「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition which has excellent sensitivity, and can suppress undercut occurred in a pattern after development even in such a situation that the photosensitive resin composition contains a light shielding agent or has insufficient exposure; and a color filter and a display device using the same.例文帳に追加

良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, without problems such as detachment of a cured resin pattern and deterioration in straight propagation even if fine particles containing silver-tin alloy is used as a main component of a light blocking agent, and a substrate including a light blocking film formed with the photosensitive resin composition.例文帳に追加

遮光剤として銀錫合金を主成分とする微粒子を使用しながらも感度が高く、硬化樹脂パターンの剥がれや直進性の低下といった問題が生じない感光性樹脂組成物、及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成された遮光膜を有する基材を提供する。 - 特許庁

The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and the erosion rate of the section shape of a pattern formed from the radiation sensitive composition is ≤ 30% or the radiation sensitive composition contains the components (A)-(D) and (E) a chain transfer agent.例文帳に追加

カラー液晶表示装置用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、該感放射線性組成物から形成されたパターンの断面形状の浸食率が３０％以下であることを特徴とするか、または前記（Ａ）〜（Ｄ）および（Ｅ）連鎖移動剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁

In this pattern forming method, a resist pattern is formed by generating an acid from a radiation-sensitive acid generation group-containing resin contained as a resin component in a radiation-sensitive resin composition by irradiation with an actinic ray or radiation to increase the solubility of the radiation-sensitive acid generation group-containing resin in a developer.例文帳に追加

本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming a resist underlay film from the above composition for forming a resist underlay film on a substrate; forming a resist film thereon; forming a resist pattern by exposure and development; etching the underlay film through the resist pattern; and processing the semiconductor substrate through the patterned underlay film.例文帳に追加

基板にレジスト下層膜形成組成物によりレジスト下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、露光と現像によりレジストパタ−ンを形成する工程、レジストパタ−ンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパタ−ン化された下層膜により半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an insulating resin with excellent adsorptive properties to a plating catalyst or a precursor thereof and resistance to hydrolysis; an insulating resin layer-forming composition; a laminate easily forming a metal film or a metal pattern with excellent close adhesion to a substrate; and methods for producing a surface metal film material and a metal pattern material.例文帳に追加

めっき触媒又はその前駆体との吸着性及び加水分解に対する耐性に優れた絶縁性樹脂、絶縁性樹脂層形成用組成物、基板との密着性に優れた金属膜又は金属パターンを簡易に形成しうる積層体、表面金属膜材料及び金属パターン材料の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition that has a sufficient pattern form even on a substrate having a step even when an antireflective film is not formed on the substrate using a thin film, forms a resist film with a small pattern variation width, has sufficient sensitivity, and has high focal latitude and exposure latitude.例文帳に追加

薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has proper storage stability, avoids odor annoyance, ensures proper solvent resistance and satisfactory surface smoothness of a cured resin pattern formed therefrom, does not cause coating defects, such as a granular foreign substance, has a high resolution for forming a fine pattern, and can form a photospacer with a superior recovery rate.例文帳に追加

良好な貯蔵安定性で、臭気問題がない感光性樹脂組成物であり、形成した硬化樹脂パターンの耐溶剤性が良好で、表面平滑性に優れ、粒状異物等の塗布欠陥が発生せず、微細パターンが解像可能で、回復率に優れたフォトスペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition that hardly cause poor transcription etc. when used especially for intaglio offset printing method etc., does not remain any component to cause an outgas in an ink pattern after printed and then glazed on a surface of a substrate, and is excellent in balance between printing characteristics and drying property, etc. and transparency or chemical resistance, etc. of the ink pattern.例文帳に追加

特に凹版オフセット印刷法等に使用した際に転写不良等を生じにくい上、基板の表面に印刷して焼き付けた後のインキパターン中にアウトガスのもとになる成分が残留せず、印刷特性や乾燥性等と、前記インキパターンの透明性や耐薬品性等とのバランスに優れたインキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition and a pattern forming method which is excellent in developability and can be restrained the occurrence of surface reticulation after post baking, and to provide a method for manufacturing a color filter having a colored pattern free from surface reticulation, and is excellent in line width sensitivity, linearity and heat resistance, and to provide the color filter and a display device.例文帳に追加

