「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive composition capable of solvent coating even if an aqueous dispersion of a pigment is used as a material, excellent in dispersion stability of the pigment, in properties of forming a pattern such as a black matrix (alkali developability and pattern profile), and in surface condition and solvent resistance of an obtained pattern, and having a high concentration as a black photosensitive material.例文帳に追加

顔料の水性分散液を原料として用いても溶剤系塗布が可能であり、顔料の分散安定性、ブラックマトリックス等のパターン形成性（アルカリ現像性、パターン形状）、得られたパターンの面状及び得られたパターンの耐溶剤性に優れ、黒色感材として高濃度な感光性組成物及びそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having superior photosensitive characteristics and shelf stability, high resolution and good process stability, a sensitive material having high resolution and good process stability, a method for producing a relief pattern capable of giving a polymide pattern, etc., of a good shape having superior heat resistance, adhesion and chemical resistance and a method for producing a polyimide pattern.例文帳に追加

本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びなポリイミドパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To obtain a polymerizable composition for a color filter which can suppress illuminance dependence upon forming a colored pattern even when exposure apparatus having different levels of illuminance are used, which exhibits superior curing property of a formed colored pattern, and which can give a rectangular pattern with superior resolution, and to provide a color filter showing good color separation and a solid-state image sensor having high resolution.例文帳に追加

着色パターンを形成するに際して、照度の異なる露光機を用いても照度依存性を抑制することができ、形成された着色パターンの硬化性に優れ、解像度の優れた矩形のパターンを得ることができるカラーフィルタ用の重合性組成物を得ることであり、色分離性が良好なカラーフィルタ、及び高解像度の固体撮像素子を得る。 - 特許庁

To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.例文帳に追加

フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having superior photosensitive characteristics and storage stability, high resolution and good process stability and a photosensitive material having high resolution and good process stability and to provide a method for producing a relief pattern and a method for producing a polyimide pattern by which a polyimide pattern of a good shape having superior heat resistance, adhesion and chemical resistance can be given.例文帳に追加

本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

This method for producing a member for the display panel comprises a step of transferring the resin layer on a substrate from the transfer film having the resin layer composed of the resin composition containing the inorganic powder, a step of forming a latent image of a pattern by exposure of the resin layer, a step of forming the pattern by developing the resin layer and a step of burning the pattern.例文帳に追加

本発明に係るディスプレイパネル用部材の製造方法は、上記無機粉体含有樹脂組成物からなる樹脂層を有する転写フィルムを用いて該樹脂層を基板上に転写する工程、該樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Since a layer 10 being formed when the quantity of a liquid composition being ejected by single scan is uniform has a raised central part, a thin part at the end part of the liquid composition becoming the boundary of scanning area causes unevenness or gloss or an interference pattern.例文帳に追加

一回の走査で吐出する液体組成物を一様の吐出量としたときに形成される層１０は、中央部が盛り上がった形状となるため、液体組成物各走査領域の境界となる端部の厚みの少ない部分が光沢ムラや干渉縞の原因となる。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern precision and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayer dielectric or the like for a printed wiring board and an IC package and to provide a sensitive film using the resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

The calculation unit calculates a statistic of pixel values included in a specific area in a first image of time-series images, and in each composition indicating a prepared depth structure pattern, calculates a first evaluation value for selecting a composition matching the first image based on the statistic.例文帳に追加

算出部は、時系列の画像のうち第１画像内の特定領域に含まれる画素値の統計量を算出し、予め用意された奥行き構造パターンを示す構図毎に、前記第１画像と適合する構図を選択するための第１の評価値を前記統計量に基づいて算出する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition having high sensitivity even when a coloring material is incorporated at a high concentration, and to provide a high quality color filter in which colored pixels formed using the colored photosensitive resin composition are excellent in surface smoothness, pattern shape and lightness.例文帳に追加

着色材料を高濃度で含有しても高感度の着色感光性樹脂組成物、ならびに前記の着色感光性樹脂組成物を用いて形成した着色画素が表面平滑性、パターン形状および明度に優れた高品質のカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

The cured coating film is formed by producing a composition comprising a heat-resistant resin precursor and a compound containing a carboxylic acid anhydride group and an alkoxysilyl group in one molecule, applying the composition to a substrate, drying the coating film, heating the coating film or a coating film obtained by subjecting the coating film to pattern processing to form the cured coating film.例文帳に追加

