「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition which has a high level of resolution, a good pattern shape and a satisfactory depth of focus, and at the same time, has no significant defects after the development and has excellent plasma etching resistance.例文帳に追加

高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To obtain a copolymer having an excellent focal depth margin and excellent line-end foreshortening resistance without impairing basic properties as a resist such as a pattern shape, dry-etching resistance, heat resistance, etc., and a radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なうことなく、焦点深度余裕に優れると共に、ラインエンドフォアショートニング耐性に優れる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having a sufficient effect on improvement of resolution and resist removing property, a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing printed wiring board.例文帳に追加

解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to easily compose especially an answer pattern and a message corresponding thereto in a correct-incorrect judging device of practice in foreign language composition, and a recording medium used therefor.例文帳に追加

外国語の作文練習の正誤判定装置、及びこれに用いる記録媒体に関し、特に解答パターン及びこれに対応するメッセージを簡便に作成することができる。 - 特許庁

The adapter device 2 can arrange an optical condition suitable for photographing of the random pattern by only being mounted on the portable device by the composition.例文帳に追加

本発明に係るアダプタ装置２は、これらの構成により、携帯端末装置に装着されるだけで、上記ランダムパターンの撮影に適した光学的条件を整えることができる。 - 特許庁

To provide: a salt excellent in exposing margin (EL) and mask error factor (MEF) when forming a resist pattern; an acid generator including the salt; and a resist composition including the acid generator.例文帳に追加

レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れる塩、この塩を含む酸発生剤、この酸発生剤を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in limit resolution, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect characteristics.例文帳に追加

限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、及びブリッジ欠陥特性に優れたパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition in which a bridge hardly occurs, substrate dependence is low and a pattern with high resolution can be formed, and a patterning process using the same.例文帳に追加

ブリッジが発生しにくく、また、基板依存性が小さく、解像性に優れたパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition film for forming a forward tapered or rectangular pattern with high resolution, and having excellent heat resistance, even if the film is thick.例文帳に追加

厚膜であっても、高解像度で、順テーパーまたは矩形状のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂組成物フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide radiation sensitive resin composition, giving a resin film having excellent contactness to various kinds of materials, high heat resistance, ITO electrode processability, and excellent pattern processability.例文帳に追加

種々の材料に対する密着性に優れ、高い耐熱性を有し、ＩＴＯ電極加工性、及びパターン加工性に優れた樹脂膜を与える感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali soluble resin containing cyclic silicone resin, which gives a photosensitive resin composition excellent in weather resistance, light resistance, heat resistance, etc., and can form a fine pattern.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性等に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を得ることができる、環状シリコーン樹脂を含んだアルカリ可溶性樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition suitable for ArF excimer laser lithography and good in properties such as resolution, sensitivity and a pattern form, and also line edge roughness, in particular.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、特に、ラインエッジラフネスが良好である化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition film allowing formation of a film having superior heat resistance, in which a high-resolution pattern can be formed without producing undercut at patterning.例文帳に追加

パターン加工時にアンダーカットが発生することなく、高解像度のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂組成物フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition that allows a pattern of high precision to be formed at low cost and has small thickness and high adhesive strength to a ceramic, silicon and glass substrate.例文帳に追加

安価で、高精細のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having not only excellent sensitivity and resolution but also large depth of focus and excellent pattern peel-off resistance even on a substrate with high reflectivity.例文帳に追加

感度、解像度が優れているだけでなく、焦点深度が広く、高反射率基板上でもパターン剥がれ耐性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a hard disk suspension protective film having a sufficiently low hygroscopic expansion coefficient, a method for producing a resist pattern using the same, and a hard disk suspension.例文帳に追加

吸湿膨張係数が十分に低いハードディスクサスペンション保護膜用の感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターンの製造法、及びハードディスクサスペンションを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in in-plane uniformity of film thickness when coating, and in storage stability, a method for manufacturing a cured relief pattern and a semiconductor device.例文帳に追加

コーティング時の膜厚の面内均一性が良好で保存安定性が良好な感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape, etc., and having small temperature dependence in heating after exposure.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a dipropylene glycol dialkyl ether into which a resin additive, such as a binder resin, is soluble with high solubility, which has low hygroscopicity, and which is suitable for a solvent composition for forming a pattern of an electronic parts.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い、電子部品パターン形成用溶剤組成物として好適なジプロピレングリコールジアルキルエーテルを提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having excellent characteristics in sensitivity, resolution, heat resistance, etc., in a lithography process when an electrode pattern of a semiconductor or a thin panel display is produced.例文帳に追加

半導体や薄型パネルディスプレイの電極パターンを製造する際のリソグラフィー工程において、感度、解像度、耐熱性など優れた特徴をもつフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This nonwoven material is produced by applying an adhesive composition 8 to one surface of a nonwoven material 3 such as a nonwoven fiber web or a plastic film in a constant pattern and then forming holes 9 in the nonwoven material 3.例文帳に追加

