「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(88ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dyestuff-containing curable composition which is suitable for yellow color and for green or blue color by combining it with a dyestuff of other color, and which is excellent in solubility in solvent, heat-resistance, lightfastness and pattern formability.例文帳に追加

イエロー色用として、及び他色染料との組合せによるグリーン色やブルー色の調整に好適であって、溶剤溶解性が良好で耐熱性、耐光性及びパターン形成性に優れた染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can cope with both wavelengths used for a direct drawing exposure method, has excellent photo sensitivity, and can improve the tent reliability and adhesion of a formed resist film and the resolution of a formed resist pattern.例文帳に追加

直接描画露光法に用いられる両波長に対応可能で、光感度に優れ、形成したレジスト膜のテント信頼性や密着性及び形成したレジストパターンの解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin forming a pattern of good form without a problem of bad compatibility of an acid generating agent with a polymer having an acid dissociation group, which is an essential component of a photoresist, and a photosensitive composition.例文帳に追加

酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好な形状のパターンを得ることができる感光性樹脂及び感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inter-layer insulating film and a radiation-sensitive resin composition suitable for forming a microlens, which have a high radiation-sensitive sensitivity and an excellent development margin, and with which a pattern thin film with excellent adhesion with a ground can be easily formed.例文帳に追加

高い感放射線感度と優れた現像マージンを有しそして下地との密着性にも優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に好適な、感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an anti-reflection film forming composition used for formation of the anti-reflection film improved in a close adhesion property with a photoresist and etching characteristic and capable of suppressing falling of a pattern at development/dissolution of the photoresist, and a polymer used for it.例文帳に追加

フォトレジストの現像溶解時にパターン倒れを抑制することができるフォトレジストとの密着性とエッチング特性を改良された反射防止膜の形成に使用される反射防止膜形成用組成物、その為の重合体の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that has excellent heat and moisture resistance, has a high elasticity in a cured product at high temperature, and also has excellent hollow-structure maintainability, and a photosensitive film, a pattern forming method, a forming method for hollow structure, and an electronic component using the same.例文帳に追加

耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、それを用いた感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition using an aminimide as a photo-base generator which efficiently generates a sufficiently strong base even under low light exposure in combination with a polyamic acid and to provide a method for producing a relief pattern and a method for producing a heat resistant coating.例文帳に追加

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供。 - 特許庁

The ink composition including a conductive fine particle 15A, a dispersant 15B, and a burning material 15C which starts burning reaction by receiving light is discharged onto a substrate S as a droplet D to form a liquid pattern 15P on a discharge surface Sa.例文帳に追加

導電性微粒子１５Ａと、分散媒１５Ｂと、光を受けることにより燃焼反応を開始する燃焼物１５Ｃとを含むインク組成物を液滴Ｄにして基板Ｓに吐出し、吐出面Ｓａに液状パターン１５Ｐを形成する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition not only excellent in heat resistance at a high temperature but excellent in moisture absorption resistance, and from which a pattern is easily formed in a production process of a color resist for a R.G.B. color filter, a back matrix, a column spacer, an insulating film and an overcoat.例文帳に追加

高温における耐熱性に優れるだけでなく耐吸湿性にも優れており、Ｒ．Ｇ．Ｂ．カラーフィルター用カラーレジスト、ブラックマトリクス、カラムスペーサ、絶縁膜、オーバーコートの製造工程でパターン形成が容易なネガティブレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

According to the identification information (2) in which a plurality of marks (21) repeatedly appear in a plurality of patterns (22), the additive composed of a composition (1) constituted by making a specific material (11) correspond to every prescribed pattern, is added to the identification information holding matter.例文帳に追加

複数の記号(21)が複数のパターン(22)で繰り返し出現して構成される識別情報(2)に従って、該所定のパターン毎に特定の物質(11)を対応させて構成した組成物(1)からなる添加物を識別情報保持物に添加する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in resolution, sensitivity, pattern shape, etc., causing no development defect in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも解像度、感度、パターン形状等に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition giving high solubility contrast regardless to the kind of a polyimide precursor by addition of a smaller amount of a photo-base generator, and thereby, giving a pattern having preferable features while maintaining a sufficient process margin.例文帳に追加

より少量の光塩基発生剤の添加で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an acrylic acid ester derivative useful as a raw material for a polymer compound for a resist composition for forming a resist pattern having excellent lithography characteristics and an improved shape, an intermediate (alcohol derivative) thereof and methods for producing them.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成するレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体及びその中間体（アルコール誘導体）並びにそれらの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film excellent in storage stability and adhesion with a resist film, and stably forming a resist pattern excellent in bottom shape without causing tailing or the like.例文帳に追加