耐熱性樹脂前駆体並びに１分子中にカルボン酸無水物基とアルコキシシリル基有する化合物を含有する組成物を製造し、それを基板上に塗布、乾燥した後、その被膜又はその被膜をパターン加工した被膜を、加熱し硬化被膜を形成する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition having excellent compatibility with an ink repelling agent, having a favorable surface appearance and pattern shape and excellent surface ink repelling property after the film of the composition is formed, and capable of maintaining the surface ink repelling property even when the film is subjected to normal cleaning or the time elapses.例文帳に追加

撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるアルカリ現像感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent in non-defectiveness, and to provide a polymer usable as a resin component in the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of preventing generation of ruggedness on the surface including the skirt of an organic film pattern having mountain structure, in a liquid crystal display device, to provide a method for producing a thin layer transistor substrate using the composition, and to provide a method for producing a common electrode substrate.例文帳に追加

液晶表示装置において、山構造を有する有機膜パターンの裾部を含む表面における凹凸の発生を防止できるような、感光性樹脂組成物と、これを用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び共通電極基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition of which the flame retardancy can be maintained without using a halogen-based flame retardant, and moreover, which has excellent resolution, electrolytic corrosion resistance and storage stability, and to provide a photosensitive film using the composition, a method for forming a resist pattern, a printed wiring board and its manufacturing method.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに難燃性を確保することができ、更に、解像性、耐電食性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

When a two-layer organic film of a positive type photosensitive resin composition and a positive type photoresist is processed, the positive type photosensitive resin composition is applied and dried on a substrate, the positive type photoresist is further applied and dried and the resulting two-layer organic film is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物とポジ型フォトレジストの２層有機膜であり、ポジ型感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥後、更に、その上にポジ型フォトレジストを塗布、乾燥させた後、露光、現像することによりパターンを形成する方法である。 - 特許庁

To obtain a polymer for a resist, having small line edge roughness and slightly forming microgel and defects when used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, etc., and a resist composition and to provide a method for pattern production using the resist composition.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、ラインエッジラフネスが小さく、マイクロゲル及びディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable imide monomer excellent in adhesiveness to a substrate, photocurability, and heat resistance after being cured, and less in film shrinkage after hot curing, and to provide a method for production thereof, a photocuring composition, a pattern production method using the composition and an electronic component.例文帳に追加

基材に対する接着性に優れると共に、光硬化性及び硬化後の耐熱性に優れ、また熱硬化後における塗膜収縮の小さい重合性イミド単量体、その製造法及び光硬化性組成物、これを用いたパターンの製造法並びに電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor( polyamic acid ) to be used for producing a specific polyimide, high in convenience and enabling finer and more accurate pattern formation, to provide a composition containing the precursor, and to provide a method for producing a product intermediate using the precursor or the composition.例文帳に追加

特定のポリイミドを製造するために用いられるものであって、利便性が高く、より微細で正確なパターン形成が可能となり得るポリイミド前駆体（ポリアミック酸）および当該前駆体を含む組成物、並びにこれらを利用する製品中間体製造方法を提供する。 - 特許庁

The artificial marble resin composition comprises a thermosetting resin and additives such as a filler, pattern materials, an internal release agent, and a curing agent and is used in producing the artificial marble molded article by casting the resin composition to a casting mold to effect molding and curing.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填材、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合して得られる樹脂組成物で、これを注型用金型に注入して成形硬化させることにより人造大理石成形品を製造するのに用いる人造大理石用の樹脂組成物である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which exhibits excellent temporal stability while having quenching function, and in particular, which can prevent occurrence of sensitivity abnormality (variation from a predetermined sensitivity) due to temporal change in storage, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

クエンチング機能を有しつつ、組成物の経時安定性が良好であり、とりわけ、保管中の経時変化による感度異常（所定の感度よりの変化）を防止することのできる感光性樹脂組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having sufficient follow-up property and a tenting reliability, excellent edge fusing property, favorable resolution, adhesion property and release characteristics, to provide a photosensitive resin layered body by using the above composition, and to provide a method of making a resist pattern by using the body.例文帳に追加

十分な追従性とテント信頼性を有し、かつエッジフューズ性に優れ、また良好な解像性と密着性、剥離特性を兼ね備える感光性樹脂組成物、それを用いた感光性樹脂積層体、及びそれを用いたレジストパターンの作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a coloring agent-containing hardening composition having high sensitivity, high transmittance, high resolution, wide development latitude, excellent in solvent resistance, light resistance, heat resistance and pattern forming property (developing property), free from elution of a dye, excellent in liquid storage property when it is prepared as a liquid composition, and having high productivity.例文帳に追加

