「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the surface coating layer remaining on the substrate has high lyophobic property and a portion where the coating is removed has relatively high lyophilic property, a composition containing a conductive material is selectively deposited in a portion where the coating is removed, and thereby a desired wiring pattern can be obtained.例文帳に追加

基板上に残留する表面被覆層は疎液性が高く、一方、被覆が除去された部分は相対的に親液性が高いので、被覆が除去された部分に選択的に導電性材料含有組成物を付着させることができ、所望の配線パターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a pattern of a colored layer is formed by a screen print method while using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in the range of 24 to 95 wt.% by solid ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.例文帳に追加

感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color liquid crystal display capable of keeping effective intensity of radiation on a sufficient level in the whole region of a coating film from the top to the bottom and capable of forming a pattern having high hardness in the whole region and an excellent shape.例文帳に追加

塗膜の上部から底部までの全領域において放射線の有効強度を十分なレベルに保つことができて、形成されたパターンが該全領域において高い硬度を有し、優れた形状のパターンを形成しうるカラー液晶表示装置用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition having excellent shelf stability and curing properties even when pigment concentration is high and capable of forming a colored film having excellent adhesiveness to a substrate and development properties, to provide a color filter having a satisfactory pattern shape and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

顔料濃度が高い場合でも、保存安定性、及び硬化性に優れ、且つ、基板との密着性、及び現像性に優れた着色膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供し、良好なパターン形状を有するカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method includes: providing a semiconductor including a front side, a back side, and a PN junction, the front side including a pattern of conductive tracks including an underlayer and the back side including metal contacts; contacting the semiconductor with a monovalent copper plating composition; and plating a copper layer on the underlayer of the conductive tracks.例文帳に追加

前面、裏面およびＰＮ接合を含む半導体を提供し、下層を含む導電トラックのパターンを前記前面が含み、かつ前記裏面が金属接点を含んでおり；前記半導体を一価銅めっき組成物と接触させ；並びに導電トラックの下層上に銅をめっきする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern by photolithography and forming an insulating film without performing heat treatment at >200°C and having no problem that a carrier is trapped and the degree of charge transfer is reduced when used as a gate insulating film of an organic thin film transistor.例文帳に追加

フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a black curable composition for a wafer-level lens that forms a cured film with excellent light shielding properties and exhibiting excellent sensitiveness necessary for curing in pattern formation, and an easy-to-produce wafer-level lens with light quantity properly adjusted by the presence of a light shielding film.例文帳に追加

遮光性に優れた硬化膜を形成することができ、パターン形成時の硬化に必要な感度に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供し、遮光膜の存在により光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, obtaining a cured film having superior solvent resistance and heat resisting transparency, having high sensitivity and hardly causing a change in a pattern shape to a change in exposure quantity, and to provide a cured film, a method of manufacturing the same, an organic EL display device and a liquid crystal display device.例文帳に追加

耐溶剤性及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られ、高い感度を有するとともに、露光量の変化に対するパターン形状の変化が小さい感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置、並びに、液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

This method includes: a molding step of molding the cement composition with a groove portion with the joint-like pattern in a predetermined range of a surface; a painting step of painting at least an area except the groove portion in the predetermined range; and a filling step of filling the groove portion with a joint material.例文帳に追加

表面の所定範囲に目地状模様の溝部を有したセメント組成体を成形する成形工程と、前記所定範囲の少なくとも前記溝部以外の領域を塗装する塗装工程と、前記溝部に目地材を充填する充填工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a method of improving electric performance by reducing a surface resistivity of a conductive composition pattern-formed on a base material and containing a silver particle and a resin binder after formation, and to provide a method of manufacturing an electromagnetic shielding material utilizing the same.例文帳に追加

基材上にパターン状に形成された銀粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物層について、形成後にその表面抵抗率を下げて電気的性能を向上させる方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is applied onto the interlayer insulating film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, dried, irradiated with light through a mask patterned to form windows 6c in predetermined parts, and developed with an aqueous alkali solution to form a pattern.例文帳に追加

本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁

To provide such a radiation sensitive composition with a variable dielectric constant that the dielectric constant of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied dielectric constant is sufficiently large, and a stable dielectric pattern or an optical material can be obtained without depending on the use conditions in the succeeding process.例文帳に追加

材料の誘電率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した誘電率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な誘電率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、誘電率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation-sensitivity, has a developing margin capable of forming a superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in a developing process and that can easily form a patterned thin film that is superior in adhesiveness.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition having high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, capable of forming a cured film with a pattern having high chemical resistance and good resolution, and being used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ耐薬品性が高く、良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in compatibility of an ink repellent, ensures good surface appearance and pattern shape after film production, exhibits excellent surface ink repellency, and can retain the surface ink repellency even after usual cleaning and after a lapse of time.例文帳に追加

撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるアルカリ現像感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprints that exhibits good patternability in transferring high-aspect patterns or repeatedly transferring patterns and, particularly, repeatedly transferring high-aspect patterns, to provide a patterning method using the same, and to provide a pattern obtained by the patterning method.例文帳に追加

高アスペクトパターンを転写する際、または繰り返しパターン転写を行う際、更には高アスペクトパターンを繰り返し転写する際に良好なパターン形成を有するインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンの提供。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition forming a cured film that has high sensitivity, excellent curability with respect to the inner part of the film, and excellent adhesion to a supporting body, maintains a patterned shape even during post-heating after development, has good pattern formability, and is suppressed in coloring due to heating or passage of time.例文帳に追加

感度が高く、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、現像後の後加熱時においてもパターン形状が保持され、良好なパターン形成性を有し、且つ、加熱経時による着色が抑制された硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition in which crosslinking efficiency of a condensate of an alkoxysilane can be increased after exposure by heat treatment at such a relatively low temperature as ≤300°C, and from which a thin film pattern excellent in electrical insulation can be obtained.例文帳に追加

露光した後に、例えば３００℃以下の比較的低い温度で熱処理することによって、アルコキシシランの縮合物の架橋効率を十分に高めることができ、かつ電気的絶縁性能に優れた薄膜パターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and resolving power, ensuring excellent resolving power and pattern profile even if time passes considerably until after-heating after exposure and having small density dependency in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ションにおいて、感度及び解像力に優れ、露光した後の後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られ、疎密依存性の少ないポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an artificial marble having natural stock feeling, transparent feeling, depth feeling and high grade feeling which do not incorporate in prior art by forming a resin layer with a pattern having the transparent feeling and the depth feeling and using a translucent type as a casting resin composition.例文帳に追加

透明感や深み感のある模様付き樹脂層を形成すると共に、注型用樹脂組成物として半透明タイプのものを用いることによって、従来にない天然素材感、透明感、深み感、高級感を備えた人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

The chemically embossed foamed decorative material is obtained by at least applying a pattern to the surface of a molded article, which comprises a foamable resin composition containing a halogen-free resin, a foaming agent and a metal compound foaming accelerator but not a liquid component, by ink containing a foaming inhibitor.例文帳に追加

非ハロゲン樹脂、発泡剤および金属化合物発泡促進剤を含有し、かつ液状成分は含有しない発泡性樹脂組成物からなる成形品の表面に、発泡抑制剤含有インキで少なくとも部分的に模様を付与し、加熱発泡したケミカルエンボス発泡装飾材。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power and focal depth.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The refractive index-variable composition comprising (A) a decomposable polymer, (B) a non-decomposable component containing an inorganic oxide particle and (C) a radiation-sensitive decomposing agent is irradiated with a radioactive ray and subsequently treated with (D) a stabilizer thereby to form a refractive index pattern and an optical material.例文帳に追加

（Ａ）分解性重合体、（Ｂ）無機酸化物粒子を含有する非分解性成分および（Ｃ）感放射線分解剤を含有する屈折率変化性組成物に放射線を照射し、次いで（Ｄ）安定化剤で処理することによって、屈折率パターンや光学材料を形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive variable refractive index composition for an optical material so that the refractive index of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied refractive indices is sufficiently large, and a stable refractive index pattern and optical material can be obtained without depending on the succeeding use conditions.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which finely divides peeled chips (to reduce the size of resist chips after peeling) and which is excellent in plating resistance and excellent in sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

はく離片を細分化（はく離後のレジスト片のサイズを小さく）させることができ、且つ耐めっき性に優れ、感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which maintains a sufficient transparency, solvent resistance and adhesion and is provided with a required resolving power and storage stability even when it is submitted to a high-temperature treatment after formation of a pattern of an inter-laminar insulating film or a microlens, and an interlaminar insulating film and a microlens prepared therefrom.例文帳に追加

層間絶縁膜マイクロレンズパターンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得られる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive ink composition and the like by which, when applying a conductive ink to an object of application to form a pattern, a volume resistivity close to that of bulk silver can be obtained even by firing at ≤150°C for 30 min (low temperature firing), though depending on the thickness of the film applied.例文帳に追加

導電性インキを塗布対象物に塗布してパターンを形成するにあたり、塗布された膜厚にも依存するが１５０［℃］以下３０分間の焼成（低温焼成）によっても、バルク銀に近い体積抵抗率が得られる、導電性インキ組成物などを提供する。 - 特許庁

