「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(71ページ目) - Weblio英語例文検索

After a projected pattern layer 2, wherein a plurality of conductive particles are partially fused within the layer, is formed by printing the ink of conductive composition including the conductive particles and binder resin in the form of a pattern on a transparent basic material 1, a metal layer 3 is formed as an electromagnetic wave shielding material 10, by electrolytic plating on the front surface of the projected pattern layer.例文帳に追加

透明基材１上に、導電性粒子とバインダ樹脂を含む導電性組成物のインキをパターン状に印刷して、層内部で複数の導電性粒子が部分的に融合している凸状パターン層２を形成した後、この凸状パターン層の表面に電解めっきで金属層３を形成して電磁波シールド材１０とする。 - 特許庁

Further, the conductor pattern layer is a conductive composition layer formed of conductive particles and a resin via a primer layer, it being preferred that the primer layer is thicker at a formation part of the conductor pattern layer than at a non-formation part and the conductive particles are dense nearby the top of a projection as the formation part of the conductor pattern layer and coarse nearby the primer layer.例文帳に追加

更に、導電体パターン層がプライマ層を介して形成した、導電性粒子と樹脂の導電性組成物層で、プライマ層の厚さが導電体パターン層の形成部が非形成部より厚く、且つ導電体パターン層の形成部である凸部の内で導電性粒子が頂上部近傍で密でプライマ層近傍で疎であるのが好ましい。 - 特許庁

To obtain an alkali negative development type photosensitive resin composition less liable to swell in alkali development and excellent in properties of a pattern, adhesiveness to a substrate, crosslinking efficiency, reactivity and compatibility after development, to produce a pattern by polyimide patterning by development with an inexpensive aqueous alkali solution and to provide electronic parts each having the pattern and excellent in reliability.例文帳に追加

本発明は、アルカリ現像時の膨潤が少なく現像後のパターン性、基盤接着性、架橋効率、反応性、相溶性に優れるアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、ポリイミドパターン加工を安価なアルカリ水溶液現像にて行えるパターンの製造法、前記パターンを有する信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

The pattern printing transparent sheet in which a non-visible light reflective transparent pattern is printed on the surface of a transparent substrate and a transparent layer is laminated on the printing face of the transparent pattern, is characterized in that the transparent layer consists of a (meth)acrylate resin composition and has a glass transition temperature (Tg) of ≥100°C.例文帳に追加

透明基板の表面に非可視光線反射性の透明パターンが印刷され、該透明パターンの印刷面に透明化層が積層されてなるパターン印刷透明シートであって、該透明化層が(メタ)アクリレート樹脂組成物からなり、且つガラス転移点（Ｔｇ）が１００℃以上であることを特徴とするパターン印刷透明シートである。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for forming a color layer, which forms a fine pattern without causing chipping in a pattern edge or undercut even when the luminous energy of exposure is low, without generating an undissolved substance remaining during development or scum on a pattern edge, and forms a color filter with high color purity and a black matrix having high light-shielding property.例文帳に追加

低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能であり、色純度の高いカラーフィルタおよび遮光性の高いブラックマトリックスを形成しうる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a polymerizable composition for color filter, which suppresses illuminance dependency upon forming a color pattern even when exposure machines having different illuminance values are used, achieves excellent curability of a formed color pattern, and forms a rectangular pattern with superior resolution, to provide a color filter having high color separation property, and to provide a solid-state imaging device having high resolution.例文帳に追加

着色パターンを形成するに際して、照度の異なる露光機を用いても照度依存性を抑制することができ、形成された着色パターンの硬化性に優れ、解像度の優れた矩形のパターンを得ることができるカラーフィルタ用の重合性組成物を得ることであり、色分離性が良好なカラーフィルタ、および高解像度の固体撮像素子を得る。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming material is obtained by bringing a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group into contact with the top of a hydrophobic polymer-containing layer and a hydrophilic pattern is formed by imagewise imparting energy to the pattern forming material and directly chemically bonding the hydrophilic polymer having a polymerizable group to the top of the hydrophobic polymer-containing layer.例文帳に追加

疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてなるパターン形成材料であって、該パターン形成材料に画像様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合させて親水性パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in the depth of a focus (DOF) and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an aqueous photopolymerizable resin composition improved in odor of a solvent, storage stability and coloring and excellent in curing properties, a pattern-forming property, etching resistance and release resistance of a cured product.例文帳に追加

溶剤臭気や保存安定性や着色が改善され、硬化物の硬化性、パターン形成性、エッチング耐性、耐剥離性に優れた水性光重合性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is developable with water and having high pattern forming accuracy, and to provide a transfer sheet using the same, a plasma display panel and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

水現像が可能で、パターンの形成精度が高い感光性組成物を提供し、またそれを用いた転写シートおよびプラズマディスプレイパネルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper film, which can form a copper film having a predetermined pattern without needing an etching step, and to provide a composition which can be used therefor.例文帳に追加

エッチング工程がなくても、所定のパターンを有する銅膜を形成することを可能とした銅膜の形成方法、およびそのために使用することができる組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a highly practical radiation sensitive resin composition which can simply and efficiently form a finer pattern, and can be applied to a process of manufacturing a semiconductor.例文帳に追加

より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高い感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

In the method for manufacturing a relief pattern, a coating comprising the photosensitive resin composition is patternwise irradiated with active light and heated at 50-180°C and the unirradiated regions are removed by development.例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、５０〜１８０℃で加熱した後、未照射部を現像除去するレリーフパターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a composition of excellent film property reducing coloring and the change of film strength with the lapse of time, and a highly reliable electronic device having a pattern with excellent shape and a characteristic.例文帳に追加

着色や膜強度の経時変化が少ない膜物性に優れる組成物、及び、良好な形状と特性のパターンを有する信頼性の高い電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition (positive photosensitive pressure-sensitive adhesive) excellent in adhesion property and light resistance free from yellowing and suitable to form a pattern with an excellent profile.例文帳に追加

本発明は、密着性や耐光無黄変性に優れ、優れた形状パターンを形成するのに好適な、感光性樹脂組成物（ポジ形感光性粘着剤）を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has high exposure sensitivity to g- and h-lines, is excellent in removability by development, and forms a colored pattern with no variations in a line width.例文帳に追加

ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、且つ、現像除去性に優れ、線幅にバラつきのない着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To realize a resist composition having dry etching resistance, that is less likely to cause collapse of a resist pattern, capable of preventing acid leaching, and is superior in basic properties as a resist.例文帳に追加

ドライエッチ耐性を有し且つレジストパターンが倒れにくく、酸の溶出防止が可能であると共に、レジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition capable of giving a resist pattern improved in etching resistance, and excellent also in other resist properties such as sensitivity, resolution and line edge roughness.例文帳に追加

耐エッチング性が改善されたレジストパターンを与えることができ、かつその他のレジスト特性、例えば感度、解像度、ラインエッジラフネスも優れた化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The decorative glass substrate 3 is obtained by coating the coloring composition on a low expansive crystallized glass substrate as a low expansive substrate, and after that, by forming a pattern 1 by firing.例文帳に追加

上記着色組成物を低膨張ガラス基板としての低膨張結晶化ガラス基板２の表面に絵付けし，焼成して，模様１を形成してなる装飾ガラス基板３である。 - 特許庁

To provide a photosensitive colored composition for a color filter which is practically advantageous since a high-definition pattern can be formed with high sensitivity and which can be formed as originally designed regardless of variation in exposure conditions.例文帳に追加

高精細なパターンを高感度でかつ、露光条件にばらつきが生じた場合でも設計通りに形成でき、実用的に有利なカラーフィルター用着色組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a means by which a resist composition can sensitively react to form a high precision resist pattern in a thick-film photoresist layer used in manufacture of connection terminal and so on.例文帳に追加

接続端子などの製造に用いられる厚膜ホトレジスト層において、レジスト組成物が高感度で反応し、高精度のレジストパターンを形成することができる手段を提供する。 - 特許庁

To prevent air from entering a gap between a flexible substrate and a photosensitive resin composition layer at the time of lamination, and to manufacture a wiring plate for COF in which a pattern fault is hardy occurs.例文帳に追加

ラミネート時にフレキシブル基板と感光性樹脂組成物層の間にエアーが混入することを抑制し、パターン異常の発生が少ないＣＯＦ用配線板を製造する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition by which a fine pattern can be formed, and the amount of a noble metal material used can be reduced to allow the formation of an electrode which can be reduced in cost.例文帳に追加