高感度、高透過率、高解像力、広い現像ラチチュードを有し、耐溶剤性、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）に優れ、しかも染料の溶出がなく、液状組成としたときの液保存性に優れ、生産性の高い着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution and adhesion and can be developed with an alkaline aqueous solution, to provided a photosensitive resin laminate that uses photosensitive resin composition, and to provide a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate.例文帳に追加

感度、解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive color composition that can form a filter segment and a black matrix excellent in a pattern shape and chemical resistance without peeling or crimps on a coating film cured by a laser irradiation with a wavelength between 310 and 380 nm, and a color filter using the photosensitive color composition.例文帳に追加

波長３１０〜３８０ｎｍのレーザ照射により硬化した塗膜について、表面剥がれ、表面シワの発生がなく、パターン形状および耐薬品性にも優れたフィルタセグメントおよびブラックマトリックスを形成可能な感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

Simultaneously with or after the direct drawing of a solder resist pattern on a printed wiring board with an inkjet printer by using the composition, the composition is cured by an active energy ray irradiation, or heating, or an active energy ray irradiation followed by heating or by the second active energy ray irradiation.例文帳に追加

該組成物を用い、インクジェットプリンターでソルダーレジストパターンをプリント配線基板に直接描画すると同時に又は描画した後に、活性エネルギー線照射、もしくは加熱、又は活性エネルギー線照射後に加熱もしくは再度活性エネルギー線を照射して硬化させる。 - 特許庁

The coater includes every coating apparatus intended to coat a moving web with a coating composition, and comprises an apparatus forming the uncoated pattern on a coating surface by making the coating surface of the coating composition coated by the coating apparatus contact with a deformable coil.例文帳に追加

移動しているウェブ上へコーティング組成物を塗工することを目的としたあらゆる塗工装置包含し、その塗工装置にて塗工されたコーティング組成物を、変形自在なコイルを用い、コーティング面に接触させることにより、コーティング面に未塗工パターンを設ける装置を含有する塗工機。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is characterized in that it contains (a) a copolymer containing structural units of a radical polymerizable compound and an alicyclic epoxy-containing polymerizable unsaturated compound as essential components and (b) a quinonediazido-containing compound, and also the method of forming a pattern using the composition is provided.例文帳に追加

（ａ）ラジカル重合性化合物と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構造単位を必須成分として含む共重合体及び（ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。 - 特許庁

"Industrial Design" means any composition of lines or colours or any three dimensional form whether or not associated with lines or colours, provided that such composition or form gives a special appearance to a product of industry or handicraft and can serve as a pattern for a product of industry or handicraft. 例文帳に追加

「意匠」とは、線又は色彩の組合せ、若しくは線又は色彩と組み合わせられるか否かを問わず三次元の形態を意味する。ただし、これらの組合せ及び形態が産業製品又は工芸品に特別な外観を与え、かつ産業製品又は工芸品の模様となる場合に限る。 - 特許庁

To prepare a sheet semiconductor sealing resin composition which is suitably used in flip chip packaging, maintains a pattern recognizable transmission, can obtain excellent workability, and brings about excellent electrical connection reliability after resin sealing, and to provide a semiconductor device resin-sealed by using the composition.例文帳に追加

フリップチップ実装に好適に使用される、パターン認識可能な透過率を保持し、優れた作業性が得られ、樹脂封止後の優れた電気接続信頼性をもたらすシート状半導体封止用樹脂組成物、ならびに該組成物を用いて樹脂封止された半導体装置を提供すること - 特許庁

This photocurable composition containing an epoxy resin (A) represented by general formula (1), multifunctional (meth)acrylate (B) having an isocyanuric ring, a maleimide copolymer (C), and a photopolymerization initiator (D) is used, and a pattern-shaped cured film acquired from the photocurable composition is formed on a proper place of the electronic component.例文帳に追加

一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（Ａ）、イソシアヌル環を有する多官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、マレイミド共重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）とを含有する光硬化性組成物を用い、この光硬化性組成物から得られるパターン状硬化膜を電子部品の適所に形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light, and to provide a positive resist composition having high inhibition and a high dissolution contrast and excellent in sensitivity and resolving power, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光の露光光源の使用に好適なレジスト組成物を提供することであり、高インヒビションで溶解コントラストが大きく、なお且つ感度・解像力に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition from which a colored cured film having high curing sensitivity, good developability, excellent heat resistance and desired hue can be formed, and to provide a method for forming a pattern, a method for manufacturing a color filter and a color filter using the above composition, and a display element including the color filter.例文帳に追加