The composition for forming a color pattern contains (A) a pigment, (B) a dispersion resin having an acid value of 20 to 300 mg/g and a weight average molecular weight of 3,000 to 100,000, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent, and satisfies the following condition.例文帳に追加

（Ａ）顔料、（Ｂ）酸価２０〜３００ｍｇ／ｇ、重量平均分子量３，０００〜１００，０００である分散樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）有機溶剤を含有し、下記の条件を満たすことを特徴とする着色パターン形成用組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which has such properties as high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and which is for use in formation of a planarizing film for a TFT substrate or an interlayer insulation film having a pattern of good resolution or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

To provide a composition for the formation of an inorganic antireflection film with which an antireflection film having a high antireflection effect even in a rather thin film and having excellent adhesion property and sticking property with a resist film can be formed and a resist pattern having excellent resolution and accuracy can be formed.例文帳に追加

簡便な方法により、比較的薄膜でも反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive semiconductor nanocrystal and a photosensitive composition for a semiconductor nanocrystal, giving easily the semiconductor nanocrystal, without requiring a troublesome process of forming a film, of using a template or the like, and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

成膜または鋳型の使用など厄介な工程なしで簡単に半導体ナノ結晶のパターンを得ることが可能な、感光性半導体ナノ結晶及び半導体ナノ結晶の感光性組成物を提供するとともに、これらを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of improving hydrophilicity during alkali development while securing hydrophobicity in immersion exposure, suppressing a development defect of a non-exposure part, and providing a resist coating film excelling in a pattern shape after development.例文帳に追加

液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for treating a photoresist pattern to be used in a double patterning process in photolithographic patterning techniques such as lithography-lithography-etching and self-alignment spacer double patterning, and for a reduction process useful to form a contact hole and a groove.例文帳に追加

フォトリソグラフィパターニング技術、例えば、リソ−リソ−エッチおよび自己整合スペーサーダブルパターニングのようなダブルパターニングプロセスなどに、並びに、コンタクトホールおよび溝形成において有用な縮小プロセスに使用されうるフォトレジストパターンを処理するための組成物およびこの組成物を使用する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a monomer for producing a resin for a resist, the resin being used in a photosensitive composition which can form a resist pattern having high dry etching resistance and excellent transparency to short wavelength light, good resolving properties with an alkaline development, and high adhesiveness.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂を製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

To provide a composition for a resist lower layer film excellent in storage stability for obtaining a resist lower layer film which suppresses resist peeling, improves reproducibility of a pattern, and has alkali resistance and resistance to oxygen ashing in resist removal, by disposal under a resist.例文帳に追加

レジストの下層に設けることにより、レジストはがれがなくパターンの再現性を向上させ、アルカリおよびレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を得るための、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant.例文帳に追加

露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a lift-off process which facilitates resist stripping by ozone water without using an organic solvent and facilitates formation of a wiring pattern with high processability and reliability by a lift-off process, for example, on a semiconductor substrate or a liquid crystal substrate.例文帳に追加

有機溶媒を使用することなくオゾン水によりレジスト剥離を容易に行うことができ、例えば半導体用基板や液晶用基板上に、リフトオフ法により加工性および信頼性の高い配線パターンを形成することを可能とするリフトオフ用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light (193 nm wavelength) and ensuring superior resolving power and pattern profile even if plenty of time passes until post- heating after exposure.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにあって、十分な感度及び解像力を有し、露光した後の後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlayer film excellent in storage stability and capable of forming a resist underlayer film excellent in adhesion to a resist film, improving the reproducibility of a resist pattern and having resistance to an alkali solution used for development and to oxygen ashing in resist removal.例文帳に追加

レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を形成することができ、且つ、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable resin composition capable of easily producing a cured product having high surface hydrophilicity despite having unswelling tendency to water and giving extremely fine structure through active energy ray pattern exposure.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、水に対して非膨潤性でありながら高い表面親水性を示し、且つ活性エネルギー線のパターン露光によって極めて微細な構造を有する硬化物を容易に形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

The film for forming a resist pattern by ionizing radiation lithography has at least one upper layer on a resist layer formed on a substrate and a composition in the upper layer contains an amphiphilic polymer selected from polyvinyl alcohol, polyvinylamine, polyallylsulfonic acid, cellulose, etc.例文帳に追加

電離放射線リソグラフィーよるレジストパターンの形成用膜において、基板上に形成したレジスト層上に少なくとも一層の上層を有し、上層中の組成物にはポリビニルアルコール、ポリビニルアミン、ポリアリルスルホン酸、セルロースなどから選ばれた両親媒性ポリマーを含有するレジストパターン形成用膜。 - 特許庁