接着剤組成物８を、繊維不織ウェブ又はプラスチックフィルム等の不織物質３の一面に一定のパターンで適用し、次にこの不織物質３に孔９を開けて製造する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ETCHING RESIST, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチングレジスト用感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist having high transmittance of radiation and excelling in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターンプロファイル等に優れ、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having statisfying, at the same time, characteristics of sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness for the use of KrF excimer laser, electron beams and X rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

This decorative sheet is laminated with a base material, a pattern layer, and a surface protection layer containing a matting agent and a sodium calcium aluminosilicate particle in a curable type resin composition, in this order.例文帳に追加

化粧シートを、基材と、絵柄層と、硬化型樹脂組成物中にマット剤とソジウムカルシウムアルミノシリケート粒子を含有してなる表面保護層と、をこの順で積層して構成する。 - 特許庁

The optical article has a surface structure where a fine concavo-convex pattern is formed of a cured product of a photosetting resin composition essentially comprising the following epoxy acrylate resin.例文帳に追加

下記エポキシアクリレート樹脂を主成分とする光硬化性樹脂組成物の硬化物により微細凹凸パターンが形成された表面構造を備えることを特徴とする光学物品。 - 特許庁

To provide a paste composition, which is applicable to minute pattern processing based on photolithography, and using a dispersion medium having no acute toxicity, can obtain a transparent composite membrane with a high refractive index.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる微細パターン加工に対応でき、さらには急性毒性を有しない分散媒を用いて、高屈折率の透明複合膜が得られるペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radial ray-sensitive resist composition that has a high resolution and a high sensitivity and gives resist patterns having excellent pattern shapes and high etching resistance and a polymer to be used therefor.例文帳に追加

高解像性及び高感度を有し、パターン形状及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを与える放射線感応性レジスト組成物、及びそれに用いる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which does not cause gelation even when aluminum powder and a photosensitive component are mixed, and which forms an inexpensive, high-definition and low-resistance pattern.例文帳に追加

アルミニウム粉末と感光性成分とを混合してもゲル化を起こさず、安価で高精細かつ低抵抗なパターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern excellent in transparency particularly to radiation and property for dry etching and excellent further in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与える化学増幅型レジスト用組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れる化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving a pattern profile with superior rectangularity and excellent in PBD stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＢＤ安定性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new positive photoresist composition, capable of forming a resist pattern excellent in adhesion to a substrate in the production of a semiconductor device, LCD (thin film transistor) or the like.例文帳に追加

半導体デバイスやＬＣＤ（薄膜トランジスタ）などの製造における基板との密着性に優れたレジストパターンを形成することができる新規なポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition which has a good pebbly appearance and is excellent in impact strength and secondary workability while having a massive feeling and texture, and a pebbly pattern.例文帳に追加

良好な石目調外観を有し、かつ重量感、質感を持ちつつ、衝撃強度や二次加工性に優れた熱可塑性樹脂組成物と石目調模様を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polymer giving a resist pattern, which has good line width roughness while exhibiting high resolution in a lithography process, and a positive photoresist composition containing the polymer.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて解像度が高いながら、ライン幅ラフネスも良好なレジストパターンを与える重合体、及びこの重合体を含むポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Each of the pellet shaped rubber composition is plasticized by continuously feeding at a respective charging rate based on a changing pattern of the mixing ratio previously determined.例文帳に追加

ペレット状のそれぞれのゴム組成物を、予め定められた混合比の変化パターンに基づいたそれぞれの供給速度で連続供給してこれらのゴム組成物を可塑化する。 - 特許庁

To provide a photocurable composition excellent in sensitivity, temporal storage stability and adhesion and suitable for use as a solder resist or for direct pattern formation with ultraviolet to violaceous laser light.例文帳に追加

感度、経時保存安定性、密着性に優れソルダーレジスト用として、又、紫外から青紫色レーザー光による直接描画に好適な光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes a process of irradiating a coating film made of the above photosensitive resin composition patternwise with active rays and then developing and removing the irradiated portion with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、照射部をアルカリ水溶液で現像除去するレリーフパターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which can offer a resin film that is excellent in pattern formation performance by development, transparency, and heat resistance and that prevents the generation of outgas.例文帳に追加

現像によるパターン形成性、透明性、および耐熱性に優れ、かつ、アウトガスの発生が抑制された樹脂膜を与えることのできるネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition which substantially avoids discoloration and reflectance reduction of a white coating film thereof due to exposure to UV and heat history, and which enables to form a pattern at a small light exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in sensitivity, limit resolution, roughness properties, exposure latitude (EL), post exposure bake (PEB) temperature dependency and depth of focus (DOF), and a resist composition.例文帳に追加

感度、限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性、及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition sufficiently effective in improving resolution and resist removal characteristic, a photosensitive element, a method of forming a resist pattern, and a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide resin composition which has excellent positive photosensitive characteristics and good resolution in pattern formation, is less liable to warp because of relieved thermal stress, and is easily worked.例文帳に追加

ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、熱応力を緩和して反りの発生が少なく、加工性の容易な感光性ポリイミド樹脂組成物の提供。 - 特許庁