「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

The cleaning liquid composition used for post treatment cleaning of the pattern etching of the insulation film contains at least one kind of fluorine compound, glyoxylic acid, at least one kind of organic acidic salt, and water.例文帳に追加

絶縁膜のパターンエッチングの後処理洗浄に用いられる洗浄液組成物であって、少なくとも１種のフッ素化合物と、グリオキシル酸と、少なくとも１種の有機酸塩と、水とを含有する。 - 特許庁

The support sheet is preferably constituted of a polyester resin sheet and the embossed pattern shaping layer is preferably constituted of a composition prepared by adding carbon black to cured matter of a mixture consisting of an aminoalkyd resin, a polyester resin and a melamine resin.例文帳に追加

支持体シートはポリエステル系樹脂シート、凹凸模様賦形層はアミノアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びメラミン樹脂の混合物の硬化物でカーボンブラックが添加されている構成等が好ましい。 - 特許庁

An image composition circuit 53 combines a mask image 57 for a test having a prescribed reference pattern 65 with the endoscope image 30a including a test chart image 35a to generate a mask composite image 67 for the test.例文帳に追加

画像合成回路５３は、テストチャート画像３５ａを含む内視鏡画像３０ａに所定の基準パターン６５を有するテスト用マスク画像５７を合成し、テスト用マスク合成画像６７を生成する。 - 特許庁

Mold cleaning materials 2 based on an unvulcanized rubbery composition are provided to one side or both sides of a base material sheet 1 comprising a plastic sheet in a predetermined pattern having air vent gaps in a protruded state.例文帳に追加

プラスチック製シートからなる基材シート１の片面もしくは両面に、未加硫ゴム系組成物を主成分とする金型クリーニング材料２が、エア抜き用空隙を有する所定のパターンに突設されている。 - 特許庁

To provide a light-sensitive polymer composition capable of improving adhesion to a substrate without reducing sensitivity, resolution, heat resistance and chemical resistance, while maintaining a pattern of good shape.例文帳に追加

感度、解像度、耐熱性及び耐薬品性を低下させず、良好な形状のパターンを維持したまま、基板との密着性を向上することが出来る感光性重合体組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a satisfactory profile by not only ordinary exposure but liquid immersion exposure and having wide exposure latitude, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光のみならず液浸露光によっても、良好なプロファイルを形成でき、広い露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which effectively responds to a radiation of ≤200 nm wavelength, has high transparency to the radiation, is free of pattern falling, and has excellent resolution.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の放射線に有効に感応し、放射線に対する透明性が高く、かつパターン倒れが起きず、しかも解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of occurrence of film defects even in the case of a thick film, excellent in heat resistance, mechanical characteristics, workability and electrical properties, and capable of forming a high resolution circuit pattern.例文帳に追加

厚膜でも塗膜欠陥が発生せず、耐熱性、機械特性、加工性および電気特性に優れ、かつ高解像回路パターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which, even with a high pigment concentration, has good developer solubility of an unexposed part and good adhesion to a substrate, produces less development residue, and obtains a pattern of a forward tapered shape.例文帳に追加

顔料濃度が高くても、未露光部の現像液溶解性が良好で、基板密着性、現像残渣が良好で、順テーパ形状のパターンを得られる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a compound used for photosensitive compositions which have high resolution and improved edge roughness and can be developed with alkali, to provide a photosensitive composition using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive colored composition having high sensitivity and high film retention and excellent in pattern profile, even in the case of a high dye content or a large film thickness, and a color filter using the same.例文帳に追加

色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度で残膜率が高く、且つパタ−ン形状が優れた感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

The photocurable resin composition is coated on a transparent electrode of the front glass substrate, exposed to form a predetermined pattern, developed and baked to form underlayer (black layer) electrode circuit of PDP.例文帳に追加

このような光硬化性樹脂組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの下層（黒層）電極回路が形成される。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of forming a high resolution pattern without an additional heating process, a method of patterning a thin film using the same, and a method of manufacturing a liquid crystal display panel using the same.例文帳に追加

