「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(88ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dye-containing hardening composition having high sensitivity and wide development latitude, excellent hardening property and no elution of the dye after hardening, excellent solvent resistance and heat resistance and forming a pattern image with high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に硬化性に優れ、硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性、耐熱性に優れ、解像度の高いパターン像を形成することができる染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is alkali-developable, has high sensitivity, gives a pattern without generating development scum, and can form a polyimide film which is patterned on a metal without corroding the base metal.例文帳に追加

アルカリ現像可能で、高感度であり、現像スカムを生じることなくパターンが得られ、かつ金属上でパターン加工を行った場合でも下地金属を腐食しないポリイミド膜を形成することのできる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good sensitivity, resolution and adhesion, a good resist shape and good strippability after curing, and a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board, using the same.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a (meth)acrylic acid derivative as a material for the component resin of a resist composition, which is good not only in performance such as resolution, sensitivity and pattern form suitable for ArF excimer laser lithography but also in line edge roughness, and a method for producing the same.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物の成分樹脂の原料となる（メタ）アクリル酸誘導体およびその製造方法を提供する - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having sufficiently high resolution, photosensitivity and adhesion and a sufficiently low plating bath contaminating property, and to provide a photosensitive element obtained by using the same, a resist pattern forming method and a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像度、光感度及び密着性が十分に高く、めっき浴汚染性が十分に低い感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition for laying a fine pattern, which enables to form a fine ink film laminate required for various electronic parts by letterpress reverse printing without breaking (void generation) of an ink film, and which enables to reproduce a precise image.例文帳に追加

各種電子部品として所望される微細なインキ膜積層物を、凸版反転印刷法によりインキ膜の破断（白抜け）なく形成することができ、さらに正確な画像を再現することが可能な微細パターン積層用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition with excellent storage stability, with which a microlens can be formed which is excellent in film thickness, resolution, pattern configuration, thermostability, transparency, heat discoloration resistance, resistance to solvents or the like, even when lower temperature firing is adopted.例文帳に追加

低温焼成を採用した場合でも、膜厚、解像度、パターン形状、耐熱性、透明性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The electrically conductive pattern is formed by applying a composition composed of the electrically conductive substance, the amphiphilic block copolymer having the polyalkenyl ether repetitive unit structure and the solvent on a substrate by an inkjet method.例文帳に追加

導電性物質と、ポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有する両親媒性ブロック共重合体と、溶媒とを含有する組成物をインクジェット法により基板上に付与して導電性パターンを形成する導電性パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower-layer film, by which a lower-layer film can be formed, wherein the lower-layer film is excellent in etching resistance, is less likely to be bent when subjected to dry-etching process, and can transfer a resist pattern precisely with good reproducibility to a substrate to be processed.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new copolymer exhibiting an excellent transmittance, a high sensitivity, and a high resolution in the field of photolithography using a light source in the DUV(deep ultraviolet) region, a photoresist composition, and a method for producing a high-aspect-ratio resist pattern by using a silylating agent.例文帳に追加

ＤＵＶ領域の光源を用いるホトリソグラフィー分野において、透過性に優れ、高感度、高解像性を有する新規コポリマー、ホトレジスト組成物およびシリル化剤を用いた高アスペクト比のレジストパターンを形成する方法の提供。 - 特許庁

The polymer and photoresist composition can improve its resolution and process margin, since an activation energy required for the reaction of deprotecting the spirocyclic ketal group is low, and also it is possible to realize a minute pattern since the sensitivity to a baking temperature after its exposure to light is low.例文帳に追加

前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy.例文帳に追加

電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

After coating this photocuring conductive paste composition on the glass substrate of the plasma display panel, it is exposed in accordance with the prescribed pattern and developed by the alkaline water solution, then fired, thereby, a black electrode circuit of high definition can be formed.例文帳に追加

この光硬化性導電性ペースト組成物をプラズマディスプレイパネルのガラス基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の黒色電極回路を形成できる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a short-wavelength radiation typified by far UV, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring few development defects.例文帳に追加

遠紫外線に代表される短波長の放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The first porous film part 14 and second porous film part 16 are supplied with paste containing particulates of a conductor of the same composition under the same printing control by the ink jet printing method to form the wiring pattern 18 or resistor 20.例文帳に追加

第１多孔膜部１４および第２多孔膜部１６には、インクジェット印刷法により、同じ組成の導電体の微粒子を含むペーストが同一の印刷制御により供給されて配線パターン１８または抵抗体２０が形成される。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter which causes neither chipping nor peeling on a pattern even when the discharge pressure of a developing solution is increased and can prevent the occurrence of residue and surface stain on a substrate in an unexposed area and on a light shielding layer.例文帳に追加

