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composition patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4879件
To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern which satisfies flexibility required when used for a FPC and also has excellent flame retardancy and hot pressing resistance.例文帳に追加
FPCに用いられたときに要求される可撓性を十分に満足するとともに、難燃性及び耐熱プレス性も十分に優れたレジストパターンを形成することが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition that is manufactured at low cost and is a main chain cleavage type superior in a pattern shape, and also is applicable to a wide range uses because it is free from corrosion of metal and the like.例文帳に追加
低コストで製造が可能でありパターン形状に優れた主鎖開裂型でありながら、金属などの腐食がないことから幅広い用途への適用が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a composition for coating film formation which, even after long-term storage, avoids an increase of the surface tension and does not cause problems such as the occurrence of striation, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加
長期間保管した後においても、表面張力が増加せず、ストリエーションの発生等の問題を生じることのない塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic properties required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring good adhesiveness to a substrate and few development defects.例文帳に追加
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、基板に対する接着性が良好で現像欠陥が少ない。 - 特許庁
To provide a photocurable composition which provides satisfactory color density, spectral characteristics, sensitivity and curability, and excels in pattern rectangularity of pixels and developability when used for a color filter, and a color filter obtained by using the same.例文帳に追加
充分な色濃度、分光特性、感度および硬化性が得られ、かつ、カラーフィルタに用いるとき画素のパターンの矩形性及び現像性に優れた光硬化性組成物、及びそれを用いるカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition used for forming an interlayer insulation film or the like of a semiconductor element and for forming a thick film pattern with irradiation of radiation or the like, has photosensitiveness, and enables a development without using a crosslinking agent, and to provide the semiconductor element using the photosensive composition.例文帳に追加
例えば半導体素子の層間絶縁膜等を形成するのに用いられ、感光性を有し、架橋剤を用いることなく現象が可能であり、かつ放射線等の照射により厚みのある膜パターンを形成することが可能な感光性組成物及び該感光性組成物を用いてなる半導体素子を提供する。 - 特許庁
To provide an acid-degradable resin imparting good properties to a resist composition and having an alicyclic group, and a method for producing the acid-degradable resin; and to provide the positive-type resist composition having excellent properties of having a wide process window and a small dependency on the pattern density by using the acid-degradable resin.例文帳に追加
レジスト組成物に良好な性能をもたらす脂環基を有する酸分解性樹脂及びその製造方法を提供することであり、また、当該酸分解性樹脂を用いることによりプロセスウインドウが広く、疎密依存性が小さい優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加
優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition having superior resolution, adhesion, photosensitivity and plating resistance and excellent also in strippability, which is a photosensitive resin composition for forming a cured material layer on a surface resin layer of a circuit formed substrate with the surface resin layer having a definite pattern.例文帳に追加
一定のパターンを有する表面樹脂層を備える回路形成済基板の前記表面樹脂層上に硬化物層を形成させるための感光性樹脂組成物であって、優れた解像度、密着性、光感度及びめっき耐性を有するのみならず、剥離性にも優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加
アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁
A content of lead in the composition of a lead composite perovskite system ceramic material composing a ceramic green sheet for an intermediate layer and a ceramic green sheet for a cover not arranged with an inner electrode pattern is set higher than the content of lead in the composition of a lead composite perovskite system ceramic material composing a ceramic green sheet arranged with an electrode.例文帳に追加
内部電極パターンの配設されていない、中間層用セラミックグリーンシート及びカバー用セラミックグリーンシートを構成する鉛複合ペロブスカイト系セラミック原料の組成中鉛含有率を、電極配設セラミックグリーンシートを構成する鉛複合ペロブスカイト系セラミック原料の組成中鉛含有率よりも高くする。 - 特許庁
To provide a coating method and coating device in which the application uniformity and application amount of a solvent-less type adhesive composition are secured, the interlaminar adhesiveness, the design of printing pattern and coating appearance quality are maintained and the productivity is improved in a composite film laminated with the solventless adhesive composition.例文帳に追加