別途の加熱工程を経ずに高解像度のパターンを形成できるフォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法、及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste which can form an excellent circuit pattern and does not cause a warp and a deformation in a board by controlling an Ag diffusion into a glass composition of a green sheet during calcination.例文帳に追加

焼成時におけるグリーンシートのガラス成分中へのＡｇ拡散を抑制することで、良好な回路パターンを形成し得ると共に基板に反りや変形をもたらさない導体ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a negative type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving pattern profile with superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a solvent composition for pattern printing of a solar cell, an organic thin film transistor, electronic paper, or a plasma display, in which solubility of a resin additive, such as a binder resin, is high and hygroscopicity is low.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い太陽電池、有機薄膜トランジスター、電子ペーパー、又はプラズマディスプレイパターン印刷用溶剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with improved line edge roughness due to normal exposure and immersion exposure and excellent followability to water during immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide technique for forming a resin layer which has superior flowability during heat adhesion and superior adhesive strength, after the pattern formation of a photosensitive thermosetting resin composition used for a permanent film.例文帳に追加

永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide an etching control device which enables real time automatic control of a composition of an etchant, as the etching control device for controlling an etching device for etching a printed circuit board etc., subjected to pattern resist.例文帳に追加

パターンレジストされたプリント配線基板等をエッチングするエッチング装置を制御するエッチング制御装置において、エッチング液の組成のリアルタイム自動制御を可能にしたエッチング制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition having heat resistance and exhibiting good pattern forming accuracy by a photographic process when a resin layer is formed, and also to provide a solder resist using the same.例文帳に追加

樹脂層を形成した際に、耐熱性を有し、写真法によりパターン形成精度が良好で、しかも、アルカリによる現像が可能な感光性樹脂組成物およびそれを用いたソルダーレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive macromolecular resin capable of forming a thin circuit pattern even under an exposure light source having a short wavelength because of the excellent resolution; and to provide a chemical amplification-type photoresist composition including the resin.例文帳に追加

解像度に優れるため、短波長の露光源下においても、細い回路パターンを形成できる感光性高分子樹脂、及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物を開示する。 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR COPOLYMER, VARNISH CONTAINING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYIMIDE COPOLYMER, SEMICONDUCTOR ELEMENT PROTECTIVE FILM CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN OF POLYIMIDE COPOLYMER CONTAINING FILM例文帳に追加

ポリイミド前駆体共重合体、それを含むワニスおよびポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド共重合体、それを含む半導体素子の保護膜、ポリイミド共重合体含有膜の微細パターンの製造方法 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint, which has efficient curability and excellent stability in storage with a lapse of time, especially excellent stability in storage with a lapse of time in a viewpoint of suppressing reduction in pattern accuracy after curing.例文帳に追加

硬化性が良好であり、経時保存安定性に優れ、特に硬化後のパターン精度低下抑制の観点で経時保存安定性に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which can prevent production of a defect in a substrate even when the resist film is made thinner in forming a fine pattern of a semiconductor substrate or the like and by which high accuracy processing of a substrate is performed.例文帳に追加

半導体基板等の微細パタン形成において、レジスト膜の薄膜化を一層進めても、基板の欠陥形成を防止でき、高精度に基板加工できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide: a photosensitive resin composition having excellent developability and not causing incomplete development; a photosensitive element using it; a method for manufacturing a resist pattern; and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

現像残りを生じさせない優れた現像性を有する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain an energy ray-sensitive resin composition which realizes a fine pattern excellent in developability, photosensitivity, adhesiveness, pencil hardness, and in resistance to acid, heat, and gold plating, and a cured material made of the same.例文帳に追加

現像性、光感度、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性、耐金メッキ性等に優れたファインパターンが得られるエネルギー線感応性樹脂組成物並びにその硬化物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic performances required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape and free of occurrence and increase of foreign matter in resist storage.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、レジスト保管時に異物の発生、増加が起こらない。 - 特許庁

To provide a colored alkali-developable photosensitive resin composition which, even with improved color purity and light shielding property, avoids degradation in pattern shape and achieves higher definition, and a color filter using the same.例文帳に追加

