「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing such a resin composition for optical waveguides permiting the formation of the optical waveguides having a satisfactory optical transmission capability and a sufficiently high pattern-formation precision.例文帳に追加

十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を有する光導波路を形成することが可能な光導波路用樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming a desirable image for various electronic components by a relief reversal printing method and is excellent in film hardness.例文帳に追加

各種電子部品として所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができるとともに、膜硬度に優れる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure resin of radiation sensitive composition which is good in pattern shape to be obtained, excellent in focus depth and small in the amount of elution during liquid immersion exposure.例文帳に追加

得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, and being useful as a chemical amplification type resist.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of obtaining a good pattern without involving the problem of inferior compatibility of an acid generator with a polymer having an acid-dissociable group as a base of a photoresist.例文帳に追加

酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好なパターンを得ることができる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition suitable for forming light shielding patterns excellent in adhesion, shape, light resistance and non- yellowing property in positions equidistant from lenses and to provide a light shielding pattern forming method.例文帳に追加

レンズに対して等しい位置に、密着性や形状や耐光無黄変性に優れた遮光パターンを形成するのに好適な、感光性樹脂組成物および遮光パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The cleaning liquid composition used for post treatment cleaning of the pattern etching of the insulation film contains at least one kind of fluorine compound, glyoxylic acid, at least one kind of organic acidic salt, and water.例文帳に追加

絶縁膜のパターンエッチングの後処理洗浄に用いられる洗浄液組成物であって、少なくとも１種のフッ素化合物と、グリオキシル酸と、少なくとも１種の有機酸塩と、水とを含有する。 - 特許庁

The support sheet is preferably constituted of a polyester resin sheet and the embossed pattern shaping layer is preferably constituted of a composition prepared by adding carbon black to cured matter of a mixture consisting of an aminoalkyd resin, a polyester resin and a melamine resin.例文帳に追加

支持体シートはポリエステル系樹脂シート、凹凸模様賦形層はアミノアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びメラミン樹脂の混合物の硬化物でカーボンブラックが添加されている構成等が好ましい。 - 特許庁

An image composition circuit 53 combines a mask image 57 for a test having a prescribed reference pattern 65 with the endoscope image 30a including a test chart image 35a to generate a mask composite image 67 for the test.例文帳に追加

画像合成回路５３は、テストチャート画像３５ａを含む内視鏡画像３０ａに所定の基準パターン６５を有するテスト用マスク画像５７を合成し、テスト用マスク合成画像６７を生成する。 - 特許庁

Mold cleaning materials 2 based on an unvulcanized rubbery composition are provided to one side or both sides of a base material sheet 1 comprising a plastic sheet in a predetermined pattern having air vent gaps in a protruded state.例文帳に追加

プラスチック製シートからなる基材シート１の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物を主成分とする金型クリーニング材料２が、エア抜き用空隙を有する所定のパターンに突設されている。 - 特許庁

To provide a solvent composition for pattern printing of a solar cell, an organic thin film transistor, electronic paper, or a plasma display, in which solubility of a resin additive, such as a binder resin, is high and hygroscopicity is low.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い太陽電池、有機薄膜トランジスター、電子ペーパー、又はプラズマディスプレイパターン印刷用溶剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with improved line edge roughness due to normal exposure and immersion exposure and excellent followability to water during immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a conductive paste which can form an excellent circuit pattern and does not cause a warp and a deformation in a board by controlling an Ag diffusion into a glass composition of a green sheet during calcination.例文帳に追加

焼成時におけるグリーンシートのガラス成分中へのＡｇ拡散を抑制することで、良好な回路パターンを形成し得ると共に基板に反りや変形をもたらさない導体ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a negative type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving pattern profile with superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition which is useful in producing electrical/electronic materials, can be subjected to i-line exposure and can provide a polyimide pattern having both of high heat and chemical resistances.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能であり、かつ高い耐熱性及び耐薬品性を併せ持ったポリイミドパターンを与えうる感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitively and resolving power in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device and generating few particles in a resist solution.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide technique for forming a resin layer which has superior flowability during heat adhesion and superior adhesive strength, after the pattern formation of a photosensitive thermosetting resin composition used for a permanent film.例文帳に追加

