導電性ペーストのパターンを介してパターン化される工法に好適に用いられる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition excellent in electrical properties and transparency, capable of efficiently forming a pattern of smooth shape, and excellent in heat-resistant shape retentivity, heat-resistant transparency and solvent resistance of a formed resin film, and to provide a laminate obtained by forming a resin film using the radiation sensitive composition on a substrate and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

電気特性や透明性に優れ、且つ効率よくなだらかな形状のパターン形成が可能で、しかも形成される樹脂膜の耐熱形状保持性、耐熱透明性及び耐溶剤性に優れた感放射線組成物、この感放射線組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

The invention relates to: a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The method comprises the steps of (1) sticking the sheet-like thermosetting resin composition on the pattern surface of a wafer having bumps, (2) pressurizing the wafer by compressing a gas in a pressure-proof vessel at a temperature not lower than the softening point of the thermosetting resin composition, (3) cutting the wafer into chips, and (4) mounting the chip on a wiring circuit board.例文帳に追加

（１）バンプを有するウエハのパターン面にシート状熱硬化性樹脂組成物を貼り合わせる工程、（２）耐圧容器内で、該熱硬化性樹脂組成物の軟化点以上の温度で、気体圧縮による加圧を該ウエハに行う工程、（３）該ウエハをチップに切断する工程、および（４）該チップを配線回路基板に搭載する工程を含む、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This invention relates to the printed wiring board which has the insulating protective film formed of the siloxane-based resin composition on the substrate including the insulating base, adhesive and wiring pattern, the siloxane-based resin composition containing 0.5 to 10 parts by mass of a compound having one or more hindered phenol groups in a molecule for 100 parts by mass of a resin component.例文帳に追加

絶縁基材、接着剤、及び配線パターンを含んでなる基板に、シロキサン系樹脂組成物からなる絶縁保護膜を形成したプリント配線板において、前記シロキサン系樹脂組成物が、樹脂成分１００質量部に対して、分子中にヒンダードフェノール基を１個以上有する化合物を０．５〜１０質量部含んで構成されプリント配線板に関する。 - 特許庁