現像液の吐出圧を上げても、パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion composition for an organic black matrix of color filter that has excellent light resistance, color permeability, grain size distribution, coating properties and pattern uniformity and shows stabilized environmental affinity and storability.例文帳に追加

優秀な耐光性、色相透過度、粒度分布、コーティング性及びパターンの均一性を持ち、安定した環境親和性及び貯蔵性を有したカラーフィルターの有機ブラックマトリックス用顔料分散体組成物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which satisfies such characteristics as sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness all at once in microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly an electron beam or X-ray.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工において、感度と解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive resin composition allowing good storage stability to be obtained and allowing a conductive pattern formed thereof to have good electrical conductivity, and an electronic circuit board which are capable of reducing costs.例文帳に追加

導電性樹脂組成物において、良好な保存安定性を得ることができるとともに、形成される導電パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物及び電子回路基板を提供する。 - 特許庁

At least a part of the black matrix layer and at least a part of the colored pattern layers are formed using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

また、透明基板１上にブラックマトリックス層ＢＫ及び着色パターン層Ｒ、Ｇ、Ｂが形成された耐熱性カラーフィルタであって、ブラックマトリックス層及び着色パターン層は、その少なくとも一部が上記感光性着色組成物を用いて形成されること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in resolution/adhesion and mandrel property (flexibility of resist after curing), a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern, and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

高感度で且つ解像度・密着性及びマンドレル特性（硬化後のレジストの可とう性）が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition capable of being utilized for an electronic circuit part and a substrate without generating the deterioration of molding property caused by a reduction of its flowing property, capable of transcribing a circuit pattern formed by a stamper in a good accuracy and capable of being extrusion molded.例文帳に追加

流動性低下による成形性悪化を起こすことなく、電子回路部品および基盤用途に利用可能で、スタンパーに形成した回路パターンを精度よく転写することが可能な射出成形可能なエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which suppresses the changes in sensitivity with time during storage and which can form a resist pattern having a preferable cross-sectional profile, excellent adhesion property with a substrate and being easily dissolved and stripped with a stripping liquid.例文帳に追加

保存中の経時による感度変化が抑制され、断面形状が良好である上、基板との密着性に優れ、かつ剥離液で容易に溶解除去し得るレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition using an aminimide as a photo-base generator which efficiently generates a sufficiently strong base even under low light exposure in combination with a polyamic acid and to provide a method for producing a relief pattern and a method for producing a heat resistant coating.例文帳に追加

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供。 - 特許庁

The ink composition including a conductive fine particle 15A, a dispersant 15B, and a burning material 15C which starts burning reaction by receiving light is discharged onto a substrate S as a droplet D to form a liquid pattern 15P on a discharge surface Sa.例文帳に追加

導電性微粒子１５Ａと、分散媒１５Ｂと、光を受けることにより燃焼反応を開始する燃焼物１５Ｃとを含むインク組成物を液滴Ｄにして基板Ｓに吐出し、吐出面Ｓａに液状パターン１５Ｐを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that has excellent heat and moisture resistance, has a high elasticity in a cured product at high temperature, and also has excellent hollow-structure maintainability, and a photosensitive film, a pattern forming method, a forming method for hollow structure, and an electronic component using the same.例文帳に追加

耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、それを用いた感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition not only excellent in heat resistance at a high temperature but excellent in moisture absorption resistance, and from which a pattern is easily formed in a production process of a color resist for a R.G.B. color filter, a back matrix, a column spacer, an insulating film and an overcoat.例文帳に追加

高温における耐熱性に優れるだけでなく耐吸湿性にも優れており、Ｒ．Ｇ．Ｂ．カラーフィルター用カラーレジスト、ブラックマトリクス、カラムスペーサ、絶縁膜、オーバーコートの製造工程でパターン形成が容易なネガティブレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

According to the identification information (2) in which a plurality of marks (21) repeatedly appear in a plurality of patterns (22), the additive composed of a composition (1) constituted by making a specific material (11) correspond to every prescribed pattern, is added to the identification information holding matter.例文帳に追加

複数の記号(21)が複数のパターン(22)で繰り返し出現して構成される識別情報(2)に従って、該所定のパターン毎に特定の物質(11)を対応させて構成した組成物(1)からなる添加物を識別情報保持物に添加する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, which can attain not only developability, hardness, heat resistance, and sensitivity required for a solder resist, but also both superior plating resistance and storage stability, and to provide a photosensitive film, a photosensitive laminate, a permanent pattern forming method, and a printed board.例文帳に追加

ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of protrusions 2 of a mold cleaning material composed of an un-vulcanized rubber composition as a major component are side by side arranged on one surface or both surfaces of a base sheet 1 composed of a paper sheet or a fabric sheet to form a strip shaped pattern.例文帳に追加

紙製シートまたは布帛シートからなる基材シート１の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物を主成分とする金型クリーニング材料からなる複数の突条２が並設されており、それにより帯状パターンが形成されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition from which a barrier rib pattern having high resolution and high accuracy by exposure to light only once can be prepared, while using an organic component which is not harmful to the human body, is inexpensive, is generally easily obtained, and succumbs readily to thermal decomposition.例文帳に追加

人体に無害であり、コストが低く、容易に購入でき、熱分解特性にも優れた有機成分を使用しながら、１回の露光で高解像度及び高精度のバリアリブパターンを製造できる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer which can exhibit a designed performance in an objective use, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition which can make a resist film to exhibit a designed performance and can inhibit defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of forming a resin layer which is excellent in fluidity upon heat bonding after pattern formation and also has excellent adhesion as well as bonding properties and/or sealing properties, in a photosensitive thermosetting resin composition used as a permanent membrane.例文帳に追加

永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、密着性良好な、接着性及び／または封止性を有する樹脂層を形成できる技術を提供する。 - 特許庁

A resin composition is obtained by compounding additives such as a filler, a pattern material, an internal mold release agent, a curing agent and the like with a thermosetting resin and injected in a casting mold and molded and cured to manufacture the artificial marble.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型材、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物を得て、この樹脂組成物を注型用金型に注入して成形硬化させて得られる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a fine pattern of about 0.35 μm in photolithography using i-line (365 nm), excel lent in DOF characteristics in such an ultrafine region and having attained high sensitivity.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）を用いたホトリソグラフィ技術において、０．３５μｍ程度の微細なパターン形成が可能で、そのような超微細な領域においてＤＯＦ特性に優れ、かつ高感度化が達成されたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which satisfies desired transmittance properties, has stability in a state of a chemical solution such as dispersion uniformity or long-term viscosity stability, is excellent in developing properties and is capable of forming a color pattern with high resolving power.例文帳に追加

所望の透過率特性を満足し、且つ分散の均一性、経時粘度安定性といった薬液状態での安定性を保ち、且つ現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer which can exhibit performances as designed in an objective use, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition which can make a resist film to exhibit performances as designed, and can inhibit defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having improved removability while retaining excellent resolution, a photosensitive element, a resist pattern forming method, a method for manufacturing a printed wiring board and a method for removing a photocured object.例文帳に追加

優れた解像度を維持したまま除去性を十分に向上させることが可能な感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat resistant photo-curable/heat-curable composition that permits direct writing, as solder resist ink, on a printed wiring board with use of an inkjet printer; to provide its cured product; and to provide a printed wiring board with a solder resist pattern formed thereon using it.例文帳に追加

プリント配線基板にインクジェットプリンターを用いてソルダーレジストインクとして直接描画可能な耐熱性のある光硬化性・熱硬化性組成物及びその硬化物、並びにそれを用いてソルダーレジストパターンを形成したプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A resin composition for a decorative sheet, which contains a crystalline oligomer having curability and being solid at ordinary temperature and an unsaturated polyester, is coated on a pattern paper for a decorative sheet; a curing agent solution is coated on the rear surface of the sheet; and the resultant laminate is hot-pressed together with a core material to form an integrated article.例文帳に追加

硬化性を有する常温で固形の結晶性オリゴマーと、不飽和ポリエステルとを含む化粧板用樹脂組成物を化粧板用パターン紙に塗布し、裏面に硬化剤溶液が塗布してコア材とともに熱圧一体化する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

By completing the polishing at the point when the height-direction dimension of the first polishing pattern 31 reaches a predetermined value, a desired stacked section is easily obtained, and made suited to analysis such as the structure checking or composition analysis of a very small part.例文帳に追加

第１研磨パターン３１の高さ方向の寸法が所定値に達した時点で研磨を終了すれば、所望の積層断面を容易に得ることができ、微小部分の構造確認や組成分析などの解析に好適なものとなる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of satisfying excellent plating resistance and storage stability, in addition to developability, hardness, heat resistance and sensitivity necessary for use as a solder resist, a photosensitive film, a photosensitive laminate, a permanent pattern forming method and a printed circuit board.例文帳に追加

ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