無溶剤型接着剤組成物を介して積層される複合フィルムおいて、該無溶剤型接着剤組成物の塗工均一性、塗工量を確保し、層間接着性や印刷絵柄の意匠、塗工外観品質を維持し、且つ生産性を向上させる塗工方法および塗工装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a colored photosensitive resin composition having a high sensitivity and preservation stability even by containing a coloring material in a high concentration, and to provide a high quality color filter formed by using the colored photosensitive resin composition and exhibiting colored pixels having an excellent surface smoothness, pattern form and luminosity.例文帳に追加
着色材料を高濃度で含有しても、感度および保存安定性が高い着色感光性樹脂組成物、ならびに前記の着色感光性樹脂組成物を用いて形成した着色画素が表面平滑性、パターン形状および明度に優れた高品質のカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a negative photosensitive resin composition hardly generating a scum, having excellent pattern resolution, and excellent in adhesiveness to an opposed substrate, in a functional element bonded with the two opposedly-arranged substrates via a structure obtained from the negative photosensitive resin composition.例文帳に追加
対向配置される2つの基板をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、残渣やスカムが発生しにくく、優れたパタ−ン解像性を有し、且つ対向基板との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide black photopolymer composition which is superior to adhesion with a substrate and storage stability and hard to arise in optical density gap with position at the time of minute pattern formation because it reduce heat flow characteristics in the post-bake while maintaining sensibility, a black matrix prepared using the black photopolymer composition, and a color filter with the black matrix.例文帳に追加
基板との密着性及び貯蔵安定性に優れ、感度を維持しつつポストベークの際の熱流れ性を低減することで、微細パターン形成時、位置による光学密度差を生じにくい黒色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されたブラックマトリクス及び上記ブラックマトリクスを備えるカラーフィルターの提供。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition having superior insulation reliability, thermal shock resistance, storage stability, high sensitivity, adhesion to a substrate and heat resistance and suitable, especially, as a solder resist for a package; and to provide a photosensitive film, a photosensitive laminate, a method for forming a permanent pattern and a printed board using the photosensitive composition.例文帳に追加
優れた絶縁信頼性、耐熱衝撃性、保存安定性、高感度、基板密着性、及び耐熱性を兼ね備え、特にパッケージ用ソルダーレジストとして好適な感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁
A gap between conductor patterns which are formed on the surface of a laminated plate and have a thickness of 105 μm or more is filled with a resin composition, to make the surface of the conductor pattern flush with the surface of the resin composition, and after a metal foil is overlapped on the surface via a prepreg, this is heated and pressurized and is thereby laminate-molded.例文帳に追加
積層板の表面に形成された厚み105μm以上の導体パターン間の隙間に樹脂組成物を充填して前記導体パターンの表面と前記樹脂組成物の表面とを面一とし、次にこの面にプリプレグを介して金属箔を重ねた後、これを加熱加圧することによって積層成形する。 - 特許庁
To provide a colored curable composition which can suppress planar shape degradation due to coating and can form a colored film with few defects, to provide a colored pattern having an excellent plane shape and few defects by using the colored curable composition, and to provide a color filter, a manufacturing method of the color filter, and a liquid crystal display element.例文帳に追加
塗布に起因する面状劣化を抑制し、且つ、欠陥の少ない着色膜を形成し得る着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いてなる、面状が良好で、且つ、欠陥の少ない着色パターン、カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
To provide a conductive ink composition which in the formation of a copper-based electrically conducting portion, enables the electrically conducting portion to be formed at a temperature at which a resin can be used as a substrate, and which enables a pattern to be formed by screen printing; and to provide a method for producing an electrically conducting portion using the conductive ink composition, and its applications.例文帳に追加
銅を主成分とする電気的導通部位の形成において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能な導電性インク組成物、それを用いた電気的導通部位の製造方法、及びその用途を提供する。 - 特許庁
To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加
ラインエッジラフネス、BLOB欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for preparing a thin film forming composition which suppresses increase in molecular weight of an alkoxysilane condensation product during storage and substantially avoids increase in viscosity of the composition, therefore enables to form a thin film uniform in film thickness and having a fine pattern shape with high accuracy.例文帳に追加
貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polyimide screen printing varnish composition and a polyimide paste composition excellent in dense fine pattern design and continuous printability by screen printing method without using any photoresist method and photoprinting method and capable of easily forming adhesive layer or protective layer with high heat resistance and high electrical insulation.例文帳に追加
フォトレジスト法及びフォトプリント法を用いずに、スクリーン印刷法により、緻密な微細パターン形状及び連続印刷性に優れており、耐熱性、高絶縁性に優れた接着層または保護層を容易に形成することができるポリイミドスクリーン印刷ワニスの組成物及びポリイミドペースト組成物の提供すること。 - 特許庁
With the photosensitive colored composition of the present invention, as a specified compound is used as a photopolymerization initiator in the composition, each color filter segment and a black matrix pattern having high sensitivity and superior properties can be formed even when a pigment content is high or even when the thickness of films of the color filter segment and the black matrix is large.例文帳に追加
本発明の感光性着色組成物は、特定の化合物を光重合開始剤として用いることにより、顔料含有量が高い、あるいは各色フィルタセグメントおよびブラックマトリックスの形成膜厚が厚くとも、高感度で、且つ優れた各色フィルタセグメントおよびブラックマトリックスパタ−ンを形成することができる。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for forming a color layer, having little residue even when a pigment concentration is high and giving a good pattern feature, to provide a color filter formed of the radiation-sensitive composition for forming a color filter, and to provide a solid-state imaging device having the color filter.例文帳に追加
本発明は、顔料濃度が高くても残渣が少なく、且つ良好なパターン形状を得ることができる着色層形成用感放射線性組成物、該着色層形成用感放射線性組成物により形成するカラーフィルタおよび該カラーフィルタを具備する固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加
特に露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Sec.112 Definition of Terms: 112.1.An industrial design is any composition of lines or colors or any three-dimensional form, whether or not associated with lines or colors; Provided, that such composition or form gives a special appearance to and can serve as pattern for an industrial product or handicraft.例文帳に追加
第112条 用語の定義 1.意匠は,線若しくは色と関係付けられるか否かを問わず,線若しくは色からなる構図又は三次元の形状である。ただし,それら構図又は形状は,工業上の物品又は手工芸品に特別の外観を与え,それらのための模様として機能することができるものでなければならない。 - 特許庁
This composition is filled in a hole such as a plating through hole 2 and a depression between conductor circuit layers 3 in a printed wiring board 1, thermally cured, and then subjected to oxidizing agent treatment to remove a surface part of the cured composition layer to expose a conductor circuit pattern and make the surface of the board flat.例文帳に追加
この組成物をプリント配線基板1のめっきスルーホール2等の穴部及び導体回路層3間の凹部に充填し、加熱硬化した後、酸化剤処理を施して上記硬化した組成物層の表面部分を除去して導体回路パターンを露出させると共に基板の表面を平坦にする。 - 特許庁
To provide a photosensitive paste composition which allows high-definition pattern formation by controlling the tackiness of a film of a photosensitive paste composition used for various members such as partitions of a flat panel display so that a problem such as contamination of a photomask in exposure is not caused.例文帳に追加
本発明はフラットパネルディスプレイの隔壁などの各種部材に用いる感光性ペースト組成物に関して、その感光性ペースト組成物の膜のタック性を制御し、露光時のフォトマスクの汚れなどの問題を生じないことによって、高精細なパターン形成が可能とする感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition, capable of forming a resist film hardly generating cracks, capable of reducing decrease in a film, in an unexposed part, and having satisfactory sensitivity and resolution, in a circuit forming process in a multilayered printed wiring board by a COF or building-up construction method, and a pattern forming method using the photosensitive resin composition.例文帳に追加
COFやビルドアップ工法による多層プリント配線板における回路形成プロセスにおいて、クラックが発生しにくく、未露光部の膜減りが少なく、感度、解像性が良好なレジスト膜を形成できる感光性樹脂組成物、およびこの感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μm以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition for improving the performance of essential micro-photofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and also to provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays which suppresses pattern collapse or LER (line edge roughness).例文帳に追加
遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、パターン倒れ性、LER(ラインエッジラフネス)が抑制できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
An industrial design is any composition of lines or colors or any three-dimensional form, whether or not associated with lines or colors: Provided that, such composition or form should give a special appearance to and can serve as pattern for an industrial product or handicraft that is new or original.例文帳に追加