現像性が良好で且つポストベーク後の表面レチキュレーションの発生を抑制し得る着色感光性樹脂組成物及びパターン形成方法、並びに、表面レチキュレーションがなく、線幅感度、直線性及び耐熱性に優れた着色パターンを有するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition containing, as a base material, a molecular material capable of reducing LER and LWR in EUV lithography capable of forming an ultrafine pattern, and giving a resist film which ensures low outgassing in EUV exposure and has high etching resistance, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、ＬＥＲ及びＬＷＲの低減が可能な分子性材料を基盤材料として含有するレジスト組成物であって、ＥＵＶ露光時でのアウトガスが低く、またエッチング耐性の高いレジスト膜を与えるレジスト組成物、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性（高いコストパフォーマンス）にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable sheet composition, which is capable of following a metal mold shape by heating and pressurizing and of polymerizing to cure by means of photoirradiation and of fixing an optical element molding pattern, and which can mold a lens pattern directly on a glass substrate or the like and is excellent in the adhesiveness to the substrate, and further has the high transparency and weatherability.例文帳に追加

加熱加圧により金型形状に追従し、光照射により重合硬化し光学素子成型パターンを固定化することが出来る硬化性シート組成物であって、ガラス基板などの上に直接レンズパターンを成型でき、基板への密着性に優れ、さらに透明性、耐候性の高い硬化性シート組成物を提供する。 - 特許庁

A waterproof barrier layer 13, comprising a polyolefin resin with a thermoplastic elastomer composition, is set between a pattern layer and a hard coat of the decorative sheet; which has a pattern layer 12 and an ionizing radiation curable resin hard coat layer 14 laid in this order on one surface of a polyolefin resin base sheet 11.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂シートからなる基材シート１１の一方の面に絵柄層１２、及び電離放射線硬化性樹脂からなるハードコート層１４を順に設けた化粧シートにおいて、前記絵柄層と前記ハードコート層との間に、熱可塑性エラストマー成分を含有してなるポリオレフィン系樹脂からなる防水性バリヤー層１３を設けた化粧シート。 - 特許庁

A mask is formed on a permeable substrate, a first region having an optically catalytic film on the substrate and the mask is formed, light is allowed to penetrate the substrate to irradiate light to the optically catalytic film, a second region is formed by partially reforming the first region, and a pattern is formed by delivering a composition containing a pattern formation material to the second region.例文帳に追加

透光性を有する基板上にマスクを形成し、基板及びマスク上に光触媒膜を有する第１の領域を形成し、基板に光を通過させて光触媒膜に照射し、第１の領域の一部を改質して第２の領域を形成し、第２の領域にパターン形成材料を含む組成物を吐出してパターンを形成する。 - 特許庁

An insulating layer 4 is formed on a first wiring pattern 3 of a printed wiring board 2 by the resin composition and the surface of the insulating layer 4 is chemically treated thereby removing the inorganic filler to form unevenness on the surface followed by electroless plating thereby forming a conductor layer (a second wiring pattern 5) to give a multilayered printed wiring board 1.例文帳に追加

また、プリント配線基板２の第１の配線パターン３上に上記樹脂組成物によって絶縁層４を形成し、この絶縁層４の表面を化学的に処理して無機フィラーを除去して表面に凹凸を形成した後に、無電解めっきを施すことによって導体層（第２の配線パターン５）を形成して多層配線基板１とした。 - 特許庁

This repair method fills a missing part of a barrier rib formed on a substrate and its vicinity with a photosensitive resin composition, forms a relief pattern in an area excluding the missing part by applying a photolithography method so as to form the missing part into a recessed part, fills the recessed part with a barrier rib material, and removes the relief pattern.例文帳に追加

基板上に設けられた障壁の欠落部分及びその近傍に感光性樹脂組成物を充填し、フォトリソ法を適用して前記欠落部分以外の部分にレリーフパターンを形成して前記欠落部分が凹部となるようにし、この凹部に障壁材料を充填し、レリーフパターンを除去することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁の補修方法。 - 特許庁

To provide a column spacer composition enabling simultaneous formation of a saturated pattern and a semi-transmissive pattern as column spacer patterns having different shapes, whose difference in thickness is controllable as desired although the sensitivity is slightly reduced, through a slit or semi-transmissive mask by varying the kind and amount of the radical polymerization inhibitor.例文帳に追加

本発明は、カラムスペーサの中でもスリットや半透過マスクを用いて同時に２つの異形状のカラムスペーサを作製する特殊な場合において、ラジカル重合禁止剤の種類や量を変更することにより、感度は小幅減少しても２つのパターン(飽和パターン、半透過パターン)の差を自由に調節できるカラムスペーサ組成物を提供することができる。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminate which is produced by forming a pattern layer on the surface of a substrate layer made of a rubber-reinforced resin composition and covering the pattern layer with a transparent resin layer, excellent in appearance, easy of production, and also excellent in adhesion between layers and/or in solvent resistance of the anchor coat layer.例文帳に追加

