「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chemically amplified positive photoresist composition capable of giving a resist pattern improved in etching resistance, and excellent also in other resist properties such as sensitivity, resolution and line edge roughness.例文帳に追加

耐エッチング性が改善されたレジストパターンを与えることができ、かつその他のレジスト特性、例えば感度、解像度、ラインエッジラフネスも優れた化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The decorative glass substrate 3 is obtained by coating the coloring composition on a low expansive crystallized glass substrate as a low expansive substrate, and after that, by forming a pattern 1 by firing.例文帳に追加

上記着色組成物を低膨張ガラス基板としての低膨張結晶化ガラス基板２の表面に絵付けし，焼成して，模様１を形成してなる装飾ガラス基板３である。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has high exposure sensitivity to g- and h-lines, is excellent in removability by development, and forms a colored pattern with no variations in a line width.例文帳に追加

ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、且つ、現像除去性に優れ、線幅にバラつきのない着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape, etc., and having small temperature dependence in heating after exposure.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a dipropylene glycol dialkyl ether into which a resin additive, such as a binder resin, is soluble with high solubility, which has low hygroscopicity, and which is suitable for a solvent composition for forming a pattern of an electronic parts.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い、電子部品パターン形成用溶剤組成物として好適なジプロピレングリコールジアルキルエーテルを提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having excellent characteristics in sensitivity, resolution, heat resistance, etc., in a lithography process when an electrode pattern of a semiconductor or a thin panel display is produced.例文帳に追加

半導体や薄型パネルディスプレイの電極パターンを製造する際のリソグラフィー工程において、感度、解像度、耐熱性など優れた特徴をもつフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This nonwoven material is produced by applying an adhesive composition 8 to one surface of a nonwoven material 3 such as a nonwoven fiber web or a plastic film in a constant pattern and then forming holes 9 in the nonwoven material 3.例文帳に追加

接着剤組成物８を、繊維不織ウェブ又はプラスチックフィルム等の不織物質３の一面に一定のパターンで適用し、次にこの不織物質３に孔９を開けて製造する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ETCHING RESIST, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチングレジスト用感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist having high transmittance of radiation and excelling in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターンプロファイル等に優れ、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having statisfying, at the same time, characteristics of sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness for the use of KrF excimer laser, electron beams and X rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

This decorative sheet is laminated with a base material, a pattern layer, and a surface protection layer containing a matting agent and a sodium calcium aluminosilicate particle in a curable type resin composition, in this order.例文帳に追加

化粧シートを、基材と、絵柄層と、硬化型樹脂組成物中にマット剤とソジウムカルシウムアルミノシリケート粒子を含有してなる表面保護層と、をこの順で積層して構成する。 - 特許庁

The optical article has a surface structure where a fine concavo-convex pattern is formed of a cured product of a photosetting resin composition essentially comprising the following epoxy acrylate resin.例文帳に追加

下記エポキシアクリレート樹脂を主成分とする光硬化性樹脂組成物の硬化物により微細凹凸パターンが形成された表面構造を備えることを特徴とする光学物品。 - 特許庁

To provide a paste composition, which is applicable to minute pattern processing based on photolithography, and using a dispersion medium having no acute toxicity, can obtain a transparent composite membrane with a high refractive index.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる微細パターン加工に対応でき、さらには急性毒性を有しない分散媒を用いて、高屈折率の透明複合膜が得られるペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radial ray-sensitive resist composition that has a high resolution and a high sensitivity and gives resist patterns having excellent pattern shapes and high etching resistance and a polymer to be used therefor.例文帳に追加

高解像性及び高感度を有し、パターン形状及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを与える放射線感応性レジスト組成物、及びそれに用いる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition excellent in etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X-rays having high sensitivity, high resolution, a square pattern profile, excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which does not cause deterioration in adhesion to a substrate with time and enables a high-definition pattern having a low resistance value to be formed on a glass substrate.例文帳に追加

経時的に基板への密着性が低下することがなく、かつ抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供する - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition featuring a high resolution, reduced line edge roughness, and a minimized variation of line width with changing temperature, and a pattern forming process using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、温度変化に対しての線幅変動低減、また高解像性の化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming an optimum (fine) image for various electronic components by a relief reversal printing method.例文帳に追加

各種電子部品として所望される最適（微細）な画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

Further, the diffuse reflection layer with a reflectance gradient is also made by printing paint having a similar composition to the translucent substrate by controlling dot density of a dot pattern.例文帳に追加

また、同様組成の塗料をドットパターンのドット密度を制御して透光性基板に印刷することにより反射率の勾配を付与した拡散反射層として形成される。 - 特許庁

This composition for forming the conductive pattern contains conductive fine particles comprising at least one kind of metal and a dispersing agent dispersing the conductive fine particles in a dispersion medium.例文帳に追加

導電性パターン形成用組成物は、少なくとも１種の金属からなる導電性微粒子と、導電性微粒子を分散させる分散剤とを分散媒中に含有している。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition capable of reducing the discoloring of a white coating film, due to UV irradiation and a thermal history, and the lowering of reflectance, and forming a pattern with a low amount of exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射，熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

