「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(79ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide: a photosensitive resin composition having excellent developability and not causing incomplete development; a photosensitive element using it; a method for manufacturing a resist pattern; and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

現像残りを生じさせない優れた現像性を有する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR COPOLYMER, VARNISH CONTAINING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYIMIDE COPOLYMER, SEMICONDUCTOR ELEMENT PROTECTIVE FILM CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN OF POLYIMIDE COPOLYMER CONTAINING FILM例文帳に追加

ポリイミド前駆体共重合体、それを含むワニスおよびポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド共重合体、それを含む半導体素子の保護膜、ポリイミド共重合体含有膜の微細パターンの製造方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

The photocurable resin composition is coated on a transparent electrode of the front glass substrate, exposed to form a predetermined pattern, developed and baked to form underlayer (black layer) electrode circuit of PDP.例文帳に追加

このような光硬化性樹脂組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの下層（黒層）電極回路が形成される。 - 特許庁

Then parts patterns as parts images that one group of parts pattern NO.s read out of the montage data area indicates are combined to generate a montage image as a portrait image by a composition system (SH6).例文帳に追加

しかる後に、このモンタージュデータエリアから読み出した一組の各パーツパターンＮＯ．が示すパーツ画像であるパーツパターンを組み合わせて、似顔絵画像であるモンタージュ画像を合成方式で作成する（ＳＨ６）。 - 特許庁

An electrode pattern is drawn by irradiation with a laser on the glass substrate subjected to film formation with a paste composition, containing silver oxide powder and low melting point glass powder and the silver powder, is fired to the substrate.例文帳に追加

酸化銀粉末及び低融点ガラス粉末を含有するペースト組成物で製膜されたガラス基板上にレーザー照射により電極パターンを描画して銀粉末を基板に焼付ける。 - 特許庁

The composition for forming an electroless plating pattern contains metal compound particles 101 modified with an organic substance 103 on the surface and carrying catalyst metal fine particles 105 on the surface.例文帳に追加

表面を有機物１０３で修飾されるとともに、前記表面１０３に触媒金属微粒子１０５を担持した金属化合物粒子１０１を含む無電解メッキパターン形成用組成物。 - 特許庁

The polymer removing liquid composition for fine pattern contains (1) at least one of fluoride and difluoride salts, (2) an anionic surfactant, (3) an organic solvent having a heteroatom and (4) water.例文帳に追加

(1) フッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも１種；(2)アニオン系界面活性剤； (3)ヘテロ原子を有する有機溶媒；及び(4)水を含むことを特徴とする微細パターン用ポリマー剥離液組成物。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN STEP OF EXPOSURE USING AT LEAST TWO EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER AND ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an alkali-soluble photosensitive resin composition of which the pattern formation is easy and which has high heat resistance, high reliability (such as high moisture-resistance reliability), high transparency, and low permittivity.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an acrylic acid ester derivative which is useful as the raw material for a polymer compound for a photoresist composition having excellent lithographic properties and improved LWR and forms a photoresist pattern of high resolution.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。 - 特許庁

A photosensitive organic antireflection film formed with the composition for forming a photosensitive organic antireflection film is developed at the same time in a developing process for forming a photoresist pattern from a photoresist.例文帳に追加

この感光性有機反射防止膜形成用の組成物で形成した感光性有機反射防止膜は、フォトレジストによりフォトレジストパターンを形成するための現象工程において、同時に現象される。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a radiosensitive resin composition having a chemically amplifying light-sensitive film to far-ultraviolet radiation with improved pattern form together with improved resolving performance, sensitivity and focal depth latitude.例文帳に追加

遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像性能、感度及び焦点深度余裕の向上と共に、パターン形状の向上ができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type chemical amplification system photosensitive resin composition having high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and excellent process stability and to provide a method for producing a resist image.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a color filter black matrix resist composition with which a thin-film pattern with high light shielding property can easily be formed by a photolithographic method and superior storage stability, and sufficient sensitivity and resolution can be obtained.例文帳に追加

薄膜・高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、保存安定性に優れ、十分な感度、解像性が得られるカラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a dissolution accelerator and a photoresist composition, including the dissolution accelerator that can increase the difference in the solubility, between an exposed part and an unexposed part in forming a fine pattern, using a photolithographic process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程を用いた微細パターンの形成に当たって、露光部と非露光部との溶解度差を増大可能な溶解促進剤及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物が開示される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, giving a tough cured film free of break for tenting and having good plating resistance.例文帳に追加

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、テンティング用では膜破れのない強靭な硬化膜を有し、耐めっき性が良好な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition forming a pattern under an i-line, having high resolution, and ensuring small warpage of an Si wafer after curing of the resin, and also to provide a semiconductor device using the same.例文帳に追加

