「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive composition from which a good pattern is obtained with high sensitivity and which suppresses time lapse deterioration and prevents the occurrence of image defects such as a chip even after the passage of time.例文帳に追加

高感度に良好なパターンが得られ、経時劣化を抑えて経時後でも欠け等の画像欠陥の発生が防止された感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition that improves edge roughness of a pattern and suppresses occurrence of development defects and a change in line width with the lapse of time.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥が抑制され、且つ引きおき経時による線幅変動が改善されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in adhesion and resolution; a photosensitive element using the same; a method for producing a resist pattern; and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

密着性及び解像度に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive, can form a high-definition pattern, and has high adhesive strength as a thin film to ceramic, silicon and glass substrates.例文帳に追加

安価で、高精細のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, RESIN FOR USE IN THE SAME, AND COMPOUND FOR SYNTHESIZING THE RESIN例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該樹脂を合成するための化合物 - 特許庁

To provide a developing solution for a photosetting resin composition, which suppresses the occurrence of residue on development and gives a satisfactory pattern shape, in the production of a color filter by a pigment dispersion method.例文帳に追加

顔料分散法でカラーフィルターを作製する際に現像残渣の発生を抑え、パターン形状も良好な光硬化性樹脂組成物用現像液の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive, has high adhesion strength to a glass substrate in the form of a thin film, and can form a high-definition pattern with a low resistance value.例文帳に追加

安価で、かつガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that is excellent in fine pattern forming properties, has a high elasticity in a cured product, has excellent heat and moisture resistance, and also has excellent hollow-structure maintainability.例文帳に追加

微細なパターン形成性に優れ、硬化物が高い弾性率を有し、耐湿熱性に優れ、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing a resist resin without deteriorating resist performance, a resin manufactured by the manufacturing method, and furthermore a resist composition containing the resin which is improved in the resolution and the exposure latitude, and a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

レジスト性能を悪化させることなく、レジスト用樹脂を効率よく製造する方法及び該製造方法によって製造された樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide: a photosensitive composition can improve insulation reliability and plating resistance; a photosensitive film; a photosensitive laminate; a permanent pattern forming method; and a printed circuit board.例文帳に追加

絶縁信頼性及びメッキ耐性を向上することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a colored radiation-sensitive composition capable of forming a coloring pattern which shows excellent film thickness uniformity, has excellent heat resistance, and reduces color migration and color unevenness.例文帳に追加

優れた膜厚均一性を示し、耐熱性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable composition for photo-nanoimprint lithography, which excels in curability of the surface and the inside and can form a resist pattern excellent in exfoliation from a mold.例文帳に追加

表面及び内部の硬化性に優れ、モールドからの剥離性に優れたレジストパターンを形成可能な光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation curable composition capable of producing a concave and convex-shaped sheet having a surface on which a regular fine concave and convex pattern is formed, with high quality, without a defect, at a high line speed with high productivity.例文帳に追加

表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in pressure cooker test(PCT) resistance, developability, close adhesiveness, heat resistance, TCT performance, flexibility, and mechanial characteristics, and to provide a method for manufacturing the resist pattern.例文帳に追加

耐ＰＣＴ性、現像性、密着性、耐熱性、ＴＣＴ性、可とう性及び機械特性が優れる感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) is used and has small PEB time dependency and large exposure latitude, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に露光光源がＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）である場合に好適なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive chemically amplified photoresist composition, which has high sensitivity and high resolution, whose adhesiveness with a substrate is favorable, and whose edge roughness of a pattern is improved.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam or extreme ultraviolet superior in lithography characteristics such as sensitivity and resolution by suppressing defects, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディフェクトを抑制でき、かつ感度、解像性等のリソグラフィー特性にも優れた電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in DOF and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition which is capable of maintaining etching performance and forming a satisfactory rectangular pattern, has a sufficient curing property and can provide excellent solvent resistance and adhesiveness with an adjacent layer.例文帳に追加

エッチング性能を維持し、良好な矩形パターンの形成が可能であると共に、硬化性が良好で、優れた耐溶剤性及び基体や隣接層との密着性が得られる。 - 特許庁

To provide a compound capable of forming patterns having excellent pattern resolution and line edge roughness, and to provide a resist composition using the same.例文帳に追加

優れたパターンの解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化合物及びそれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a dense metallic copper film having almost no voids therein by treating a printing pattern of a liquid composition containing particles formed of a copper oxide as a main component, with formic acid.例文帳に追加

銅酸化物からなる粒子を主成分とする液状組成物の印刷パターンをギ酸により処理し、空隙のほとんどない緻密な金属銅膜を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition forming a fine pattern which can accurately form an image required for various types of electronic parts by a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

各種電子部品などに所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensures the improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability and density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pigment composition for a color filter which has low viscosity and excellent fluidity and storage stability and which can form a pattern with sharpness, high transparency, high definition and reproducibility.例文帳に追加