ゴム強化樹脂組成物からなる基材層の表面に図柄層を形成し、該図柄層を透明樹脂層で被覆してなる積層体の製造方法であって、外観に優れ、製造が容易な積層体、さらには各層間の密着性及び／又はアンカーコート層の耐溶剤性にも優れた積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The ceramic surface-void after sintering only the frame connection part 6 is decreased by forming a frame connection pattern 6 for sealing a cap on a greensheet 5 arranged in the outermost at the pattern printing stage to the greensheet at the ceramic substrate manufacturing with a ceramic powder paste easy to be fine at the time of sintering more than the ceramic composition of the greensheet 5.例文帳に追加

セラミック基板製造におけるグリーンシートへのパターン印刷段階で、積層体最外層に配置されるグリーンシート５に、グリーンシートのセラミック組成よりも焼結時に緻密化しやすいセラミック粉末ペーストにて、キャップ封止用フレーム接続パターン６を形成しておくことで、フレーム接続部６のみ焼結後のセラミック表面ボイドを低減させる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition giving good pattern profile particularly free of a defective trailing shape of a line pattern on a glass substrate (SOG substrate) and an overhang shape of a contact hole and having a wide side lobe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板（ＳＯＧ基板）上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufactured by using a photoresist polymer removing detergent composition which can effectively remove a photoresist residue or the like produced in an etching process and in an ashing process in the process of a photoresist pattern for manufacturing the semiconductor device, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device, a method for cleaning a photoresist pattern and a photolithographic method.例文帳に追加

半導体素子を製造するためのフォトレジストパターン形成工程中において、エッチング工程及びアッシング工程時に発生するフォトレジスト残留物などを効果的に除去できるフォトレジストポリマー除去用洗浄剤組成物を用いた半導体素子及び半導体素子の製造方法、フォトレジストパターン洗浄方法、フォトリソグラフィー方法を提供すること。 - 特許庁

In the pattern forming method, the application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating of the positive type photosensitive resin composition are successively carried out and the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

A pressure-sensitive type transfer material A is obtained by coating a pressure-sensitive adhesive 1 composed of a pressure-sensitive adhesive composition 10 (not shown in the Figure) containing an acrylic polymer or a styrenic polymer on a release substrate 2 in a discontinuous pattern.例文帳に追加

粘着式転写材料Ａは、アクリル系重合体又はスチレン系重合体を含有する粘着剤組成物１０（図示せず）からなる粘着剤１を剥離基材２上に断続パターンに塗工してなるものである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in resist strippability and can improve adhesion and resolution, and to provide a photosensitive element, a method of forming a resist pattern and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.例文帳に追加

レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermally curable resist composition which is suitable for a solder resist or an interlayer insulating film and is capable of forming a highly precise pattern by suppressing bleeding caused after screen printing and sagging occurred during heating, and to provide its curing method and use.例文帳に追加

スクリーン印刷後に生じるブリードや加熱時に発生するダレを抑制して高精細なパターン形成の可能なソルダーレジストや層間絶縁膜に好適な熱硬化性のレジスト組成物、その硬化方法及び用途を提供する。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition is obtained by mixing an ABS resin (A) with a vinyl-based copolymer (B) and a polyamide resin (C) in a specific ratio and adjusting the dispersion state (morphology) of each of the components (A), (B) and (C) to a streak-like pattern.例文帳に追加

ＡＢＳ樹脂（Ａ）、ビニル系共重合体（Ｂ）およびポリアミド樹脂（Ｃ）を特定の割合で配合してなり、これら（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）各成分の分散状態（モルフォロジー）を縞状模様に調整してなる熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

To prevent a non-reaction polysilicon region or a region where the composition of a silicide is locally different from being generated in a gate electrode due to pattern dependency such as a gate length or a gate region when integrating the gate electrode of a transistor into a full silicide.例文帳に追加

トランジスタのゲート電極をフルシリサイド化する際に、ゲート長又はゲート面積等のパターン依存性により、未反応のポリシリコン領域又はシリサイドの組成が局所的に異なる領域がゲート電極に生じないようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a chemically amplified resist composition and a resist film which satisfy high sensitivity, high resolution, excellent roughness performance and excellent dry etching resistance, and further have excellent developing time dependency.例文帳に追加