硬化感度が高く、現像性が良好で、優れた耐熱性と所望の色相とを有する着色硬化膜を形成しうる着色感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及びカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた表示素子を提供する。 - 特許庁

The resin composition for an artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, an inner releasing agent, a hardening agent, a patterning material c which expresses an artificial marble pattern, or the like into a thermosetting resin, wherein it is characterized in that micro balloons a and thermal-expansible microcapsules b are added and compounded in combination into the resin composition.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、内部離型剤、硬化剤、人造大理石柄を表現する柄材ｃ等の添加物を配合して得られる人造大理石用樹脂組成物において、マイクロバルーンａと熱膨張性マイクロカプセルｂとを併用して添加配合したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resin composition having a small dielectric constant, excellent in pattern accuracy and adhesiveness to a substrate, capable of developing with water or a diluted alkaline solution, and suitable for forming a printed circuit board, a solder resist for IC package or a interlayer dielectric layer or the like, and a photosensitive film using the resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide a stable chemically amplifying photoresist composition which does not change its alkali solubility before irradiation with radiation, to provide a photoresist laminate produced by laminating the above photoresist composition on a supporting body, to provide a method for manufacturing a photoresist pattern by the above body, and to provide a method for manufacturing a connecting terminal.例文帳に追加

放射線照射前にアルカリ溶解性が変化することのない安定な化学増幅型ホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を支持体に積層させたホトレジスト層積層体、及びこれを用いたホトレジストパターンの製造方法、及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing the artifical marble by the cast molding of a resin compound 1 prepared by mixing a pattern material 3 with a resin composition 2 containing a thermosetting resin and a filler, the viscosity of the resin composition 2 at 30°C at the time of injection is 500,000-2,000,000 poise.例文帳に追加

熱硬化性樹脂、及び、充填材を含有する樹脂組成物２に柄材３を混合した樹脂コンパウンド１を注型成形する人造大理石の製造方法において、上記樹脂組成物２は、３０℃での粘度が５０万ポイズ〜２００万ポイズのものを注入する。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is applied on the interlayer insulation film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, the composition is dried and irradiated with light through a mask patterned so as to form a window 6C in a predetermined portion, and a pattern is formed by development with an alkaline aqueous solution.例文帳に追加

本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two-layer resist system.例文帳に追加

高感度であり、０．２μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This composition for nano imprint has a component comprising: a compound forming a ring composed of three catechol dielectrics; and a compound forming a ring composed of four resorcinol dielectrics, wherein these compounds are preferably blended in a range of 0.7 to 1.5 mole ratio and storing stability is improved, and the pattern forming method using the composition.例文帳に追加

カテコール誘導体３個からなる環を形成する化合物と、レゾルシノール誘導体４個からなる環を形成する化合物を成分とし、これらを好ましくはモル比で０．７〜１．５の範囲で混合した、保存安定性が改善されたナノインプリント用組成物およびそれを用いたパタン形成方法。 - 特許庁

To provide a copper conductor paste composition, a manufacturing method and electronic parts using the copper conductor paste composition dispensing with doping of oxygen and fine adjustment by allowing a baking method to be adopted in an inert atmosphere to form a conductor pattern or a terminal electrode on a ceramic board or a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

セラミック基板や、積層セラミックコンデンサーに導体パターンあるいは端子電極を形成するのに、不活性雰囲気下での焼成法が採用でき、酸素のドープ、微調節を不要とした銅導体ペースト組成物、その製造方法及びそれを用いてなる電子部品の提供。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized by subjecting a cured substance pattern (a coloring pixel film) of the coloring photosensitive composition on a substrate obtained by development to an organic solvent treatment, in the method for manufacturing the color filter based on a photolithography method using a coloring photosensitive composition.例文帳に追加

着色感光性組成物を使用したフォトリソグラフィー法によるカラーフィルターの製造方法において、現像により得られる基板上の着色感光性組成物の硬化物パターン（着色画素膜）に有機溶剤処理をすることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）特定のトリフェニルスルホニウム構造を有する繰り返し単位(a0)と、ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位(a1)とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