低粘度で流動性、貯蔵安定性に優れ、鮮明、高透明、高精細で再現性のあるパターンを形成し得るカラーフィルタ用顔料組成物を提供する。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE INK ABSORBING LAYER, CONDUCTIVE INK ABSORBING BASE MATERIAL AND SUBSTRATE FOR FORMING CIRCUIT AS WELL AS PRINTED MATTER, CONDUCTIVE PATTERN AND CIRCUIT SUBSTRATE例文帳に追加

導電性インク受容層形成用樹脂組成物、導電性インク受容基材及び回路形成用基板ならびに印刷物、導電性パターン及び回路基板 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition excellent in resolution, capable of increasing the focal depth range of an isolated resist pattern and capable of suppressing a proximity effect.例文帳に追加

解像性に優れ、しかも孤立レジストパターンの焦点深度幅の向上、及び近接効果の抑制を可能にした、化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To provide a photosensitive film having sufficiently high release property of a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition from a support film and allowing formation of a resist pattern free of defects.例文帳に追加

感光樹脂組成物からなる感光層の支持体フィルムからの剥離性が十分に高く、欠陥のないレジストパターンを形成できる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To provide a colored silica coating film-forming composition for forming a colored layer suitable for concealing a pattern shape formed on a semiconductor device or the like.例文帳に追加

半導体素子等に形成されているパターン形状を隠すために好適な着色層を形成するための着色シリカ系被膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resin for resists having a resolution permitting processing of sub-quarter-micrometer patterns and high adhesion between a substrate and a pattern and a radiation-sensitive composition.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、基板とパターンとの密着性が高いレジスト用樹脂の製造方法、および感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a positive type photosensitive resin composition in which the film thickness of the unexposed part is not reduced even in thick film processing and a high sensitivity pattern is obtained.例文帳に追加

厚膜加工においても未露光部の膜減りがなく高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition of a polyimide precursor having a positive type pattern forming ability capable of developing with alkali aqueous solution and also having improved storage stability.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するとともに保存安定性の優れたポリイミド前駆体の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition and resist pattern forming method which can prevent contamination in a device in a lithography process by an electron beam or EUV(extreme-ultraviolet radiation).例文帳に追加

電子線またはＥＵＶ（極紫外光）によるリソグラフィプロセスにおいて、装置内の汚染を防ぐことができるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photoresist composition is superior in heat resistance and adhesiveness of a photoresist pattern, so that an aperture ratio of a thin film transistor substrate increases to thereby improve display quality.例文帳に追加

該フォトレジスト組成物は、フォトレジストパターンの耐熱性および接着性に優れるので、薄膜トランジスタ基板の開口率が増大し、表示品質を改善することができる。 - 特許庁

To provide a lactone compound useful for a resist composition which can suppress roughness of the surface generated in a resist pattern after etching or development, preferably after the both.例文帳に追加

エッチング後と現像後の一方、好ましくは両方において、レジストパターンに生じる表面荒れの発生を抑制できるレジスト組成物に有用なラクトン化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is concurrently equipped with high planarization performance and high sensitivity and has high visible light transmittance, in the formation of a cured resin pattern.例文帳に追加

硬化樹脂パターンの形成において、高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、高い可視光透過性を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high performance photosensitive resin composition having excellent lithographic characteristics and providing a relief pattern having very high heat and chemical resistances after heat curing.例文帳に追加

優れたリソグラフィー特性を有し、かつ加熱硬化後のレリーフパターンが、極めて高い耐熱性、耐薬品性を有する、高性能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power, ensuring low edge roughness of a line pattern and nearly free of development defects in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition or the like from which a pattern having excellent resolution, line edge roughness and a focus margin can be formed.例文帳に追加

優れた解像度、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a colored curable composition in a color from magenta to violet useful for a color filter and having excellent color purity, a high absorption coefficient and excellent pattern forming property.例文帳に追加

カラーフィルタ用に有用な、色純度に優れ、高い吸光係数を有し、パターン形成性に優れるマゼンタ乃至バイオレット色の着色硬化性組成物等を提供する。 - 特許庁

The film element using the above pattern forming material includes a photosensitive resin composition layer (A) formed on a support film and a light shielding layer (B) formed on (A).例文帳に追加

前記のパターン形成用材料において、支持フィルム上に、（Ａ）感光性樹脂組成物層が形成され、（Ａ）の上に、（Ｂ）の遮光層が形成されたフィルム状エレメント。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a pattern by the light having various wavelengths irrespective of a light absorbing function of an optical acid generator.例文帳に追加

光酸発生剤が有する光吸収能に関わらず、様々な波長を有する光によってパターン形成が可能なポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having heat resistance, chemical resistance and adhesiveness to a metal as a polyimide resin film after curing, and a cured relief pattern forming method.例文帳に追加

硬化後のポリイミド樹脂膜として、耐熱性、耐薬品性、及びメタル接着性を有する感光性樹脂組成物、及び硬化レリーフパターンの形成方法の提供。 - 特許庁