保存安定性に優れており、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a dye-containing hardening composition having high sensitivity and wide development latitude, excellent hardening property and no elution of the dye after hardening, excellent solvent resistance and heat resistance and forming a pattern image with high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に硬化性に優れ、硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性、耐熱性に優れ、解像度の高いパターン像を形成することができる染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is alkali-developable, has high sensitivity, gives a pattern without generating development scum, and can form a polyimide film which is patterned on a metal without corroding the base metal.例文帳に追加

アルカリ現像可能で、高感度であり、現像スカムを生じることなくパターンが得られ、かつ金属上でパターン加工を行った場合でも下地金属を腐食しないポリイミド膜を形成することのできる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

After coating this photocuring conductive paste composition on the glass substrate of the plasma display panel, it is exposed in accordance with the prescribed pattern and developed by the alkaline water solution, then fired, thereby, a black electrode circuit of high definition can be formed.例文帳に追加

この光硬化性導電性ペースト組成物をプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の黒色電極回路を形成できる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a short-wavelength radiation typified by far UV, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring few development defects.例文帳に追加

遠紫外線に代表される短波長の放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a fine pattern of about 0.35 μm in photolithography using i-line (365 nm), excel lent in DOF characteristics in such an ultrafine region and having attained high sensitivity.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）を用いたホトリソグラフィ技術において、０．３５μｍ程度の微細なパターン形成が可能で、そのような超微細な領域においてＤＯＦ特性に優れ、かつ高感度化が達成されたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A resin composition is obtained by compounding additives such as a filler, a pattern material, an internal mold release agent, a curing agent and the like with a thermosetting resin and injected in a casting mold and molded and cured to manufacture the artificial marble.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型材、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物を得て、この樹脂組成物を注型用金型に注入して成形硬化させて得られる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which satisfies desired transmittance properties, has stability in a state of a chemical solution such as dispersion uniformity or long-term viscosity stability, is excellent in developing properties and is capable of forming a color pattern with high resolving power.例文帳に追加

所望の透過率特性を満足し、且つ分散の均一性、経時粘度安定性といった薬液状態での安定性を保ち、且つ現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer which can exhibit performances as designed in an objective use, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition which can make a resist film to exhibit performances as designed, and can inhibit defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having improved removability while retaining excellent resolution, a photosensitive element, a resist pattern forming method, a method for manufacturing a printed wiring board and a method for removing a photocured object.例文帳に追加

優れた解像度を維持したまま除去性を十分に向上させることが可能な感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat resistant photo-curable/heat-curable composition that permits direct writing, as solder resist ink, on a printed wiring board with use of an inkjet printer; to provide its cured product; and to provide a printed wiring board with a solder resist pattern formed thereon using it.例文帳に追加

プリント配線基板にインクジェットプリンターを用いてソルダーレジストインクとして直接描画可能な耐熱性のある光硬化性・熱硬化性組成物及びその硬化物、並びにそれを用いてソルダーレジストパターンを形成したプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A resin composition for a decorative sheet, which contains a crystalline oligomer having curability and being solid at ordinary temperature and an unsaturated polyester, is coated on a pattern paper for a decorative sheet; a curing agent solution is coated on the rear surface of the sheet; and the resultant laminate is hot-pressed together with a core material to form an integrated article.例文帳に追加

硬化性を有する常温で固形の結晶性オリゴマーと、不飽和ポリエステルとを含む化粧板用樹脂組成物を化粧板用パターン紙に塗布し、裏面に硬化剤溶液が塗布してコア材とともに熱圧一体化する。 - 特許庁

To provide a polymer which can exhibit a designed performance in an objective use, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition which can make a resist film to exhibit a designed performance and can inhibit defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

By completing the polishing at the point when the height-direction dimension of the first polishing pattern 31 reaches a predetermined value, a desired stacked section is easily obtained, and made suited to analysis such as the structure checking or composition analysis of a very small part.例文帳に追加

第１研磨パターン３１の高さ方向の寸法が所定値に達した時点で研磨を終了すれば、所望の積層断面を容易に得ることができ、微小部分の構造確認や組成分析などの解析に好適なものとなる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of satisfying excellent plating resistance and storage stability, in addition to developability, hardness, heat resistance and sensitivity necessary for use as a solder resist, a photosensitive film, a photosensitive laminate, a permanent pattern forming method and a printed circuit board.例文帳に追加

ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a colorant-containing curable composition excellent in the molar absorption coefficient and chromatic valence of a dye, light and heat resistances and pattern forming property (developability), and prevention of color mixing/color-missing in a production process, and to provide a color filter and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

染料のモル吸光係数や色価、耐光性、耐熱性、およびパターン形成性（現像性）、作製プロセス上の混色／色抜け防止に優れた着色剤含有硬化性組成物、並びに、カラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the resist pattern width for upper magnetic core plating can be made narrow irrelevantly to the waving of an insulating resin layer due to the thin-film coil and the composition at the time of the plating can be made uniform, so that the thin-film magnetic head having stable magnetic characteristics can be obtained.例文帳に追加