Then, by using an ashing gas, which is the gaseous mixture of O_2 and N_2 for which the composition rate of N_2 is 50% or higher, plasma ashing is performed at the substrate temperature of 200°C or higher, and the resist pattern 3 is peeled off.例文帳に追加

そして、Ｏ_2とＮ_2の混合ガスでありＮ_2の組成比が５０％以上であるアッシングガスを用い、基板温度を２００℃以上にしてプラズマアッシングを行い、レジストパターン３を剥離する。 - 特許庁

When the substance is gathered on a conductive pattern by a foreign substance removal probe, the foreign substance or the scraped residue of the foreign substance is subjected to composition analysis by Auger electron spectroscopy or secondary ion mass spectrometry.例文帳に追加

異物除去探針で導電性のパターン上に集めた場合にはオージェ電子分光または二次イオン質量分析法で異物または異物の削り滓を組成分析する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern excellent in transparency particularly to radiation and property for dry etching and excellent further in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与える化学増幅型レジスト用組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れる化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving a pattern profile with superior rectangularity and excellent in PBD stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＢＤ安定性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new positive photoresist composition, capable of forming a resist pattern excellent in adhesion to a substrate in the production of a semiconductor device, LCD (thin film transistor) or the like.例文帳に追加

半導体デバイスやＬＣＤ（薄膜トランジスタ）などの製造における基板との密着性に優れたレジストパターンを形成することができる新規なポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition which has a good pebbly appearance and is excellent in impact strength and secondary workability while having a massive feeling and texture, and a pebbly pattern.例文帳に追加

良好な石目調外観を有し、かつ重量感、質感を持ちつつ、衝撃強度や二次加工性に優れた熱可塑性樹脂組成物と石目調模様を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which does not cause gelation even when aluminum powder and a photosensitive component are mixed, and which forms an inexpensive, high-definition and low-resistance pattern.例文帳に追加

アルミニウム粉末と感光性成分とを混合してもゲル化を起こさず、安価で高精細かつ低抵抗なパターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable composition excellent in sensitivity, temporal storage stability and adhesion and suitable for use as a solder resist or for direct pattern formation with ultraviolet to violaceous laser light.例文帳に追加

感度、経時保存安定性、密着性に優れソルダーレジスト用として、又、紫外から青紫色レーザー光による直接描画に好適な光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes a process of irradiating a coating film made of the above photosensitive resin composition patternwise with active rays and then developing and removing the irradiated portion with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、照射部をアルカリ水溶液で現像除去するレリーフパターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which can offer a resin film that is excellent in pattern formation performance by development, transparency, and heat resistance and that prevents the generation of outgas.例文帳に追加

現像によるパターン形成性、透明性、および耐熱性に優れ、かつ、アウトガスの発生が抑制された樹脂膜を与えることのできるネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition improved in fluidity and coating stability, and a photoresist pattern forming method and a display substrate production method using the same.例文帳に追加

流動性及びコーティング安定性が向上した感光性樹脂組成物並びにこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as sensitivity, resolution, pattern shape and line edge roughness when KrF excimer laser light, an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes steps of applying and drying the above photosensitive polymer composition on a supporting substrate, exposing, developing, and heat treating it.例文帳に追加

前記感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程、加熱処理する工程を含むレリ−フパターンの製造法及び電子部品。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition suitable for use as an etching mask material, particularly a mask material for etching gold, excellent in resolution during pattern formation and also in etching properties.例文帳に追加

パターン形成時の解像度に優れ、しかもエッチング性に優れる、エッチング用マスク材、特に金エッチング用マスク材として好適なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

NEW OXIME ESTER COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR CONTAINING THE SAME, POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE RESIST BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING IMAGE PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法 - 特許庁

The photosensitive polyimide precursor composition contains a polyimide precursor (A), a photopolymerization initiator (B) and a plasticizer (C) and the pattern forming method and the electronic component using the same are provided.例文帳に追加

（Ａ）ポリイミド前駆体、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）可塑剤を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution and line edge roughness without spoiling basic physical properties as a resist, such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なうことなく、解像度およびラインエッジラフネスに優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device, excellent in the change with time of preservability and excellent further in density dependence.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、経時保存性が優れ、更に疎密依存性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type crosslinkable positive type resist composition having high resolution, excellent in etching resistance and capable of forming a resist pattern adaptable to a recent tendency to form a thinner film.例文帳に追加

高解像性で耐エッチング性に優れ、しかも最近の薄膜化に対応しうるレジストパターンの形成が可能な化学増幅型の架橋化ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curing composition capable of forming a hardened material that is excellent in light shielding effects and fine pattern formability, and has resistance properties under a mild condition, and a cured material thereof.例文帳に追加

遮光性に優れ、微細パターンの形成性が良好であり、耐性を備えた硬化物を穏和な条件で形成可能な光硬化性組成物及び硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in the depth of a focus (DOF) and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