意匠は,線又は色彩からなる構成物,又は色彩と結合しているか否かを問わず,立体の形である。ただし,当該構成物又は形は,製造品又は手工芸品に特別の外観を与え,これらのための模様として機能することができるものでなければならず,新規性又は独創性がなければならない。 - 特許庁
To provide a packaging structure having high reliability, wherein corrosion and migration are not generated in a wiring pattern even when ICs are packaged by using a thermosetting resin composition as a resin composition for adhesion, and also to provide an electrooptical apparatus provided with the packaging structure, an electronic device provided with the electrooptical apparatus.例文帳に追加
接合用樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物を用いてICを実装した場合でも配線パターンに腐蝕やマイグレーションが発生せず、信頼性の高い実装構造体、この実装構造体を備えた電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。 - 特許庁
To provide a colored photosensitive resin composition effectively suppressing surface defects or surface roughening of a coating film when the coating film is dried under reduced pressure, and also to provide a color filter having a pattern formed by using the colored photosensitive resin composition, and a liquid crystal display having the color filter.例文帳に追加
塗膜を減圧乾燥したときの塗膜の表面欠陥や表面荒れを効果的に抑制することが可能な着色感光性樹脂組成物、その着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターンを有するカラーフィルター、及びそのカラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。 - 特許庁
To provide a pigment dispersion composition which, even when the pigment is finely particulate, has high pigment dispersiveness and high dispersion stability, to provide a colored photosensitive composition having good dispersion stability and good pattern forming properties by using the same, and to provide a color filter excellent in contrast and free from color unevenness.例文帳に追加
微細な顔料でも高い顔料分散性と分散安定性を有する顔料分散組成物を提供し、それを用いることによって分散安定性が良好で、パターン成形性が良好な着色感光性組成物を提供し、コントラスト、色むらに優れたカラーフィルタを提供することにある。 - 特許庁
The positive photosensitive composition contains (A) a resin having a repeat unit represented by general formula (I) and a repeat unit represented by general formula (II), and (B) a compound which generates an acid by irradiating with an active ray or radiation, and the pattern forming method using the positive photosensitive composition is also provided.例文帳に追加
(A)一般式(I)で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a colored composition which has high sensitivity and excels in pattern profile even with a high coloring material content or a large film thickness in an excimer laser exposure method at a specific wavelength, to provide a method of manufacturing a color filter using the same, and to provide a color filter manufactured by the method and a color filter using the composition.例文帳に追加
特定の波長のエキシマレーザ露光方式において、色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度であると共に、パターン形状に優れた着色組成物、それを用いたカラーフィルタの製造方法、およびその方法により製造されるカラーフィルタとそれを用いたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, ensures good pattern profile and line edge roughness, and produces little residue on development (scum).例文帳に追加
160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、パターンプロファイルとラインエッジラフネスの特性が良好で、現像残渣(スカム)の少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition for a color filter having such high photocurability that it is thoroughly cured with small light exposure in curing, and improved in accuracy of a pattern shape after development because an unexposed part is thoroughly dissolved in an aqueous alkali solution, and also to provide a color filter using the photosensitive resin composition.例文帳に追加
光硬化性が高く硬化時に少ない露光量で充分に硬化できるとともに、未露光部分がアルカリ水溶液に充分に溶解可能であり、現像後のパターン形状の精度を向上させることができるカラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びそれを用いてなるカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition excellent in sludge removability while maintaining photosensitive characteristics such as sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the resin composition, a method for forming a resist pattern and a method for producing a printed wiring board by which a printed wiring board of sufficiently high density can be obtained.例文帳に追加
感度、解像性及び密着性といった感光特性を維持したままスラッジ除去性に優れる感光性樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び十分に高密度化されたプリント配線板を得ることが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a composition for forming a dielectric substance from which a dielectric layer having low dielectric loss and a high dielectric constant can be obtained by low temperature firing, and further, a pattern can be formed at a high dimensional precision, to provide a dielectric substance formed from the composition for forming a dielectric substance, and to provide an electronic component provided with the dielectric substance.例文帳に追加