永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide an etching control device which enables real time automatic control of a composition of an etchant, as the etching control device for controlling an etching device for etching a printed circuit board etc., subjected to pattern resist.例文帳に追加

パターンレジストされたプリント配線基板等をエッチングするエッチング装置を制御するエッチング制御装置において、エッチング液の組成のリアルタイム自動制御を可能にしたエッチング制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition having heat resistance and exhibiting good pattern forming accuracy by a photographic process when a resin layer is formed, and also to provide a solder resist using the same.例文帳に追加

樹脂層を形成した際に、耐熱性を有し、写真法によりパターン形成精度が良好で、しかも、アルカリによる現像が可能な感光性樹脂組成物およびそれを用いたソルダーレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which effectively responds to a radiation of ≤200 nm wavelength, has high transparency to the radiation, is free of pattern falling, and has excellent resolution.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の放射線に有効に感応し、放射線に対する透明性が高く、かつパターン倒れが起きず、しかも解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for screen printing, with which bleeding at the time of screen printing is suppressed, which is excellent in a leveling property and transferability, and with which a fine aperture pattern is printable without performing any photolithography step.例文帳に追加

スクリーン印刷時のニジミを抑制でき、レベリング性及び転写性に優れると共に、フォトリソ工程を行わずに微細開孔パターンを印刷可能なスクリーン印刷用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition and a resist pattern forming method, reducing the quantity of coating liquid and improving uniformity of film thickness of a resist film in coating on a support.例文帳に追加

支持体上に塗布した際、塗布液量を少なくすることができると共に、レジスト膜の膜厚の均一性を向上させることができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having such resist characteristics that a line-and-space (1:1) with a pattern process accuracy of ≤90 nm can be achieved with a satisfactory shape in the lithographic process for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路のリソグラフィーによるパターン加工精度として９０ｎｍ以下のライン・アンド・スペース（１：１）を良好な形状で達成可能なレジスト特性を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition comprising a pigment multimer, which is capable of forming a cured film having excellent color purity, light resistance, heat resistance and solvent resistance, as well as reduced color migration and good pattern formation properties.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る、色素多量体を用いてなる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (A) a resin having a repeating unit of a specific group, whose solubility in an alkaline developer increases by the action of an acid, and the method is disclosed for forming a pattern using the same.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which the line widths and straightness of patterns and the height of each pattern are easily adjusted, and which is excellent in transmission and suitable particularly for forming an OCL of a color filter.例文帳に追加

パターンの線幅、直進性および各パターンの高さなどの調節が容易であり、同時に透過度に優れてカラーフィルターのＯＣＬ形成用に特に適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When a film comprising the nonvolatile components of the colored photosensitive resin composition is disposed on a substrate, exposed and developed to form a colored pattern, the objective color filter is produced.例文帳に追加

基体上に、この着色感光性樹脂組成物の不揮発成分からなる被膜を設け、該被膜を露光したのち現像して、着色パターンを形成することにより、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁

To provide a water-borne coating composition capable of readily presenting a design (a color pattern) by a usually used coating means on a building material, a wooden part or the like generally used in the interior.例文帳に追加

一般に内装に使用されている建材や木部等に、水系で且つ、通常用いられている塗装手段で簡単に意匠性（色彩模様）を演出できる塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern structure and a protective film, having high sensitivity, excellent shelf life in a liquid state, excellent age-based stability of a photosensitive film after deposition.例文帳に追加

感度が高く、液状態での保存性に優れ、かつ成膜後の感光性膜の経時安定性に優れる、パターン構造物や保護膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a permanent resist excellent in storage stability and high temperature moisture resistance, and a photosensitive film for a permanent resist, a method for forming a resist pattern, and a printed wiring board.例文帳に追加

保存安定性及び高温耐湿性に優れる永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide a nanoimprinting curable composition which is suitable for spin or slit coating, enables formation of a microscopic pattern, achieves high adhesiveness to a substrate after photocuring and facilitates peeling of a resist.例文帳に追加