色純度及び遮光性を向上させても、パターン形状の悪化や高精細化が可能な着色アルカリ現像型感光性組成物、ならびにそれを用いたカラーフィルタを提供することにある。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition capable of forming a thinner resist film and excellent in dry etching resistance, resolution and cross sectional form of a resist pattern.例文帳に追加

本発明は、レジスト膜厚の薄膜化にも対応可能な、耐ドライエッチング性、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint which has superior pattern transfer precision, mechanical characteristics (elasticity recovery rate) of a cured film, and hardness of a cured body, a cured body using the same and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved by overcoming the problem of development defects, provided with a superior in-plane uniformity of line width, and also superior in LWR performance, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in formation of a fine pattern even if a light shielding pigment is added at high concentration, and which is suitable for use as a black matrix material for a high light shielding or high definition color filter.例文帳に追加

高濃度の遮光性顔料を添加しても微細パターンの形成に優れ、高遮光又は高精彩カラーフィルター用のブラックマトリックス材料に好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for clearly decorating a fine letter or pattern like one branded with a red-hot iron in the form of a concave groove in black onto the surface of a molded article formed of a thermoplastic resin composition and to provide a decorated molded article.例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物からなる成形体の表面に焼印風の微細な文字、模様を凹溝状に黒く鮮明に加飾する方法及び加飾された成形体を目的とする。 - 特許庁

To provide a resin composition for screen printing, with which bleeding at the time of screen printing is suppressed, which is excellent in a leveling property and transferability, and with which a fine aperture pattern is printable without performing any photolithography step.例文帳に追加

スクリーン印刷時のニジミを抑制でき、レベリング性及び転写性に優れると共に、フォトリソ工程を行わずに微細開孔パターンを印刷可能なスクリーン印刷用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (A) a resin having a repeating unit of a specific group, whose solubility in an alkaline developer increases by the action of an acid, and the method is disclosed for forming a pattern using the same.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which the line widths and straightness of patterns and the height of each pattern are easily adjusted, and which is excellent in transmission and suitable particularly for forming an OCL of a color filter.例文帳に追加

パターンの線幅、直進性および各パターンの高さなどの調節が容易であり、同時に透過度に優れてカラーフィルターのＯＣＬ形成用に特に適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good suitability to coating and good storage stability and for forming a film having excellent transparency, heat resistance, developability, and flatness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れた被膜が形成できる上に、塗布性、保存安定性がよい感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transpar ency to a radiation, ensuring few development defects and excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に現像欠陥が極めて少なく、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern material and additives such as a filler, a curing agent or the like are compounded with a thermosetting resin to prepare a resin composition which is, in turn, molded and cured to manufacture the artificial marble.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に柄材と、充填剤や硬化剤などの添加剤を配合して樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を成形硬化させることによって人造大理石を製造する。 - 特許庁

To provide a resist composition and a resist pattern forming method, reducing the quantity of coating liquid and improving uniformity of film thickness of a resist film in coating on a support.例文帳に追加

支持体上に塗布した際、塗布液量を少なくすることができると共に、レジスト膜の膜厚の均一性を向上させることができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a colored curable composition comprising a pigment multimer, which is capable of forming a cured film having excellent color purity, light resistance, heat resistance and solvent resistance, as well as reduced color migration and good pattern formation properties.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る、色素多量体を用いてなる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having such resist characteristics that a line-and-space (1:1) with a pattern process accuracy of ≤90 nm can be achieved with a satisfactory shape in the lithographic process for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路のリソグラフィーによるパターン加工精度として９０ｎｍ以下のライン・アンド・スペース（１：１）を良好な形状で達成可能なレジスト特性を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When a film comprising the nonvolatile components of the colored photosensitive resin composition is disposed on a substrate, exposed and developed to form a colored pattern, the objective color filter is produced.例文帳に追加

基体上に、この着色感光性樹脂組成物の不揮発成分からなる被膜を設け、該被膜を露光したのち現像して、着色パターンを形成することにより、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