「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(95ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a black paste composition suitable not only for a laser direct imaging device using a laser oscillation light source having a maximum wavelength of 350-420 nm but also for a case using an ultrahigh-pressure mercury lamp as a light source, useful for efficiently forming a fine black matrix pattern, and excellent in dispersion stability.例文帳に追加

最大波長が３５０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザー発振光源を用いたレーザー・ダイレクト・イメージング装置のみならず光源として超高圧水銀灯を用いた場合にも適し、精細なブラックマトリックスパターンを効率良く形成するのに有用で、かつ分散安定性に優れた黒色ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive composition having sufficient adhesiveness, sufficiently filling various kinds of fillers, having a short drying time after coating, readily carrying out both of whole surface coating and pattern coating, coating various kinds of substrates and realizing sufficient adhesive strength of the substrates to a pressure-sensitive adhesive layer.例文帳に追加

十分な接着力を有し、各種の充填剤を十分充填でき、塗工後の乾燥時間が短く、全面塗工およびパターン塗工の何れも容易に行え、各種の基体に塗工することができ、基体と感圧接着剤層との十分な接着強度を実現できる接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

When the interpolymer complex layer is formed on an upper resist pattern of a BLR using a coating composition containing a silicon contained substance such as a silicon alcoxide monomer, a silicon alcoxide oligomer, or partial hydrolysates of these, a micropattern is formed with an increased resistance property to dry etching by an increased silicon content.例文帳に追加

シリコンアルコキシドモノマー、シリコンアルコキシドオリゴマー、またはこれらの部分加水分解物などのシリコン含有物質を含むコーティング組成物を使ってＢＬＲの上部レジストパターンにインターポリマーコンプレックス層を形成すれば、増加したシリコン含量によって乾式エッチングに対して増加した耐性を有し、微細パターンを形成しうる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for forming spacers which is of high resolution and of high sensitivity even when radiation for exposure practically contains no beam with wavelength <350 nm, and which easily forms the spacers excellent in various performances such as a pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to a transparent substrate.例文帳に追加

３５０ｎｍ未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The decorated laminated glass includes a decorative sheet 11 interposed with adhesive layers 3A, 3B between two glass sheets 2A, 2B, wherein the decorative sheet includes at least a pattern layer and a protective layer successively layered on a substrate, and the protective layer is formed by crosslinking and curing an ionization radiation-curable resin composition.例文帳に追加

二枚のガラス板2A、2Bの間に、接着剤層3A、3Bを介して化粧シート11を挟んでなる化粧合わせガラス1であって、該化粧シートが基材上に少なくとも絵柄層と保護層とを順に有し、該保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化してなるものである化粧合わせガラスである。 - 特許庁

To provide a coloring pigment masterbatch reduced in coloration loss more than that in the conventional, being capable of giving a patterned appearance of a low dispersion, and being capable of forming a composition giving a clearly pattern-colored molding when it is added in a small amount even to a molding material containing a filler injurious to coloration and to provide a method for producing the masterbatch.例文帳に追加

従来以上に着色ロスが少なく、バラツキの少ない模様外観が得られ、着色性を阻害するフィラーを含む成形材料に対しても、少量添加で、明瞭な模様着色の成形品を得ることができる着色顔料マスターバッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enhances resolution/adhesion by high-speed developability (of an unexposed portion) and excellent developer resistance (of an exposed portion), improves dispersibility in a developer, and suppresses foaming of an etching solution, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

高速現像性（未露光部）と優れた耐現像液性（露光部）により、解像度・密着性を向上させ、また、現像液における分散性を良好にし、且つ、エッチング液の発泡を抑制する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode paste composition for a plasma display panel, and a manufacturing method of an electrode using the same, capable of preventing generating of bubbles on the surface of the electrode during a printing process of the electrode paste and preventing damages to an electrode pattern due to decrease of an adhesive force.例文帳に追加

本発明は電極ペースト印刷の工程中に電極表面に気泡が発生するのを防ぐと共に接着力の減少による電極パターンの損傷を防ぐことができるプラズマディスプレーパネルの電極用ペースト組成物及びそれを利用した電極製造方法を提供することにある。 - 特許庁