スピン塗布やスリット塗布に適していて、微細なパターン形成が可能であり、光硬化後の基板に対する密着性が高くて、レジストの剥離が容易であるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The stripping liquid composition has economic advantage because a color filter substrate mostly discarded because of difficulty of removing a color resist pattern can be reused to significantly improve the production yield.例文帳に追加

本発明の剥離液組成物はカラーレジストパターンの除去が困難でほとんど廃棄されたカラーフィルター基板を再使用して生産収率を大きく向上させることができるので経済的である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved by overcoming the problem of development defects, provided with a superior in-plane uniformity of line width, and also superior in LWR performance, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in formation of a fine pattern even if a light shielding pigment is added at high concentration, and which is suitable for use as a black matrix material for a high light shielding or high definition color filter.例文帳に追加

高濃度の遮光性顔料を添加しても微細パターンの形成に優れ、高遮光又は高精彩カラーフィルター用のブラックマトリックス材料に好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for clearly decorating a fine letter or pattern like one branded with a red-hot iron in the form of a concave groove in black onto the surface of a molded article formed of a thermoplastic resin composition and to provide a decorated molded article.例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物からなる成形体の表面に焼印風の微細な文字、模様を凹溝状に黒く鮮明に加飾する方法及び加飾された成形体を目的とする。 - 特許庁

When a photoresist composition to which a crosslinker of formula (1) or (2) has been added is used, the flow characteristics of a resist are improved and the resolution and contrast of an L/S pattern can be enhanced.例文帳に追加

下記化学式（１）又は化学式（２）の架橋剤を添加したフォトレジスト組成物を用いれば、レジストフロー特性を改善させてＬ／Ｓパターンの解像度及び対照比を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a permanent resist having superior shelf stability and high temperature humidity resistance, a photosensitive film for the permanent resist, a forming method of a resist pattern, and to provide a printed wiring board.例文帳に追加

保存安定性及び高温耐湿性に優れる永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a cured resin layer having good adhesion to a support, and capable of forming a pattern of a desired profile by preventing the increase of line width due to storage over time.例文帳に追加

支持体への密着性が良好な硬化樹脂層を形成可能で、保管経時による線幅太りを防止して所望形状のパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a compound used for photosensitive compositions which have high resolution and improved edge roughness and can be developed with alkali, to provide a photosensitive composition using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive colored composition having high sensitivity and high film retention and excellent in pattern profile, even in the case of a high dye content or a large film thickness, and a color filter using the same.例文帳に追加

色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度で残膜率が高く、且つパタ−ン形状が優れた感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of occurrence of film defects even in the case of a thick film, excellent in heat resistance, mechanical characteristics, workability and electrical properties, and capable of forming a high resolution circuit pattern.例文帳に追加

厚膜でも塗膜欠陥が発生せず、耐熱性、機械特性、加工性および電気特性に優れ、かつ高解像回路パターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive macromolecular resin capable of forming a thin circuit pattern even under an exposure light source having a short wavelength because of the excellent resolution; and to provide a chemical amplification-type photoresist composition including the resin.例文帳に追加

解像度に優れるため、短波長の露光源下においても、細い回路パターンを形成できる感光性高分子樹脂、及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物を開示する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a satisfactory profile by not only ordinary exposure but liquid immersion exposure and having wide exposure latitude, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光のみならず液浸露光によっても、良好なプロファイルを形成でき、広い露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide resin composition which has excellent sensitivity in i-ray (365 nm) exposure and a high-resolution, with which the development in alkali water solution can be performed and which can form a good relief pattern.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）露光で感度がよく、高解像度であり、アルカリ水溶液現像が可能で、良好なレリーフパターンが形成できるポジ型感光性ポリイリミド樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of forming a high resolution pattern without an additional heating process, a method of patterning a thin film using the same, and a method of manufacturing a liquid crystal display panel using the same.例文帳に追加

別途の加熱工程を経ずに高解像度のパターンを形成できるフォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法、及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