誘電損失が小さく、高誘電率の誘電体層を、低温焼成により得ることができるとともに、高い寸法精度でパターンを形成できる誘電体形成用組成物、この誘電体形成用組成物から形成される誘電体、およびこの誘電体を備える電子部品を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition with which a dry film having sufficient sensitivity and developability and sufficient flexibility can be formed and a positive photosensitive element can be obtained, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern, and a method for manufacturing a printed wiring board using the above composition.例文帳に追加
十分な感度及び現像性を有するとともに十分な可とう性を有するドライフィルムを形成でき、ポジ型感光性エレメントの実現を可能とするポジ型感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The decorative material layer is preferably formed either of a composition 1 containing a binder or a colored aggregate, a composition 2 containing a binder, a coloring pigment and powdery granules, a multi-color pattern coating material 3 or combination of them.例文帳に追加
前記装飾材層としては、(1)結合材、及び有色骨材を含有する組成物により形成されたもの、(2)結合材、着色顔料、及び粉粒体を含有する組成物により形成されたもの、(3)多彩模様塗料により形成されたもの、のいずれか、またはこれらを組み合わせたものが好ましい。 - 特許庁
To provide a composition for sealing having a viscosity characteristic suitable for coating, especially viscosity which is free from the occurrence of the clogging of a nozzle of a dispenser, having good shape holding property with respect to a sealing pattern, forming a high accuracy sealing layer (in sealing width and thickness), in regard to the composition comprising spherical spacers.例文帳に追加
球状スペーサーを含有する封止用組成物において、塗布に適した粘度特性を有し、特にディスペンサーのノズル詰まりが生じない粘度を有するとともに、封止パターンの形状維持性が良好であり、しかも高精度の封止層(封止幅、封止厚み)を形成することができる封止用組成物を得る。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having superior dry etching resistance and high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.例文帳に追加
優れたドライエッチング耐性を有し、しかも放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対する十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The process for producing a resin molding having a woodgrain pattern comprises extruding a resin composition containing 100 pts.wt. particulate material comprising a resin composition (A) containing 5-70 wt.% cellulosic powder, 0.1-10 pts.wt. polyethylene (B), and 0.01-15 pts.wt. coloring agent (C).例文帳に追加
セルロース系粉粒体を5〜70重量%含む樹脂組成物(A)から成る粒状物100重量部、ポリエチレン(B)0.1〜10重量部、及び着色剤(C)0.01〜15重量部を含む樹脂組成物を押出成形することを特徴とする木目模様を有する樹脂成形品の製造法。 - 特許庁
An optical master disk 100 is configured by including a substrate member 1 in which a predetermined rugged pattern is formed, and a tungsten oxide film 2 in which 55 (atomic %)<X<60 (atomic %) and Y=100-X (atomic %) when the atomic composition percentage ratio of oxygen is defined as X and the atomic composition percentage ratio of tungsten is defined as Y.例文帳に追加
所定の凹凸パターンが形成された基板部材1と、基板部材1の凹凸パターン上に形成され、酸素の原子組成百分率比をX、タングステンの原子組成百分率比をYとすると、55(atomic %)<X<60(atomic %)かつY=100−X(atomic %)である酸化タングステン膜2と、を含んで光ディスク原盤100を構成する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.例文帳に追加
KrFエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、F_2エキシマレーザー(157nm)やEUV(真空紫外線13nm)を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁
After all, for having the low absorption capacity and the high acid initiator efficiency in an ultraviolet region, even if the subject photo-acid initiator ≥10 pts.mass is added to a photosensitive polyimide precursor composition, lowering permeability of the whole composition is not great, resultingly, even a film having a thickness of ≥10 μm, the pattern formation of a high resolution can be stably formed.例文帳に追加
結局、紫外線領域で吸収度が低く酸発生効率が高いため、感光性ポリイミド前駆体組成物に10質量部以上多量添加しても全体組成物の透過度低下が大きくなく、結果的に10μm以上の高いフィルム厚さでも高解像度のパタン形成が安定的に形成できる。 - 特許庁
There are provided a polysiloxane composition including (A) a polysiloxane, and (B) a compound having a nitrogen-containing heterocyclic structure and at least one selected from a polar group and an ester group, and a method for forming a pattern using a resist underlayer film obtained from a polysiloxane composition having an acid diffusion-controlling agent.例文帳に追加
(A)ポリシロキサン、並びに(B)窒素含有複素環構造と、極性基及びエステル基から選ばれる少なくとも一種とを有する化合物を含むことを特徴とするポリシロキサン組成物と、酸拡散制御剤を有するポリシロキサン組成物から得られるレジスト下層膜を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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