A laminate of the thick film, a pattern and the like are formed using the negative resist composition for a thick film comprising a photoacid generator (A) represented by formula (1), a phenolic resin (B) having an ADR (alkali dissolution rate) of ≥1,000 Å/s, and an epoxy resin (C) having two or more epoxy resins per molecule.例文帳に追加

下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.例文帳に追加

（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an adhesive composition which has enough adhesive strengths, and can be sufficiently charged with various fillers, and is dried in a short time after coating, applied to both a whole area coating and a pattern coating, applied on various bases, and can realize sufficient adhesive strengths between the base and a pressure-sensitive adhesive layer.例文帳に追加

十分な接着力を有し、各種の充填剤を十分充填でき、塗工後の乾燥時間が短く、全面塗工およびパターン塗工の何れも容易に行え、各種の基体に塗工することができ、基体と感圧接着剤層との十分な接着強度を実現できる接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

The problem that a slanted pattern is formed is solved by incorporating (d) PRG (photo-radical generating agent) into a conventional photoresist composition comprising (a) a photoresist resin, (b) a photo-acid generating agent and (c) an organic solvent and generating a radical on the surface of a photosensitive agent in exposure to ultimately diminish an acid.例文帳に追加

既存の（ａ）フォトレジスト樹脂と、（ｂ）光酸発生剤と、（ｃ）有機溶媒で構成される従来のフォトレジスト組成物に（ｄ）ＰＲＧをさらに含ませることにより露光時感光剤の表面上にラジカルが発生し、究極的には酸を減少させることにより、傾斜したパターンが形成される問題点を解決する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an image by UV exposure and development with a dilute aqueous alkali solution, having no tackiness and a good working property, capable of giving a pattern excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering and chemical resistance, and suitable for use as a solder resist for production of a printed wiring board.例文帳に追加

紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像で画像形成可能であって、タックフリーで作業性が良好、さらに密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱性、耐薬品性が優れたパターンを与えることができる、プリント配線板製造用ソルダーレジストとして好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.例文帳に追加

絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of safety problem to a living body, having good suitability to application even to a large substrate, capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, and capable of forming spacers for a display panel excellent in adhesion to the substrate and excellent also in strength, heat resistance, etc.例文帳に追加

生体に対する安全性に問題がなく、しかも大型基板に対しても良好な塗布性を有し、高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、また強度、耐熱性等にも優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

In the pattern forming method which includes (a) forming a film using a chemically amplified resist composition, (b) exposing the film, and (c) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, the developer contains an ester and ketone having a carbon number of 7 or more.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでおり、前記現像液は、エステルと炭素数が７以上のケトンとを含有している。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good resolution and adhesion, ensuring good sharpness of a foot portion of a cured resist after development, and forming a good conductor pattern free of backlash, and to provide a method for producing a wiring board for COF by which fine wiring can be formed.例文帳に追加

本発明は解像性及び密着性が良好で且つ、現像後の硬化レジストのフット部の切れがよく、ガタツキ等のない良好な導体パターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること、ならびに、微細配線形成可能なＣＯＦ用配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an inorganic powder-containing composition capable of producing a transfer film excellent in flexibility of a film forming material layer and transferability (heat adhesiveness of the film forming material layer to a glass substrate), a transfer film and a method for producing a plasma display panel which allows formation of a pattern having high dimensional accuracy and excels in work efficiency.例文帳に追加

膜形成材料層の可撓性、転写性（ガラス基板に対する膜形成材料層の加熱接着性）に優れた転写フィルムを製造することのできる無機粉体含有組成物および転写フィルム、並びに寸法精度が高いパターンを形成でき、作業性に優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition capable of obtaining a cured film having high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, capable of forming a pattern with small exposure energy, and used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持つ硬化膜を得ることができ、かつ低い露光量でのパターン形成が可能である、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition which does not require printing, coating, etc., provides a molding having excellent appearance, efficiently generating a sufficient amount of minus ions and having excellent impact resistance in the case of forming a pattern of a metallic, pearl, marble, marble grain, grain tone, etc., a molding and a laminate.例文帳に追加

