「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chemically amplified photoresist composition or the like from which a pattern having an excellent shape, line edge roughness, and a focus margin can be formed.例文帳に追加

優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which can form a transparent hardened resin pattern having high transmittance for visible light and high sensitivity to radiation.例文帳に追加

可視光に対する透過率が高く、かつ放射線に対する感度が高い透明硬化樹脂パターンを形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of achieving higher hardness while using an epoxy group-containing acrylic resin, a photosensitive resin laminate and a pattern forming method.例文帳に追加

エポキシ基含有アクリル樹脂を使用しながら高硬度化を実現可能な感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, which induces little outgas or odor in use and can give a pattern with a good profile independent from types of polymer precursors.例文帳に追加

使用時にアウトガスや臭気の発生が少なく、高分子前駆体の種類を問わず、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensures the improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability and density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pigment composition for a color filter which has low viscosity and excellent fluidity and storage stability and which can form a pattern with sharpness, high transparency, high definition and reproducibility.例文帳に追加

低粘度で流動性、貯蔵安定性に優れ、鮮明、高透明、高精細で再現性のあるパターンを形成し得るカラーフィルタ用顔料組成物を提供する。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE INK ABSORBING LAYER, CONDUCTIVE INK ABSORBING BASE MATERIAL AND SUBSTRATE FOR FORMING CIRCUIT AS WELL AS PRINTED MATTER, CONDUCTIVE PATTERN AND CIRCUIT SUBSTRATE例文帳に追加

導電性インク受容層形成用樹脂組成物、導電性インク受容基材及び回路形成用基板ならびに印刷物、導電性パターン及び回路基板 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition of a polyimide precursor having a positive type pattern forming ability capable of developing with alkali aqueous solution and also having improved storage stability.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するとともに保存安定性の優れたポリイミド前駆体の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition excellent in resolution, capable of increasing the focal depth range of an isolated resist pattern and capable of suppressing a proximity effect.例文帳に追加

解像性に優れ、しかも孤立レジストパターンの焦点深度幅の向上、及び近接効果の抑制を可能にした、化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored silica coating film-forming composition for forming a colored layer suitable for concealing a pattern shape formed on a semiconductor device or the like.例文帳に追加

半導体素子等に形成されているパターン形状を隠すために好適な着色層を形成するための着色シリカ系被膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resin for resists having a resolution permitting processing of sub-quarter-micrometer patterns and high adhesion between a substrate and a pattern and a radiation-sensitive composition.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、基板とパターンとの密着性が高いレジスト用樹脂の製造方法、および感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a positive type photosensitive resin composition in which the film thickness of the unexposed part is not reduced even in thick film processing and a high sensitivity pattern is obtained.例文帳に追加

厚膜加工においても未露光部の膜減りがなく高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition ensuring good resolution and a good section shape of a pattern and suitable for use as a positive type resist having a good margin for exposure.例文帳に追加

良好な解像度、パターン断面形状が得られるとともに、露光マージンが良好なポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition for a solar cell electrode, which preferably forms a large cross section printing pattern with a thin width diameter without damaging the printing characteristics.例文帳に追加

印刷性を損なうことなく細幅寸法で断面積の大きな印刷パターンを好適に形成し得る太陽電池電極用導電性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent tent reliability, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern, and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

テント信頼性等に優れる感光性樹脂組成物並びにそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法の提供。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which can form a cured film which excels in color purity, light resistance, heat resistance, and solvent resistance, and in which there is little color transfer, and pattern moldability is good.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative dye-containing curable composition having high sensitivity and capable of forming a rectangular pattern, a color filter that uses the same, and to provide a method of producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能な染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition from which a good pattern is obtained with high sensitivity and which suppresses time lapse deterioration and prevents the occurrence of image defects such as a chip even after the passage of time.例文帳に追加

高感度に良好なパターンが得られ、経時劣化を抑えて経時後でも欠け等の画像欠陥の発生が防止された感光性組成物を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, RESIN FOR USE IN THE SAME, AND COMPOUND FOR SYNTHESIZING THE RESIN例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該樹脂を合成するための化合物 - 特許庁

To provide a developing solution for a photosetting resin composition, which suppresses the occurrence of residue on development and gives a satisfactory pattern shape, in the production of a color filter by a pigment dispersion method.例文帳に追加

顔料分散法でカラーフィルターを作製する際に現像残渣の発生を抑え、パターン形状も良好な光硬化性樹脂組成物用現像液の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive, has high adhesion strength to a glass substrate in the form of a thin film, and can form a high-definition pattern with a low resistance value.例文帳に追加

安価で、かつガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that is excellent in fine pattern forming properties, has a high elasticity in a cured product, has excellent heat and moisture resistance, and also has excellent hollow-structure maintainability.例文帳に追加