高感度、高解像性、優れたラフネス性能、及び、優れたドライエッチング耐性を同時に満足するとともに、更には、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜を提供する。 - 特許庁

Then an auxiliary channel beam output in a form of covering an antenna pattern of the main antenna 1 is obtained by applying weighting of amplitude and phase or only the phase to the aperture separation signals Xl, Xr, Xu, Xd and applying beam composition to the result.例文帳に追加

そして、開口分割信号Ｘｌ、Ｘｒ、Ｘｕ、Ｘｄに、振幅および位相、または位相のみの重み付けを施してビーム合成することにより、主アンテナ１のアンテナパターンを覆う形状の補助チャネルビーム出力を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive cured resin composition for a transparent material pattern spacer having buffer action as the result of temperature changes while stably maintaining a uniform cell gap, and having excellent storage stability, heat resistance, chemical resistance and resolution.例文帳に追加

安定的に均一なセルギャップを維持しながら、温度変化によって緩衝作用を有し、保存安定性、耐熱性、化学的耐性及び解像度に優れた透明材料パターンスペーサ用感光性硬化樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.例文帳に追加

露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition effective to achieve the diminution of defects necessary for comprehensive quality control, excellent in sensitivity and resolution, causing no unevenness in coating and giving a good resist pattern shape.例文帳に追加

総合的な品質管理上必要なディフェクト低減を実現するのに有効で、しかも感度、解像度が優れ、塗布むらの発生がなく、良好なレジストパターン形状を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank for extreme ultraviolet (EUV) lithography in which the mask has low reflectance in a wavelength range of EUV light and pattern inspection light and has an absorbent layer that is easily controlled to a desired film composition and a film thickness.例文帳に追加

ＥＵＶ光およびパターン検査光の波長域の反射率が低く、かつ該所望の膜組成および膜厚に制御することが容易な吸収体層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁

To provide a method capable of controlling the size of a pattern by finding out a method for preparing a polymer film having a micro-domain structure oriented vertically to the surface of a substrate and changing a mixture composition by the latter method.例文帳に追加

基板表面に対して垂直に配向したミクロドメイン構造を有する高分子膜を作製する方法を見出し、この方法により混合組成を変えることによってパターンのサイズが制御し得る方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied on the substrate and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order and the quantity of light in the second exposure is 0.3 to 15 times the quantity of light in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、基板上に塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．３〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

The method of producing a metal pattern material uses the composition for forming a layer to be plated.例文帳に追加

めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基、ラジカル重合性基、及びイオン性極性基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物、及び、これを用いた金属パターン材料の作製方法。 - 特許庁

To provide a photosetting colored composition for color filter capable of producing a color filter having excellent transparency and heat resistance by means of a photolithography and has an excellent development performance permitting the pattern formation in a short developing time.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によって、優れた透明性および耐熱性を有するカラーフィルターが製造でき、短い現像時間でパターン形成が可能な優れた現像性を有するカラーフィルター用光硬化性着色組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition with which no scum (floating residue) is produced on a pixel, and a highly precise pattern comforming to a mask design is formed with high sensitivity, and which is also excellent in adhesion strength to a substrate and so on.例文帳に追加

本発明は、画素上にスカム（浮きかす）が発生することがなく、高感度でかつマスク設計通りの高精細なパターンを形成でき、基板との密着強度等にも優れた感光性着色組成物を提供する。 - 特許庁

An adhesive layer 12 for bonding and fixing the colored particles 13 to an uneven pattern transfer surface 11a of the decorative mat 1 is made to be a water-soluble inorganic layer formed by an inorganic composition mainly consisting of a silicate soda.例文帳に追加

化粧マット１の凹凸模様転写面１１ａに着色粒状物１３を接着固定させるための接着層１２を、珪酸ソーダを主成分とする無機組成物を用いて形成された水溶性無機層にする。 - 特許庁

The composition 2 is capable of forming a good negative type pattern film with a high residual film rate and high resolution in a range in which transparency is retained without using a large quantity of the photosensitive agent that colors the film.例文帳に追加

この感光性樹脂組成物２では、皮膜を着色させる感光剤を多く用いずに、透明性を保持した範囲において、高残膜率および高解像度で、良好なネガ型のパターンの皮膜として形成することができる。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition having improved dependence on a thin-dense pattern and usable in an ultramicrolithographic process and another photofabrication process for producing VLIS and high capacity microchips.例文帳に追加

疎密パターン依存性が改善され、超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケ−ションプロセスに使用することができる化学増幅型の感放射線性レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