印刷や塗装等を必要とせず、メタリック調、パール調、マーブル調、石目調、木目調等の模様を形成した場合に、優れた外観性を有し、十分な量のマイナスイオンを効率よく発生し、且つ、耐衝撃性に優れる成形品とすることができる熱可塑性樹脂組成物、成形品及び積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a concave-convex shape forming method which facilitates changing the surface roughness or a pattern of convex portions of a coating film formed by applying an active energy ray-curable resin composition on a flexible transparent support member and stably forms a concave-convex shape, and an antiglare film manufactured by this concave-convex shape forming method.例文帳に追加

可撓性透明支持体上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布し形成された塗膜に表面粗さの変更或いは、凸部のパターンの変更が容易で、凹凸形状を安定に形成する凹凸形成方法及びこの凹凸形成方法により作製された防眩フィルムの提供。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition which allows formation of an optical functional sheet having a fine pattern and can sufficiently satisfy adhesion with a sheet substrate, mold-release properties with a die, surface hardness of a processed layer, and flexibility/scratch resistance of a sheet, and to provide the optical functional sheet.例文帳に追加

本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a resin composition for laser marking suitable for medical application which allows a black character, a black sign, a black pattern and the like to be marked with good contrast on the transparent substrate, is suitable for marking, for example, QR codes and the like with good resolution, and also rich in transparency, and to provide a molded body and a laser marking method for it.例文帳に追加

透明下地に黒文字、黒色記号、黒色図柄等がコントラスト良好にマーキングされ、例えばＱＲコード等を解像度よくマーキングするのに適し、しかも透明性に富む医療用に適したレーザーマーキング用樹脂組成物と成形体及びそれに対するレーザーマーキング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which is superior in stability when left uncontrolled after exposure, will not cause pattern dripping during thermal hardening, has properties of a high resolution, high heat resistance, and high transparency after thermal hardening, and which is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film, and a core or a cladding material of a light waveguide.例文帳に追加

露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition exhibiting high light-blocking effect in the infrared region and high light transparency in the visible region, and being capable of forming a pattern with desired profile and excellent durability (for example, durability to high temperature/high humidity, and adherence to substrate) by alkali development.例文帳に追加

本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに、耐久性（高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など）に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.例文帳に追加

エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁

In the decorative sheet constituted by successively laminating a pattern layer, a transparent adhesive layer and a transparent polyester resin layer on a base material sheet comprising a polyolefinic resin or a polyester resin, at least one of those layers is formed of an aqueous composition.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂又はポリエステル系樹脂からなる基材シート上に、絵柄模様層、透明性接着剤層及び透明性ポリエステル系樹脂層が順に積層されてなる化粧シートであって、化粧シートを構成する層の少なくとも１種が水性組成物から形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a resist protective film for forming a protective film that does not have affinity with respect to an immersion liquid, can suppress the elution of low-molecular weight components from a resist layer or swelling in a resist film, can be removed easily in a process of alkali development after exposure, and can provide a preferable pattern profile.例文帳に追加

液浸液に対しては親和性を有さず、レジスト層からの低分子成分の溶出やレジスト膜の膨潤を抑制することができるとともに、露光後のアルカリ現像のプロセスで容易に除去でき、良好なパターンプロファイルを得ることができる保護膜を形成できるレジスト保護膜形成用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is used for producing an inorganic formed article, can form a fine pattern uniformly in a good shape, exhibits a very small shrinkage in a coating film section when the inorganic formed article is produced, and enables the positioning of viaholes in laminating ceramics green sheets to be accurately carried out.例文帳に追加

微細なパターンを形状良くかつ均一に形成することができ、しかも無機造形物を製造する際の塗膜部分の収縮率が極めて小さく、特にセラミックス・グリーンシートの積層時にビアホールの位置合わせを精度良く行うことが可能な、無機造形物製造用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When the composition is applied on a chemically amplified photoresist film to form an antireflection film, multiple reflection in the photoresist film can be reduced by the antireflection function of the antireflection film, an amount of reduction in film thickness of the photoresist film is increased in development with an alkali developer after exposure and a rectangular resist pattern is formed.例文帳に追加