微細なパターン形成性に優れ、硬化物が高い弾性率を有し、耐湿熱性に優れ、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing a resist resin without deteriorating resist performance, a resin manufactured by the manufacturing method, and furthermore a resist composition containing the resin which is improved in the resolution and the exposure latitude, and a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

レジスト性能を悪化させることなく、レジスト用樹脂を効率よく製造する方法及び該製造方法によって製造された樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a colored radiation-sensitive composition capable of forming a colored pattern that shows excellent developability, is excellent in heat resistance and solvent resistance, and reduces color migration and color unevenness.例文帳に追加

優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a near-IR absorbent which absorbs near-IR rays with wavelengths of 800 to 1,000 nm, and can form a fine pattern.例文帳に追加

波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線を吸収し、また、微細パターンを形成することが可能な近赤外吸収材用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To provide a photosensitive film having sufficiently high release property of a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition from a support film and allowing formation of a resist pattern free of defects.例文帳に追加

感光樹脂組成物からなる感光層の支持体フィルムからの剥離性が十分に高く、欠陥のないレジストパターンを形成できる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To obtain a fiber treatment agent composition for preventing fading of colored pattern clothing even in drying in the sun after washing and to provide a method for treating a fiber.例文帳に追加

洗濯後に天日干し乾燥しても色柄物衣料の退色を防止することができる繊維処理剤組成物及び繊維の処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photocurable polymer composition capable of forming a film that is a transparent film having high liquid-repellent property and that has excellent development property or pattern formability.例文帳に追加

撥液性の高い透明膜であって、優れた現像性またはパターン形成性を有する膜を形成することができる、光硬化性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a display element from which a hardened resin pattern with high resolution and high transparency can be formed and sensitivity to radiation can be improved.例文帳に追加

高解像で透明性の高い硬化樹脂パターンを形成し得て、また放射線に対する感度が高い表示素子用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition that improves edge roughness of a pattern and suppresses occurrence of development defects and a change in line width with the lapse of time.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥が抑制され、且つ引きおき経時による線幅変動が改善されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in adhesion and resolution; a photosensitive element using the same; a method for producing a resist pattern; and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

密着性及び解像度に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive, can form a high-definition pattern, and has high adhesive strength as a thin film to ceramic, silicon and glass substrates.例文帳に追加

安価で、高精細のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including sensitivity and resolution.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon black dispersion composition for use in black matrix, improved in both the uniformity and resolution of black matrix pattern compared to the cases with conventional pigment dispersion compositions.例文帳に追加

従来の顔料分散液組成物よりブラックマトリックスパターンの均一性及び解像性が向上されたブラックマトリックス用カーボンブラック分散液組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURED USING THE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物、パターン形成方法、その方法を用いて製造したカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および液晶表示装置 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having high sensitiv ity and high resolving power, giving a rectangular resist pattern, having good wettability with a developing solution and nearly free from development defects.例文帳に追加

高感度、高解像力で、矩形形状のレジストパターンを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition and resist pattern forming method which can prevent contamination in a device in a lithography process by an electron beam or EUV(extreme-ultraviolet radiation).例文帳に追加

電子線またはＥＵＶ（極紫外光）によるリソグラフィプロセスにおいて、装置内の汚染を防ぐことができるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photoresist composition is superior in heat resistance and adhesiveness of a photoresist pattern, so that an aperture ratio of a thin film transistor substrate increases to thereby improve display quality.例文帳に追加

該フォトレジスト組成物は、フォトレジストパターンの耐熱性および接着性に優れるので、薄膜トランジスタ基板の開口率が増大し、表示品質を改善することができる。 - 特許庁

To provide a lactone compound useful for a resist composition which can suppress roughness of the surface generated in a resist pattern after etching or development, preferably after the both.例文帳に追加

エッチング後と現像後の一方、好ましくは両方において、レジストパターンに生じる表面荒れの発生を抑制できるレジスト組成物に有用なラクトン化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a pattern by the light having various wavelengths irrespective of a light absorbing function of an optical acid generator.例文帳に追加

光酸発生剤が有する光吸収能に関わらず、様々な波長を有する光によってパターン形成が可能なポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having heat resistance, chemical resistance and adhesiveness to a metal as a polyimide resin film after curing, and a cured relief pattern forming method.例文帳に追加

硬化後のポリイミド樹脂膜として、耐熱性、耐薬品性、及びメタル接着性を有する感光性樹脂組成物、及び硬化レリーフパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a colored curable composition in a color from magenta to violet useful for a color filter and having excellent color purity, a high absorption coefficient and excellent pattern forming property.例文帳に追加

カラーフィルタ用に有用な、色純度に優れ、高い吸光係数を有し、パターン形成性に優れるマゼンタ乃至バイオレット色の着色硬化性組成物等を提供する。 - 特許庁