微細パターン形成が可能であり、かつ、貴金属材料の使用量が少なくでき、低コスト化が可能な電極を形成できる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

The resist composition is used as a chemically amplified resist, and shows a strong etching resistance, e.g. it is possible to resolve 0.1 μm pitch line and space pattern well.例文帳に追加

本発明のレジスト組成物は、化学的に増幅されたレジストとして用いられ、強いエッチング抵抗を示し、たとえば、０．１μｍピッチのライン・アンド・スペースパターンをうまく解像することができる。 - 特許庁

To provide a photoresist protective film applicable for a liquid immersion lithographic process, to provide a composition for a photoresist protective film for forming the protective film, and to provide a method for forming a photoresist pattern using the photoresist protective film.例文帳に追加

液浸リソグラフィプロセスに適用できるフォトレジスト保護膜、該保護膜を形成できるフォトレジスト保護膜用組成物、該フォトレジスト保護膜を用いたフォトレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which makes pattern forming easy and which has characteristics of high heat resistance, high reliability such as moisture-resistant reliability, high transparency and a low dielectric constant.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有する感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and less liable to shrink after baking.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない無機粒子含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrically conductive composition for forming a fine conductive circuit pattern that can secure conductivity and adhesiveness without sintering, and to provide a method for forming the conductive circuit.例文帳に追加

焼成することなく導電性と密着性を確保し得る微細な導電回路パターン形成のための導電組成物とその導電回路の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymeric compound which is excellent in solubility in an organic solvent and exhibits good lithography characteristics, a positive resist composition using the polymeric compound, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

This composition for forming the conductive pattern contains conductive fine particles comprising at least one kind of metal and a dispersing agent dispersing the conductive fine particles in a dispersion medium.例文帳に追加

導電性パターン形成用組成物は、少なくとも１種の金属からなる導電性微粒子と、導電性微粒子を分散させる分散剤とを分散媒中に含有している。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition excellent in etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X-rays having high sensitivity, high resolution, a square pattern profile, excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which does not cause deterioration in adhesion to a substrate with time and enables a high-definition pattern having a low resistance value to be formed on a glass substrate.例文帳に追加

経時的に基板への密着性が低下することがなく、かつ抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供する - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition featuring a high resolution, reduced line edge roughness, and a minimized variation of line width with changing temperature, and a pattern forming process using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、温度変化に対しての線幅変動低減、また高解像性の化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition capable of using a basic aqueous solution as a developing solution, having practical sensitivity and capable of forming a fine pattern free of swelling.例文帳に追加

現像液として塩基性水溶液を使用することができ、実用的な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成することができるネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including dry etching resistance, sensitivity and resolution.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつドライエッチング耐性、感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to radiation and excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Using the composition the solder resist pattern is directly drawn on the printed wiring board with the inkjet printer, which is primarily cured by irradiation of an active energy ray and then further heat cured.例文帳に追加

該組成物を用い、インクジェットプリンターでソルダーレジストパターンをプリント配線基板に直接描画し、活性エネルギー線を照射することによって一次硬化させ、その後さらに加熱硬化させる。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern.例文帳に追加

樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。 - 特許庁

A polymer comprising a repeating unit selected from the repeating units represented by formula (1) and/or formula (2) is used as a resin component of a resin composition for fine pattern formation.例文帳に追加

微細パターン形成用樹脂組成物の樹脂成分として、下記式（１）および／または下記式（２）で表される繰返し単位から選ばれる繰返し単位を含む重合体を使用する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition excellent in developability (particularly reduction of residue on development and development defects) and excellent also in sensitivity, resolving power and the shape of pattern profile.例文帳に追加

現像性が優れており（特に現像残さの発生、現像欠陥の発生の軽減）、更に感度、解像力、パターンプロファイルの形状も優れたポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal film, which can inexpensively form the metal film and a metal pattern on an arbitrary substrate; a composition of a primer; the metal film; and an application thereof.例文帳に追加

任意の基板に対して、安価に金属膜および金属パターンを形成することができる金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用を提供する。 - 特許庁