ｉ線でパターン作成が可能かつ高解像度で、樹脂を硬化した後のＳｉウェハの反りが小さいポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置を提供するものである。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED OBJECT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, INSULATING PROTECTIVE COATING FILM, PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、絶縁保護被膜、感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having proper resolution after development, so superior in dispersion stability in a developing solution as not to generate scums, superior in flexibility of a cured film, and having tenting properies and proper etchant resistance, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer formed of the composition, and to provide a resist pattern forming method that uses the laminate and a conductor pattern producing method.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition which exhibits good resolution and adhesion after development, excels in dispersion stability in a developer, and avoids production of aggregates, and a photopolymerizable resin laminate having a photopolymerizable resin layer comprising the composition, and to provide a method for forming a resist pattern using the laminate and a method for producing a conductor pattern or the like.例文帳に追加

本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The solvent or solvent composition for pattern printing of an organic electroluminescence device is a solvent composition which is used when an element pattern constituting the organic electroluminescence device is formed by a printing method, and contains a compound in which one of two terminal alkyl groups of a dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group and the other is a 4 or 5C straight chain or branched chain alkyl group.例文帳に追加

本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物は、有機エレクトロルミネッセンスデバイスを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、プロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数４又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The graft polymer pattern forming method includes: (a) a step of forming a photocurable resin composition layer on a substrate; (b) a step of forming a photoreactive layer containing a compound having a polymerizable double bond on the photocurable resin composition layer; and (c) a step of patternwise exposing the photoreactive layer to produce a graft polymer in the exposed area, whereby a graft polymer pattern is formed.例文帳に追加

（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 - 特許庁

When an input part 2 receives input of a retrieval musical composition name, a retrieval part 3 retrieves a text with which the retrieval musical composition name is associated in reference to the first database DB1, retrieves a color pattern associated with the meaning of the retrieved text in reference to the second database DB2, and retrieves a content associated with the retrieved color pattern in reference to the third database DB3.例文帳に追加

入力部２が検索用楽曲名の入力を受け付けると、検索部３が第１のデータベースＤＢ１を参照して、検索用楽曲名が対応づけられたテキストを検索し、第２のデータベースＤＢ２を参照して、検索したテキストの意味に関連する色彩パターンを検索し、第３のデータベースＤＢ３を参照して、検索した色彩パターンと対応づけられたコンテンツを検索する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has high photosensitivity in laser exposure by using a photopolymerization initiator of a specific structure, in which the weight of the photoinitiator can easily be increased to a desired concentration because solubility is sufficiently high owing to a low melting point of the photoinitiator, and which is excellent in suitability to production, a photosensitive film using the composition, a high definition permanent pattern and a method for efficiently forming the pattern.例文帳に追加

特定構造の光重合開始剤を用いることにより、レーザー露光での高い光感度を有すると共に、該光重合開始剤は融点が低いので溶解性に余裕があるので、所望の濃度にまで容易に増量することができる、製造適性に優れた感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good resolution after development, generates no scum because of excellent dispersion stability in a developer, and has good edge fusion resistance and conformability, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer comprising the composition, and to provide a method for forming a resist pattern using the laminate and a method for producing a conductive pattern.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition, which can sufficiently suppress turbidity in a resin film after applied or developed, which is curable at a low temperature and which is developable with an alkali aqueous solution, and to provide a method for producing a resist pattern using the positive photosensitive resin composition, a semiconductor device having a resist pattern formed by the above method, and an electronic device including the semiconductor device.例文帳に追加

塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, metallic powder used for producing the ultraviolet curable inkjet composition, a method for efficiently producing the metallic powder, and a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる金属粉末を提供すること、前記金属粉末を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored curable composition that has high fine dispersibility and high dispersion stability, high sensitivity, and high developability even in a high pigment concentration condition, a color filter that has high substrate adhesiveness, a high pattern shape, and high proper color characteristics, such as, contrast and color unevenness by using the colored curable composition, and to provide a manufacturing method for the composition.例文帳に追加

高顔料濃度条件化においても、微細分散性および分散安定性が良好で、感度が高く、且つ現像性が良好な着色硬化性組成物を提供し、前記着色硬化性組成物を使用することによって基板密着性に優れ、パターン形状が良好で、しかもコントラストや色ムラ等の色特性が良好なカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

１組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

The composition for cured film pattern formation comprises a combination of an alkali development type photocurable-heat curable composition containing no heat curing catalyst, preferably a photocurable-heat curable composition containing an epoxy resin as a heat curable component and an oxetane compound with a developer comprising an aqueous solution of a basic curing catalyst comprising a quaternary ammonium compound which generates a hydroxy anion.例文帳に追加