このことによって、薄膜コイルによる絶縁樹脂層のうねりにもかかわらず、上部磁気コアメッキ用レジストパターン幅を狭く作ることができて、メッキ時の組成の均一化が図られ、磁気特性の安定した薄膜磁気ヘッドが得られた。 - 特許庁

To provide a dye-containing curable composition suitable for use as one for cyan and for preparing green or blue by combination with another color dye, having good solvent solubility, and excellent in heat and light resistances and pattern forming property.例文帳に追加

シアン色用として、及び他色染料との組合せによるグリーン色やブルー色の調整に好適であって、溶剤溶解性が良好で耐熱性、耐光性及びパターン形成性に優れた染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, which can attain not only developability, hardness, heat resistance, and sensitivity required for a solder resist, but also both superior plating resistance and storage stability, and to provide a photosensitive film, a photosensitive laminate, a permanent pattern forming method, and a printed board.例文帳に追加

ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of protrusions 2 of a mold cleaning material composed of an un-vulcanized rubber composition as a major component are side by side arranged on one surface or both surfaces of a base sheet 1 composed of a paper sheet or a fabric sheet to form a strip shaped pattern.例文帳に追加

紙製シートまたは布帛シートからなる基材シート１の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物を主成分とする金型クリーニング材料からなる複数の突条２が並設されており、それにより帯状パターンが形成されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition from which a barrier rib pattern having high resolution and high accuracy by exposure to light only once can be prepared, while using an organic component which is not harmful to the human body, is inexpensive, is generally easily obtained, and succumbs readily to thermal decomposition.例文帳に追加

人体に無害であり、コストが低く、容易に購入でき、熱分解特性にも優れた有機成分を使用しながら、１回の露光で高解像度及び高精度のバリアリブパターンを製造できる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high exposure sensitivity and good developability, capable of forming a precision and complete pattern, and excellent in various physical properties such as film strength, heat and chemical resistances after curing when used as a resist.例文帳に追加

レジストとして使用した場合、露光感度が高く現像性が良好で、精密で正確なパターンを形成することができ、且つ硬化後において、塗膜強度、耐熱性及び耐薬品性等の諸物性に優れる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a colored composition simultaneously achieving storage stability and low temperature calcination, a colored pattern excellent in development resistance, heat resistance, solvent resistance, voltage holding ratio, or the like, a color filter, a color display element having a color filter and a method for manufacturing a color filter.例文帳に追加

保存安定性と低温焼成を両立する着色組成物、及び現像耐性、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れる着色パターン、カラーフィルタ、カラーフィルタを備えるカラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an inkjet head related to a positive type resist which does not generate cracks even when a resin composition becoming an ink passage wall is solvent-coated on the upper layer of the positive type resist which forms a liquid chamber pattern of a thick film, and to provide the inkjet head.例文帳に追加

厚膜の液室パターンを形成するポジ型レジストの上層に、インク流路壁となる樹脂組成物をソルベントコートしても、クラックを生じることがないポジ型レジストに係るインクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッドの提供。 - 特許庁

To provide a curable composition for an etching resist giving a cured film excellent in etching resistance even in secondary etching at a high temperature and excellent also in suitability to subsequent alkali dissolution and removal and in pattern forming property and suitable for use as a backing material particularly in the manufacture of a shadow mask.例文帳に追加

高温下の２次エッチングにおいてもその硬化膜が耐エッチング性に優れ、その後のアルカリ溶解・剥離性及びパターン形成性のいずれにも優れる、特にシャドウマスク製造時の裏止め材に適したエッチングレジスト用硬化型組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method, restraining the occurrence of a droplet blot originating from a liquid for liquid dipping in liquid dipping exposure using a liquid for liquid dipping having a high refractive index, and a radiation-sensitive resin composition used in the formation method.例文帳に追加

高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming organic insulating film and to provide a method for forming pattern of the organic insulating film using the same by simplifying manufacturing process and producing an organic thin film transistor with a high degree of charge transfer in a completely wet process.例文帳に追加

製造工程を単純化することができ、電荷移動度の高い有機薄膜トランジスタを完全ウェット工程によって製造することができる、有機絶縁膜組成物およびこれを用いた有機絶縁膜のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The electrically conductive pattern is formed by applying a composition composed of the electrically conductive substance, the amphiphilic block copolymer having the polyalkenyl ether repetitive unit structure and the solvent on a substrate by an inkjet method.例文帳に追加

導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成する導電性パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition with excellent storage stability, with which a microlens can be formed which is excellent in film thickness, resolution, pattern configuration, thermostability, transparency, heat discoloration resistance, resistance to solvents or the like, even when lower temperature firing is adopted.例文帳に追加

低温焼成を採用した場合でも、膜厚、解像度、パターン形状、耐熱性、透明性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