この組成物を化学増幅型フォトレジスト膜上に塗布し、反射防止膜とすることにより、反射防止機能によりフォトレジスト膜内の多重反射が防止できるとともに、露光後アルカリ現像液により現像する際フォトレジスト膜の膜減り量が増大し、矩形状のレジストパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can ensure satisfactory flame retardancy without using any halogen-containing flame retardant and can give a cured product having a sufficient elongation, and to provide a prepreg, a metal-clad laminate, an encapsulant, a photosensitive film, a resist pattern formation method, and a printed wiring board, each of which uses the same.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供する。 - 特許庁

A conductive film and a conductive pattern are formed and a multilayered wiring board is manufactured by using an epoxy resin composition containing an epoxy resin having ≥2 epoxy groups in one molecule, a curing agent having ≥2 functional groups reactive with the epoxy group in one molecule, and a photopolymerization initiator as essential components.例文帳に追加

１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、該エポキシ基と反応する官能基を１分子中に２個以上有する硬化剤、及び光重合開始剤を必須成分として含有するエポキシ樹脂組成物を用いて、導電膜及び導電性パターンを形成すると共に、多層配線板を製造する。 - 特許庁

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure and a sensitizer having a dihydroxynaphthalene structure.例文帳に追加

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ジヒドロキシナフタレン構造を有する増感剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 - 特許庁

To provide a production method for a photocatalyst-containing layer substrate having a photocatalyst-containing layer capable of efficiently forming patterns with mutually largely different characteristics, or pattern formed bodies, and a composition for forming the photocatalyst-containing layer used for the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、特性の大きく異なるパターンを効率的に形成することが可能な光触媒含有層を有する光触媒含有層基板や、パターン形成体の製造方法、またその光触媒含有層に用いられる光触媒含有層形成用組成物等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer formed using a photosensitive resin composition containing at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the polymerizable compound contains at least a compound having one or more urethane groups and one polymerizable group within a molecule.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該重合性化合物が、分子中にウレタン基を１個以上と重合性基を１個有する化合物を少なくとも含有する感光性樹脂組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive adhesive composition which enables pattern formation and further which not only has both excellent followability and high adhesivity to fine unevenness but also causes no bedewing in a hollow part when applied to a hollow member, and to provide the hollow member obtained by using the same.例文帳に追加

パターン形成が可能で、しかも微細な凹凸に対する優れた追従性と高い接着力を兼ね備えているだけでなく、中空部材に適用した場合に、その中空部に結露を生じることのない、優れた感光性接着剤組成物と、それを用いて得られる中空部材を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The green photosensitive coloring composition of the present invention can form a green filter segment having high brightness and also being excellent in pattern shape by containing a green pigment, and a phenolic-based antioxidant (c1) and a sulfur-based antioxidant or a phosphorus-based antioxidant (c2), as an antioxidant (C).例文帳に追加

本発明の緑色感光性着色組成物は、緑色顔料と、酸化防止剤（Ｃ）として、フェノール系酸化防止剤（ｃ１）と、イオウ系酸化防止剤またはリン系酸化防止剤（ｃ２）とを含有することで、高明度かつパターン形状についても優れた緑色フィルタセグメントを形成することができる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type positive type resist, excellent in basic solid state properties as the resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type resist, excellent in basic physical properties as a resist such as dry etching resistance, sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, excellent in adhesion to a substrate, making it possible to obtain a satisfactory spacer shape and thickness under an exposure energy of ≤150 mJ/cm^2, and capable of forming spacers for a display panel excellent in strength, heat resistance, etc.例文帳に追加

高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、１５０ｍＪ/ｃｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、また強度、耐熱性等にも優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is capable of forming a resist pattern having a good opening shape with high sensitivity and resolution not only to all-wavelength exposure using a mercury-vapor lamp as a light source but to laser including light having a wavelength of 365 or 405 nm, and which can be made halogen-free.例文帳に追加

水銀灯を光源とする全波長露光だけでなく波長３６５や４０５ｎｍの光を含むレーザに対しても、高い感度及び解像度で良好な開口形状のレジストパターンを形成することが可能であり、ハロゲンフリー化に対応可能なアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