硬化皮膜パターン形成用組成物は、熱硬化触媒を含有しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性組成物、好ましくは熱硬化性成分としてエポキシ樹脂とオキセタン化合物を含有する光硬化性・熱硬化性組成物と、ヒドロキシアニオンを生成する第４級アンモニウム化合物からなる塩基性硬化触媒の水溶液からなる現像液との組合せからなる。 - 特許庁

The color filter is manufactured by forming a positive photoresist pattern 8 in the desired region on a substrate 1 comprising a coloring part 4 formed on a transparent substrate 2, forming a through hole 10 by exposing the pattern and forming the spacer 13 by filing a curable resin composition 12 in the through hole 10 from an inkjet head 11 and curing it.例文帳に追加

透明基板２上に着色部４を形成した基材１上の所望の領域に、ポジ型フォトレジストパターン８を形成し、パターン露光してスルーホール１０を形成し、該スルーホール１０にインクジェットヘッド１１より硬化型樹脂組成物１２を充填して硬化させ、スペーサー１３を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加

ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This negative type radiation sensitive resin composition solution is suitable for use as a resist which is not swellable with a developing solution, excellent in developability, pattern shape, focus latitude, heat resistance, pattern faithfulness, lithographic process stability, etc., having high sensitivity and high resolution and adaptable to various radiation sources.例文帳に追加

本発明によれば、現像液による膨潤がなく、現像性、パターン形状、フォーカス許容性、耐熱性、パターン忠実度、リソグラフィープロセス安定性などに優れ、高感度かつ高解像度で様々な放射線源に対応できるレジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物溶液を得ることができる。 - 特許庁

In the electrically conductive pattern forming method, an electrically conductive layer is formed using a photosensitive composition containing (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a compound containing an ethylenically unsaturated group and (D) a photopolymerization initiator and the electrically conductive layer is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.例文帳に追加

露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像（例えば画素）を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive resin composition effectively sensitive to various radiations, having high sensitivity, also having satisfactory resolution and focus latitude in various patterns including dense lines, isolated lines and contact holes, particularly in a line pattern and capable of forming a minute pattern with low surface roughness.例文帳に追加

各種の放射線に有効に感応し、高感度であり、かつ密集ライン、孤立ライン、コンタクトホール等を含む種々のパターンで、とりわけライン系パターンにおいて、十分な解像度とフォーカス余裕度を有し、さらに膜面荒れの小さい微細パターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosetting composition excellent in preservation stability (viscosity stability), coating work efficiency and developability with an aqueous alkali solution even when an inorganic fine powder is contained in large quantities and capable of forming a high-definition pattern having a high aspect ratio without causing warpage or peeling of a pattern after firing.例文帳に追加

多量に無機微粉体を含有しても保存安定性（粘度安定性）や塗布作業性、アルカリ水溶液による現像性に優れると共に、焼成後パターンの反りや剥れなどを生じることなく、高精細、高アスペクト比のパターンを形成できるアルカリ現像型の光硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

A resin composition for the decorative plate containing a curable crystalline oligomer simple substance solid at an ordinary temperature, or crystalline oligomer and unsaturated polyester, is applied to pattern paper or core paper for the decorative plate, and a curing agent solution is applied to the back face to obtain resin coated pattern paper and resin coated core paper which are thermocompression-integrated.例文帳に追加

硬化性を有する常温で固形の結晶性オリゴマー単体、または結晶性オリゴマーと不飽和ポリエステルとを含む化粧板用樹脂組成物を化粧板用パターン紙またはコア紙に塗布し、裏面に硬化剤溶液が塗布して樹脂塗工パターン紙及び樹脂塗工コア紙を得、熱圧一体化する。 - 特許庁

Then the image composition unit 73 has an EXOR operation unit 74 which EXORs the document image and code pattern image and an image correcting unit 75 which corrects dimensions of image elements present in the background part of the document image and image elements present in the image part among image elements constituting the code pattern image.例文帳に追加

そして、画像合成部７３は、更に、文書画像とコードパターン画像の排他的論理和演算を行うＥＸＯＲ演算部７４と、コードパターン画像を構成する画像要素のうち文書画像の背景部に存在するものと画像部に存在するものとでその大きさを補正する画像補正部７５とを有する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which is high in sensitivity and excellent in LER, exposure latitude and pattern shape, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive film and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an image by UV exposure and development with a dilute aqueous alkali solution, having no tackiness to a film for exposure in which a pattern image is formed and capable of giving a pattern excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering and chemical resistance.例文帳に追加

紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像で画像形成可能であって、パターン画像を形成する露光用フィルムに対してタックフリー（べとつきがない）であり、密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱性、耐薬品性が優れたパターンを与えることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